2014电子科技大学考研真题_832微电子器件

2014电子科技大学考研真题_832微电子器件

一、填空题（共48分，每空1.5分）

1、PN结二极管用途广泛，在作为变容二极管使用时，主要利用其（）向偏置的

（）电容；在作为温度传感器使用时，主要利用其正向导通压降会随温度的升高而（）。

2、一个P+N型的二极管，电子和空穴的寿命分别为τn和τp，在外加正向直流电压V1时电流

为I1，当外加电压反向为－V2时，器件会经历一段反向恢复过程，这主要是由正向导通时存储在（）型中性区中的非平衡少子造成的，该非平衡少子的总量为（）。

3、防止PN结发生热击穿，最有效的措施是降低器件的（）。同时，禁带宽带越

（）的半导体材料，其热稳定性越好。（第二个空填“大”或“小”）4、双极型晶体管的基区宽度调变效应越严重，其厄尔利电压越（），共发射极增量输出电阻越（）。（填“大”或“小”）

5、已知双极型晶体管的基区度越时间和基区少子寿命分别为τb和τB，则1/τB表示的物理

意义为（），因此τb/τB可以表示（

）。

6、MOSFET的亚阈区摆幅S反应了在亚阈区中（）的控制能力。

栅氧化层越厚，则S越（），该控制能力越（）。（第二个空填“大”或“小”，

第三个空填“强”或“弱”）

7、当金属和P型半导体形成金-半接触时，如果金属的功函数大于半导体的功函数，半导体表

面将形成（），该结构（）单向导电性。（从以下选项中选择） A 电子阻挡层 B 电子反阻挡层C空穴阻挡层 D 空穴反阻挡层 E 具有 F 不具有

8、MOSFET的跨导是（）特性曲线的斜率，而漏源电导是

（）特性曲

线的斜率。在模拟电路中，MOSFET一般工作在（）区，此时理想情况下漏源电导应为零，但实际上由于（）和（），漏源电导通常为正的有限值。

9、短沟道MOSFET中采用偏置栅结构或漏端轻掺杂结构，是为了降低漏端附近的电场强度，从而抑制（）效应，防止器件电学特性退化。

10、如果以SiGe来制作BJT的发射区，Si来制作BJT的基区，则与全部采用Si 材料的双极型晶体管相比，其共基极电流放大系数α将（）。（填“增大”、“减小”或“不变”）

11、根据恒场等比例缩小法则，当MOSFET的沟道长度缩小K倍时，其阈值电压变为之前的（），总电容变为之前的（），最高工作频率变为之前的（）。12、研究发现硅-二氧化硅系统中，存在四种形式的电荷或能量状态，包括Na+、K+等可动离子、（）、（）以及二氧化硅层中的电离陷阱电荷，通常它们都带正电，因此（）型MOSFET的衬底表面更容易反型。

13、PMOS的衬底相对于源端应该接（）电位。当|VBS|增加时，PMOS 的阈值电压绝对值将（），该效应叫做（）。（第二个空填“增大”、“减小”或“不变”）

二、简答与作图题(共57分)

1、如图所示，一块掺杂浓度为ND的无限长均匀N型半导体材料，在x的负半轴有一束光稳定地照射在半导体表面，产生体密度为G0的电子-空穴对。（9分）

（1）写出该半导体材料在x正半轴的少子扩散方程。（只考虑少子在x方向的运动）（2）如果要通过上述扩散方程求解x正半轴的少子分布，应该采用什么样的边界条件？（3）如果该半导体材料在x正半轴的长度缩短为W（W远小于少子扩散长度），又应该采用什么样的边界条件求解？

2、下图是一个通过扩散工艺制作的PN结，由于横向扩散，在PN结终止的地方会形成弯曲的结面。发现该PN结的雪崩击穿电压远小于平行平面结击穿电压的理论计算值，造成该现象的原因是什么？如果要提高该结构的击穿电压，对扩散工艺的时间应该做怎样的调整？为什么？（9分）。

3、请画出PNP缓变基区晶体管工作在放大区的能带图和少子分布图，并标注出必要的物理量（10分）。

4、某PN+结在一定的外加正向电压下发生了大注入现象。（10分）（1）请问大注入发生在哪个区？

（2）大注入将在中性区引入自建电场，指出该自建电场的方向，并说明自建电场的形成过程。（3）发生大注入的区域，其中性区与耗尽区交界处的少子浓度是多少？

文章来源：四川大学考研网https://www.wendangku.net/doc/0617976267.html,,转载请注明出处，更多资料请关注文彦考研论坛