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X射线反射_XRR_对薄膜样品厚度的研究_于吉顺(1)

X射线反射_XRR_对薄膜样品厚度的研究_于吉顺(1)
X射线反射_XRR_对薄膜样品厚度的研究_于吉顺(1)

实验三 干涉显微镜测量薄膜厚度

实验三干涉显微镜测量薄膜厚度 一、实验目的 1. 掌握干涉显微镜的工作原理及使用方法; 2. 用干涉显微镜测量薄膜厚度。 二、实验说明 2.1 实验原理 把显微镜和光波干涉仪结合起来设计而成的显微镜为干涉显微镜。干涉显微镜的类型很多,常用的干涉显微镜是以迈克耳逊干涉仪为原型,其原理却都是以劈尖干涉为基础的,下图1为劈尖干涉的示意图: 若在两块平面玻璃间垫一细丝,即形成一个空气劈尖(为便于说明问题图中夸大了细丝的直径)。当一束单色光射入时,则在空气劈尖(n=1)上下两表面所引起的反射光线将相互干涉。若这两束光的光程差恰为半波长的奇数倍时,则发生相消干涉而呈现暗色条纹;若光程差为半波长的偶数倍时,发生加强干涉而得到明亮条纹。一定的明暗条纹对应一定的厚度,所以这些干涉条纹也叫等厚条纹。条纹间的距离l ,随劈尖的夹角而变化,越小,l 越大。 在迈克耳逊干涉仪中,只要某一光程差发生变化,就要引起干涉场中条纹移动,光程差每改变半个波长(),则干涉条纹移动一个条纹间距。故待测样品表面若存在局部不平, 结果会导致干涉条纹发生弯曲, 条纹弯曲的程度是样品表面微观凹凸不平程度的反映, 只要测出条纹的弯曲量就可以求出样品表面的凹凸量。根据这一原理, 可借助该仪器来测量镀膜膜层的厚度. 设M 1、M 2是两个不严格垂直的理想平面,则得到等厚干涉直线条纹。若表面M 2上有沟槽,干涉条纹将发生弯曲或断折,如图2所示。沟槽的深度h 由式(4—1)决定。 (4—1) θθ2λe H h ?= 2λ 图 1 劈尖干涉的示意图图2表面沟槽及干涉条纹的形状图3薄膜与其干涉条纹的形状

式中,H为干涉条纹曲折量,e 为条纹的间距。若用白光照明,e 是指两根接近黑色的干涉条纹中心间的距离。这时λ取540nm (绿光λ=0.53μm=5300?)。若被测件的部分表面镀有厚度为h 的薄膜,则只要测量出干涉条纹间距e 和因镀膜而引起的干涉条纹位移量H,就可算出该薄膜的厚度。如图3所示。 2.26JA 型干涉显微镜的光学系统及构造 2.2.1 6JA 型干涉显微镜的光学系统 本实验用的是6JA 型干涉显微镜, 其光学系统如图1所示, 属于双光束干涉系统。光源1发出的光经聚光镜2投射到孔径光阑4平面上, 视场光阑5不在照明物镜6的前焦面上, 光经分光板7, 被分成两部分: 一部分反射, 另一部分透射. 被反射的光经物镜8射向标准反射镜M1, 再由M1 反射, 射向目镜14; 而从分光板上透射的光线通过补偿板9、物镜10射向工件表面M2, 再由M2反射, 射向目镜14. 在目镜分划板13上两束光产生干涉. 从目镜中可以观察到干涉条纹. 若样品表面平滑,则干涉条纹是平直的. 图五 6JA 型干涉显微镜构造 11a 5b 5a 105 131113 2 2a 2b 2c 14897a 44a 3 15 8 7 16 1b 1c 图4 6JA 型干涉显微镜光学系统 1-光源 2-聚光镜 3,11,15-反光镜 4-孔径光阑 5-视场光阑 6-照明物镜 7-分光板 8,10-物镜 9-补偿板 12-转向棱镜 13-分划板 14-目镜 16-摄影物镜

椭偏仪测量薄膜厚度与折射率

椭偏仪测量薄膜厚度和折射率 近代科学技术中对各种薄膜的研究和应用日益广泛。因此,能够更加迅速和精确地测量薄膜的光学参数例如厚度和折射率已变得非常迫切。 在实际工作中可以利用各种传统的方法来测定薄膜的光学参数,如布儒斯特角法测介质膜的折射率,干涉法测膜。另外,还有称重法、X 射线法、电容法、椭偏法等等。其中,椭圆偏振测量(椭偏术)是研究两媒质界面或薄膜中发生的现象及其特性的一种光学方法,其原理是利用偏振光束在界面或薄膜上的反射或透射时出现的偏振变换。因为椭偏法具有测量精度高,灵敏度高,非破坏性等优点,已广泛用于各种薄膜的光学参数测量,如半导体、光学掩膜、圆晶、金属、介电薄膜、玻璃(或镀膜)、激光反射镜、大面积光学膜、有机薄膜等,也可用于介电、非晶半导体、聚合物薄膜、用于薄膜生长过程的实时监测等测量。 实验目的 了解椭圆偏振测量的基本原理,并掌握一些偏振光学实验技术。 实验原理 光是一种电磁波,是横波。电场强度E 、磁场强度H 和光的传播方向构成一个右旋的正交三矢族。光矢量存在着各种方位值。与光的强度、频率、位相等参量一样,偏振态也是光的基本量之一。 在一光学材料上镀各向同性的单层介质膜后,光线的反射和折射在一般情况下会同时存在的。通常,设介质层为n 1、n 2、n 3,φ1为入射角,那么在1、2介质交界面和2、3介质交界面会产生反射光和折射光的多光束干涉。 这里我们用2δ表示相邻两分波的相位差,其中222cos /dn δπφλ=,用r 1p 、 r 1s 表示光线的p 分量、s 分量在界面1、2间的反射系数, 用r 2p 、r 2s 表示光线的p 分量、s 分量在界面2、3间的反射系数。 由多光束干涉的复振幅计算可知: 2122121i p p rp ip i p p r r e E E r r e ?δ --+= + (1) 2122121i s s rs is i s s r r e E E r r e ? δ --+=+ (2) 其中E ip 和E is 分别代表入射光波电矢量的p 分量和s 分量,E rp 和E rs 分别代表反射光波电矢量的p 分量和s 分量。现将上述E ip 、E is 、E rp 、E rs 四个量写成一个量G ,即:

椭偏光法测量薄膜的厚度和折射率

椭偏法测薄膜厚度和折射率 摘要 本实验通过椭圆偏振光法测量了氟化镁(MgF2)、氧化锆(ZrO2)及二氧化钛(TiO2)等介质薄膜的厚度和折射率,以及Cu和Al金属薄膜的厚度和消光系数。 关键词 椭圆偏振光法介质薄膜金属薄膜椭偏参数复折射率消光系数 一、引言 椭圆偏振测量(椭偏术)是研究两媒质界面或薄膜中发生的现象及其特性的一种光学方法,其原理是利用偏振光束在界面或薄膜上的反射或透射时出现的偏振变换。椭圆偏振测量的应用范围很广,如半导体、光学掩膜、圆晶、金属、介电薄膜、玻璃(或镀膜)、激光反射镜、大面积光学膜、有机薄膜等,也可用于介电、非晶半导体、聚合物薄膜、用于薄膜生长过程的实时监测等测量。结合计算机后,具有可手动改变入射角度、实时测量、快速数据获取等优点。 二、实验原理 在一光学材料上镀各向同性的单层介质膜后,光线的反射和折射在一般情况下会同时存在的。通常,设介质层为n1、n2、n3,φ1为入射角,那么在1、2介质交界面和2、3介质交界面会产生反射光和折射光的多光束干涉,如图(1-1) 图(1-1)

这里我们用2δ表示相邻两分波的相位差,其中δ=2πdn2cosφ2/λ,用r1p、r1s表示光线的p分量、s分量在界面1、2间的反射系数,用r2p 、r2s表示光线的p分、s分量在界面2、3间的反射系数。由多光束干涉的复振幅计算可知: 其中Eip和Eis 分别代表入射光波电矢量的p分量和s分量,Erp和Ers分别代表反射光波电矢量的p分量和s分量。现将上述Eip、Eis 、Erp、Ers四个量写成一个量G,即: 我们定义G为反射系数比,它应为一个复数,可用tgψ和Δ表示它的模和幅角。上述公式的过程量转换可由菲涅耳公式和折射公式给出: G是变量n1、n2、n3、d、λ、φ1的函数(φ2 、φ3可用φ1表示) ,即ψ=tg-1f,Δ=arg| f |,称ψ和Δ为椭偏参数,上述复数方程表示两个等式方程: [tgψe iΔ]的实数部分= 的实数部分 [tgψe iΔ]的虚数部分= 的虚数部分 若能从实验测出ψ和Δ的话,原则上可以解出n2和d (n1、n3、λ、φ1已知),根据公式(4)~(9),推导出ψ和Δ与r1p、r1s、r2p、r2s、和δ的关系:

薄膜厚度和消光系数的透射光谱测量方法

薄膜厚度和消光系数的透射光谱测量方法 项目完成单位:国家建筑材料测试中心 项目完成人:刘元新 鲍亚楠 孙宏娟 王廷籍 摘 要 本文提出薄膜厚度和消光系数的标准曲线测量法,论述了方法的测量原理和测量程序。该法的膜厚的测量范围为~80nm 到2000nm ;膜厚的测量误差大约为13nm 。 关键词 薄膜、厚度、消光 自洁净玻璃的自洁净性能、低幅射玻璃的低幅射性能都与其膜层的厚度、折射率和消光系数有着密切的关系[1]。近代微电子学装置,如成像传感器、太阳能电池、薄膜器件等都需要这些参数[2] 。这些参数的数据是薄膜材料、薄膜器件设计的必不可少的基础性数据。 通常都是单独测量这些参数,薄膜厚度用原子力显微镜、石英震荡器、台阶仪、椭偏仪、干涉法来测量。薄膜折射率的测量就比较麻烦,因为它是波长的函数,它可以用基于干涉、反射原理的方法测量。从薄膜的吸收谱就可测量其消光系数。显然,取得这些数据是很麻烦、很费时、成本也很高,特别是对于纳米级薄膜。 2000年,美国Princeton 等大学提出[2] ,从物理角度建立透射光谱模型,调整模型中的未知的参数,即薄膜厚度、折射率、消光系数,使透射光谱的理论曲线同实验曲线重合,这就同时取得薄膜的厚度、折射率、消光系数等数据。他们用这种方法同时测量了“玻璃-薄膜” 系统的薄膜的厚度、折射率、消光系数等数据。显然,这是取得这些数据的简便、快速、低成本的方法,是这领域的一个发展趋势。 镀膜玻璃的透射光谱既包含玻璃参数的信息,也包含薄膜参数的信息,如果能从中解析出薄膜参数的信息,也就得到了薄膜参数的测量值,这就是透过光谱法测量薄膜参数的基本思路。本文基于这个基本思路提出测量薄膜参数的另一方法,姑且称为标准曲线法,方法的原理是基于这样的实验现象,即薄膜的吸收越强,镀膜玻璃的透过率越低;在薄膜吸收的光谱区内,薄膜越厚,镀膜玻璃的透过率也越低;这就是说,镀膜玻璃在指定波长处的透过率T 是薄膜厚度t 和薄膜消光系数 的函数, ),,(λκt T T = 但镀膜玻璃透过率和薄膜参数有什么函数关系?这就是本文要研究的问题。知道这函数关系之后,如何利用这函数关系测量薄膜参数?这也是本文要研究的问题。

薄膜厚度的测量

薄膜厚度的测量 ——台阶仪安装操作说明 一、台阶仪的安装 1、硬件的安装 1)打开电脑机箱盖,将台阶仪自带的电视卡插入PCI扩展槽,插好后将电脑机箱盖合上; 2)接上台阶仪电源线,将台阶仪上的USB线和视频线与电脑箱连接; 2、软件的安装 1)打开电脑机箱和显示器,将台阶仪自带的光盘插入电脑光驱; 2)将光盘上所有的内容都复制到电脑C盘根目录下; 3)安装光盘中的两个驱动程序,安装完成后重启计算机; 4)计算机重启后将拷入C盘中的注册表文件导入,导入成功后将台阶仪操作软件图标发送到桌面; 二、台阶仪的操作 1、台阶仪的标定 1)打开电脑机箱和显示器,打开台阶仪电源,等待10秒后将电脑桌面上的操作软件打开,几秒后自动弹出两个对话框,点击确认后进入操作界面; 2)拿出标定用的标准样品,拿出样品后立即合上盒盖,防止灰尘进入;

3)打开台阶仪保护盖,将标准样品贴紧样品台滑到台中央; 4)调节样品台位置,使标样在探针正下方; 5)点击操作软件上的“Setup”按键,设置扫描参数,将Speed设置为0.07mm/sec,Length设置为0.6mm,Range设置为10microns,Stylus Force设置为1mg,Filter Level设置为4,点击OK进行确认; 6)点击Engage,观察标准样品与探针所处的位置,如果样品台阶中央不在探针下方,点击Z+将探针升高,通过调节样品台使标准样品处于探针的正下方,合上保护盖,点击Engage,继续观察标准样品与探针的位置,如此反复操作,直到标准样品的台阶在探针的正下方;7)点击Scan,并点击确认扫描对话框,台阶仪自动进行扫描,扫描结束后,探针自动复位,测出的数据会自动弹出来; 8)用鼠标引动R,M光标,(R为参照光标,M为测量光标)到台阶的两侧,点击Level Date将台阶的曲线调平; 9)在曲线图窗口中点击鼠标右键,选择Size Cursors,将R,M光标线进行展开到适合宽度,然后点击鼠标右键将M光标移动到台阶上,窗口的右上角就会显示出台阶的平均高度; 10)重复7-9的步骤,反复测量几次,带测量数据稳定后,在曲线图窗口点击右键,选择Calibrate Height,在弹出的对话框中填写1063?,点击确定; 11)重复7-9的步骤,将测量出的台阶数据和标准样品给出的数据对比,一般来说只有几个?的差别; 12)台阶仪标定完成;

薄膜厚度和消光系数的透射光谱测量方法

262 薄膜厚度和消光系数的透射光谱测量方法 项目完成单位:国家建筑材料测试中心 项目完成人:刘元新 鲍亚楠 孙宏娟 王廷籍 摘 要 本文提出薄膜厚度和消光系数的标准曲线测量法,论述了方法的测量原理和测量程序。该法的膜厚的测量范围为~80nm 到2000nm ;膜厚的测量误差大约为±13nm 。 关键词 薄膜、厚度、消光 自洁净玻璃的自洁净性能、低幅射玻璃的低幅射性能都与其膜层的厚度、折射率和消光系数有着密切的关系[1]。近代微电子学装置,如成像传感器、太阳能电池、薄膜器件等都需要这些参数[2] 。这些参数的数据是薄膜材料、薄膜器件设计的必不可少的基础性数据。 通常都是单独测量这些参数,薄膜厚度用原子力显微镜、石英震荡器、台阶仪、椭偏仪、干涉法来测量。薄膜折射率的测量就比较麻烦,因为它是波长的函数,它可以用基于干涉、反射原理的方法测量。从薄膜的吸收谱就可测量其消光系数。显然,取得这些数据是很麻烦、很费时、成本也很高,特别是对于纳米级薄膜。 2000年,美国Princeton 等大学提出[2] ,从物理角度建立透射光谱模型,调整模型中的未知的参数,即薄膜厚度、折射率、消光系数,使透射光谱的理论曲线同实验曲线重合,这就同时取得薄膜的厚度、折射率、消光系数等数据。他们用这种方法同时测量了“玻璃-薄膜” 系统的薄膜的厚度、折射率、消光系数等数据。显然,这是取得这些数据的简便、快速、低成本的方法,是这领域的一个发展趋势。 镀膜玻璃的透射光谱既包含玻璃参数的信息,也包含薄膜参数的信息,如果能从中解析出薄膜参数的信息,也就得到了薄膜参数的测量值,这就是透过光谱法测量薄膜参数的基本思路。本文基于这个基本思路提出测量薄膜参数的另一方法,姑且称为标准曲线法,方法的原理是基于这样的实验现象,即薄膜的吸收越强,镀膜玻璃的透过率越低;在薄膜吸收的光谱区内,薄膜越厚,镀膜玻璃的透过率也越低;这就是说,镀膜玻璃在指定波长λ处的透过率T 是薄膜厚度t 和薄膜消光系数κ的函数, ),,(λκt T T = 但镀膜玻璃透过率和薄膜参数有什么函数关系?这就是本文要研究的问题。知道这函数关系之后,如何利用这函数关系测量薄膜参数?这也是本文要研究的问题。

用迈克尔逊干涉仪测量薄膜厚度

用迈克尔逊干涉仪测量薄膜厚度 (楚雄师范学院 物电系 苏进高 20071041136) 【摘要】 随着社会经济的不断发展,有机薄膜作为一种功能材料,其应用越来越广泛,相应地薄膜的生产规模也不断扩大。在薄膜的生产过程中,厚度作为薄膜的一个重要指标,对生产生活有着很大的影响,本文采用迈克尔干涉仪测量薄膜的厚度,其原理简单,操作方便,精确度高。 【关键词】 迈克尔干涉仪;薄膜折射率,薄膜厚度, Use Michelson interferometer by measuring film thickness (The Department of Electronic Information Science and Technology of ChuXiong Normal University) Abstract: With the development of social economy, the application of organic thin films is more and more prevalent as a sort of functionality material. Accordingly, the scope of the production of the organic thin films is enlarged. thickness is one of the quality for the thin films has been a significant process in the production of the organic thin films. Production has a great impact on life, Michael interferometer using thin-film thickness measurement, the principle of a simple, convenient operation, high accuracy. 引言 塑料薄膜因为有很好的不透水性,价钱便宜、轻巧等优点,因此在生产生活中有着十分广泛的运用,而厚度作为薄膜的一个重要指标,起着非常重要的作用。下面我们介绍如何用迈克尔逊干涉仪来测量薄膜的厚度,这种方法原理简单,操作方便,精确度高 测量装置及原理 E 测量装置如图所示,其中1M 、2M 是两块互相垂直的平面反射镜,1G 为分光板,2G 是补

薄膜厚度检测原理及系统

薄膜厚度检测原理及系统 摘要:本文对目前常用的薄膜厚度光学测量方法进行了深入的研究和讨论,总结并归纳了每一种测量方法的优缺点、以及使用条件。基于原子力显微镜的薄膜厚度检测系统,该系统得到薄膜厚度,能够精确测量各种不同性质的薄膜的厚度。关键词:薄膜厚度;测量;原子力显微镜 Abstract: In this paper, the advantage and disadvantage, usable condition of many usually used optical measurement methods of thin film thickness which are analyzed and discussed in detail ,are been summarized. A measuring system of film thickness based on atomic force microscope has been developed, based on this system could measure the thickness of various films. Key words:film thickness ; measurement; AFM 1引言 随着科技的发展以及精密仪器等技术的迅速发展,薄膜技术的应用变得更为广泛,不仅在光学领域,也被广泛地应用于微电子技术、通讯、宇航工程等各种不同的领域。薄膜的厚度很大程度上决定了薄膜的力学性能,电磁性能,光电性能和光学性能,薄膜厚度又是薄膜设计和工艺制造的关键参数之一,为了制备出合乎要求的薄膜也离不开高精度的薄膜厚度检测,因此薄膜厚度的测量一直是人们密切关注和不断研究改进的课题。 在众多类检测方法当中,由于光学检测方法具有非接触性、高灵敏度性、高精度性、快速、准确、不损伤薄膜等优点,成为目前被应用最广泛的方法。在对薄膜厚度检测的理论中,按照测量方法所依据的光学原理进行分类,可分为干涉、衍射、透射、反射、偏振等方法,也可根据光源分为激光测量和白光测量[1]。目前,光谱法、椭圆偏振法和干涉法是人们讨论最多和应用最广泛的测量方法。随着光学薄膜的材料和制备技术的不断提高,传统的薄膜厚度的测量方法己经不能

南京大学-椭偏光法测量薄膜的厚度和折射率

椭偏光法测量薄膜的厚度和折射率 (南京大学物理学院江苏南京 210000) 摘要:椭圆偏振测量法,即椭偏光法,是将一束偏振光非垂直地投射到被测样品表面,观察反射光或透射光的偏振状态变化来推知样品的光学特性,如薄膜的厚度,材料的负折射率等。本实验用椭偏仪,根据椭偏光法测量薄膜样品的厚度和折射率。 关键词:椭偏光法;椭偏仪;椭圆偏振方程;椭偏参数 一、实验目的 1. 了解椭偏光发测量原理和实验方法。 2. 熟悉椭偏仪器的结构和调试方法。 3. 测量介质薄膜样品的厚度和折射率,以及硅的消光系数和负折射率。 二、实验原理 1.椭圆偏振方程 在一光学材料上镀各向同性的单层介质膜后,光线的反射和折射在一般情况下会同时存在的。通常,设介质层为n1、n2、n3,φ1为入射角,那么在1、2介质交界面和2、3介质交界面会产生反射光和折射光的多光束干涉,如图1 图1 薄膜系统的光路示意图 这里我们用2δ表示相邻两分波的相位差,其中δ=2πdn2cosφ2/λ,用r1p、r1s表示光线的p 分量、s分量在界面1、2间的反射系数,用r2p 、r2s表示光线的p分、s分量在界面2、3间的反射系数。由多光束干涉的复振幅计算可知:

其中Eip和Eis分别代表入射光波电矢量的p分量和s分量,Erp和Ers分别代表反射光波电矢量的p分量和s分量。现将上述Eip、Eis、Erp、Ers四个量写成一个量G,即: 我们定义G为反射系数比,它应为一个复数,可用tgψ和Δ表示它的模和幅角。上述公式的过程量转换可由菲涅耳公式和折射公式给出: G是变量n1、n2、n3、d、λ、φ1的函数(φ2 、φ3可用φ1表示) ,即ψ=tg-1f,Δ=arg| f |,称ψ和Δ为椭偏参数,上述复数方程表示两个等式方程: [tgψe iΔ]的实数部分= 的实数部分 [tgψe iΔ]的虚数部分= 的虚数部分 若能从实验测出ψ和Δ的话,原则上可以解出n2和d (n1、n3、λ、φ1已知),根据公式(4)~(9),推导出ψ和Δ与r1p、r1s、r2p、r2s、和δ的关系: 由上式经计算机运算,可制作数表或计算程序。这就是椭偏仪测量薄膜的基本原理。若d是已

用迈克尔逊干涉仪测量单层薄膜的厚度和折射率

用迈克尔逊干涉仪测量单层薄膜的厚度和折射率 实验的改进 于海峰 蒋晓冬 韩厚年 (淮阴工学院 淮安 223003) 摘要:迈克尔逊干涉实验是大学物理实验中的一个重要实验,本文对迈克尔逊干涉仪测定薄膜的厚度和折射率实验的传统方法进行了改进,我们对原测量仪器稍做调整,提高了条纹视见度,减少了测量误差,提高了测量精度。 关键词:迈克尔逊干涉仪;光程;薄膜厚度;折射率;等厚干涉;白光干涉 引言 目前测量薄膜厚度和折射率的方法有多种,例如椭偏法、准波导法等等[1][2]。其中在实验室中最常用、最简单方便的方法是利用迈克尔逊干涉方法来进行测量。 迈克尔逊干涉仪是一种典型的分振幅双光束干涉装置,可用于观察光的干涉现象,测定单色光的波长,测定光源的相干长度。附加适当装置后,可以扩大实验范围,其中,用来测量薄膜的厚度和折射率就是其扩展实验之一。 问题提出 用迈克尔逊干涉仪测薄膜的厚度和折射率, 是利用在光程差约等于零时观测白光的彩色等厚干涉条纹。其做法是先调出白光条纹,然后将薄膜放在分光板2G 与反射镜2M 之间(薄膜与光线垂直),或薄 膜贴在2M 镜上,再调出零光程差的彩色干涉条纹,反射镜移动距离d 与薄透明体厚度l 、透明体折射率n 、空气折射率0n 有关系式: 0()d l n n =- 但是,利用上述测量单层薄膜的折射率和厚度[3][4] 的过程中存在着诸多的缺陷,首先要看到较好的等厚干涉条纹,要求单层薄膜本身较平整,以往简单的插入薄膜并不能保证薄膜的平整性,而把薄膜贴在2M 镜上,膜与镜之间也容易产生气泡,影响测量的精确性。再者要求白光等厚干涉条纹的可观测性较强,便于测量。本实验介绍了用迈克尔逊干涉仪方便,简单、清晰的观测等厚干涉条纹,进而用来测量单层薄膜厚度和折射率的方法。 实验原理 用迈克尔逊干涉仪测单层薄膜的厚度和折射率的实验装置如图1

薄膜厚度的在线和非在线测量方法

薄膜厚度的在线和非在线测量方法 薄膜厚度是否均匀一致是检测薄膜各项性能的基础。很显然,倘若一批单层薄膜厚度不均匀,不但会影响到薄膜各处的拉伸强度、阻隔性等,更会影响薄膜的后续加工。对于复合薄膜,厚度的均匀性更加重要,只有整体厚度均匀,每一层树脂的厚度才可能均匀。因此,薄膜厚度是否均匀,是否与预设值一致,厚度偏差是否在指定的范围内,这些都成为薄膜是否能够具有某些特性指标的前提。薄膜厚度测量是薄膜制造业的基础检测项目之一。 1. 各种在线和非在线测厚技术发展快速 包装材料厚度的测试最早用于薄膜厚度测量的是非在线测厚技术。之后,随着射线技术的不断发展逐渐研制出与薄膜生产线安装在一起的在线测厚设备。上个世纪60年代在线测厚技术就已经有了广泛的应用,现在更能够检测薄膜某一涂层的厚度。同时,非在线测厚技术也有了长足的发展,各种非在线测试技术纷纷兴起。在线测厚技术与非在线测厚技术在测试原理上完全不同,在线测厚技术一般采用射线技术等非接触式测量法,非在线测厚技术一般采用机械测量法或者基于电涡流技术或电磁感应原理的测量法,也有采用光学测厚技术、超声波测厚技术的。 2. 在线测厚较为常见的在线测厚技术有β射线技术,X射线技术和近红外技术。 2.1 β射线技术 β射线技术是最先应用于在线测厚技术上的射线技术,在上世纪60年代就已经广泛用于超薄薄膜的在线厚度测量了。它对于测量物没有要求,但β传感器对温度和大气压的变化、以及薄膜上下波动敏感,设备对于辐射保护装置要求很高,而且信号源更换费用昂贵,Pm147源可用5-6年,Kr85源可用10年,更换费用均在6000美元左右。 2.2 X射线技术 这种技术极少为塑料薄膜生产线所采用。X光管寿命短,更换费用昂贵,一般可用2-3年,更换费用在50 00美元左右,而且不适用于测量由多种元素构成的聚合物,信号源放射性强。X射线技术常用于钢板等单一元素的测量。 2.3 近红外技术 近红外技术在在线测厚领域的应用曾受到条纹干涉现象的影响,但现在近红外技术已经突破了条纹干涉现象对于超薄薄膜厚度测量的限制,完全可以进行多层薄膜总厚度的测量,并且由于红外技术自身的特点,还可以在测量复合薄膜总厚度的同时给出每一层材料的厚度。近红外技术可用于双向拉伸薄膜、流延膜和多层共挤薄膜,信号源无放射性,设备维护难度相对较低。 2.4 在线测厚设备的应用情况 在线测厚能够以最快的速度获取厚度测试数据,通过数据分析,及时调整生产线的参数,缩短开车时间。但是在线测厚设备必须配备与生产线相匹配的扫描架,这在一定程度上限制了在线测厚设备的重复利用。而且由于薄膜生产线往往需要长期连续工作,因此相应的在线测厚设备也就必须长期连续工作。在设备的价格上,在线测试设备一般要比非在线测试设备贵很多,而且前者的运行费用与维护费用也比较高。 3. 非在线测厚 非在线测厚技术主要有—接触式测量法和非接触式测量法两类,接触式测量法主要是机械测量法,非接触

塑料薄膜厚度的常用测量方法

塑料薄膜厚度的常用测量方法 塑料薄膜厚度的常用测量方法 薄膜厚度是否均匀一致是检测薄膜各项性能的基础。很显然,倘若一批单层薄膜厚度不均匀,不但会影响到薄膜各处的拉伸强度、阻隔性等,更会影响薄膜的后续加工。对于薄膜管件,厚度的均匀性更加重要,只有整体厚度均匀,它的抗爆破能力才能提高,另外,对产品的厚度采取合理的控制,不但提高产品质量,还能降低材料的消耗,提高生产效率。因此,薄膜厚度是否均匀,是否与预设值一致,厚度偏差是否在指定的范围内,这些都成为薄膜是否能够具有某些特性指标的前提。薄膜厚度测量是薄膜制造业的基础检测项目之一。 1.塑料薄膜厚度的测试最早用于薄膜厚度测量的是实验室测厚技术。之后,随着射线技术的不断发展逐渐研制出与薄膜生产线安装在一起的在线测厚设备。上个世纪60年代在线测厚技术就已经有了广泛的应用,现在更能够检测薄膜某一涂层的厚度。同时,非在线测厚技术也有了长足的发展,各种非在线测试技术纷纷兴起。在线测厚技术与非在线测厚技术在测试原理上完全不同,在线测厚技术一般采用射线技术等非接触式测量法,非在线测厚技术一般采用机械测量法或者基于电涡流技术或电磁感应原理的测量法,也有采用光学测厚技术、超声波测厚技术的。 2.在线测厚较为常见的在线测厚技术有β射线技术,X射线技术,电容测量和近红外技术。 2.1 β射线技术是最先应用于在线测厚技术上的,它对于测量物没有要求,但β传感器对温度和大气压的变化、以及薄膜上下波动敏感,设备对于辐射保护装置要求很高,而且信号源更换费用昂贵,Pm147源可用5-6年,Kr85源可用10年,更换费用均在6000美元左右。 2.2 X射线技术这种技术极少为薄膜生产线所采用。X光管寿命短,更换费用昂贵,而且不适用于测量由多种元素构成的聚合物,信号源放射性强。 2.3近红外技术近红外技术在在线测厚领域的应用曾受到条纹干涉现象的影响,但现在近红外技术已经突破了条纹干涉现象对于超薄薄膜厚度测量的限制,完全可以进行多层薄膜总厚度的测量,并且由于红外技术自身的特点,还可以在测量复合薄膜总厚度的同时给出每一层材料的厚度。近红外技术可用于双向拉伸薄膜、流延膜和多层共挤薄膜,信号源无放射性,设备维护难度相对较低。 2.4在线测厚设备的应用情况在线测厚能够以最快的速度获取厚度测试数据,通过数据分析,及时调整生产线的参数,缩短开车时间。但是在线测厚设备必须配备与生产线相匹配的扫描架,这在一定程度上限制了在线测厚设备的重复利用。而且由于薄膜生产线往往需要长期连续工作,因此相应的在线测厚设备也就必须长期工作。在设备的价格上,在线测试设备一般要比非在线测试设备贵很多,而且前者的运行费用与维护费用也比较高。 3.非在线测厚非在线测厚技术主要有—接触式测量法和非接触式测量法两类,接触式测量法主要是机械测量法,非接触式测量法包括光学测量法、电涡流测量法、超声波测量法等。由于非在线测厚设备价格便宜、体积小等原因,应用领域广阔。 3.1涡流测厚仪和磁性测厚仪涡流测厚仪和磁性测厚仪一般都是小型便携式设备,分别利用了电涡流原理和电磁感应原理。专用于各种特定涂层厚度的测量,用于测量薄膜、纸张的厚度时有出现误差的可能。

用薄膜测厚仪测量薄膜厚度及折射率

材料物理实验报告 实验时间 年 月 日 [实验名称] 用薄膜测厚仪测量薄膜厚度及折射率 [实验目的] 1、了解测量薄膜厚度及折射率的方法,熟悉测厚仪工作的基本原理。 2、通过本实验了解薄膜表面反射光和薄膜与基底界面的反射光相干形成反射谱原理。 3、借助光学常数,对薄膜材料的光学性能进行分析。 [实验仪器] 测厚仪、已制备好薄膜数片、参考反射板(硅片) [实验原理] SGC-10薄膜测厚仪,适用于介质,半导体,薄金属,薄膜滤波器和液晶等薄膜和涂层的厚度测量。该薄膜测厚仪采用new-span 公司先进的薄膜测厚技术,基于白光干涉的原理来测定薄膜的厚度和光学常数(折射率n ,消光系数k )。它通过分析薄膜表面的反射光和薄膜与基底界面的反射光相干形成的反射谱,用相应的软件来拟合运算,得到单层或多层膜系各层的厚度d ,折射率n ,消光系数k 。 在一光学材料上镀各向同性的单层介质膜后,光线的反射和折射在一般情况下会同时存在的。通常,设介质层为n1、n2、n3,φ1为入射角,那么在1、2介质交界面和2、3介质交界面会产生反射光和折射光的多光束干涉,如图(1-1) 图(1-1) 这里我们用2δ表示相邻两分波的相位差,其中 δ=2πdn2cos φ2/λ ,用r1p 、 r1s 表示光线的p 分量、s 分量在界面1、2间的反射系数, 用r2p 、r2s 表示光线的p 分、s 分量在界面2、3间的反射系数。 由多光束干涉的复振幅计算可知: 姓名: 范丽晶 班级:应用物理071 学号: 07411200126 成绩:

其中Eip和Eis 分别代表入射光波电矢量的p分量和s分量,Erp和Ers分别代表反射光波电矢量的p分量和s分量。现将上述Eip、Eis 、Erp、Ers四个量写成一个量G,即: 我们定义G为反射系数比,它应为一个复数,可用tgψ和Δ表示它的模和幅角。上述公式的过程量转换可由菲涅耳公式和折射公式给出: G是变量n1、n2、n3、d、λ、φ1的函数(φ2 、φ3可用φ1表示) ,即ψ=tg-1f,Δ=arg| f |,称ψ和Δ为椭偏参数,上述复数方程表示两个等式方程: [tgψe iΔ]的实数部分= 的实数部分 [tgψe iΔ]的虚数部分= 的虚数部分 若能从实验测出ψ和Δ的话,原则上可以解出n2和d (n1、n3、λ、φ1已知),根据公式(4)~(9),推导出ψ和Δ与r1p、r1s、r2p、r2s、和δ的关系:

塑料薄膜厚度的在线和非在线测量方法

塑料薄膜厚度的在线和非在线测量方法 薄膜厚度是否均匀一致是检测薄膜各项性能的基础。很显然,倘若一批单层薄膜厚度不均匀,不但会影响到薄膜各处的拉伸强度、阻隔性等,更会影响薄膜的后续加工。对于复合薄膜,厚度的均匀性更加重要,只有整体厚度均匀,每一层树脂的厚度才可能均匀。因此,薄膜厚度是否均匀,是否与预设值一致,厚度偏差是否在指定的范围内,这些都成为薄膜是否能够具有某些特性指标的前提。薄膜厚度测量是薄膜制造业的基础检测项目之一。 1.各种在线和非在线测厚技术发展快速 包装材料厚度的测试最早用于薄膜厚度测量的是非在线测厚技术。之后,随着射线技术的不断发展逐渐研制出与薄膜生产线安装在一起的在线测厚设备。上个世纪60年代在线测厚技术就已经有了广泛的应用,现在更能够检测薄膜某一涂层的厚度。同时,非在线测厚技术也有了长足的发展,各种非在线测试技术纷纷兴起。在线测厚技术与非在线测厚技术在测试原理上完全不同,在线测厚技术一般采用射线技术等非接触式测量法,非在线测厚技术一般采用机械测量法或者基于电涡流技术或电磁感应原理的测量法,也有采用光学测厚技术、超声波测厚技术的。 2.在线测厚较为常见的在线测厚技术有β射线技术,X射线技术和近红外技术。 2.1β射线技术 β射线技术是最先应用于在线测厚技术上的射线技术,在上世纪60年代就已经广泛用于超薄薄膜的在线厚度测量了。它对于测量物没有要求,但β传感器对温度和大气压的变化、以及薄膜上下波动敏感,设备对于辐射保护装置要求很高,而且信号源更换费用昂贵,Pm147源可用5-6年,Kr85源可用10年,更换费用均在6000美元左右。 2.2X射线技术 这种技术极少为塑料薄膜生产线所采用。X光管寿命短,更换费用昂贵,一般可用2-3年,更换费用在5000美元左右,而且不适用于测量由多种元素构成的聚合物,信号源放射性强。X射线技术常用于钢板等单一元素的测量。 2.3近红外技术 近红外技术在在线测厚领域的应用曾受到条纹干涉现象的影响,但现在近红外技术已经突破了条纹干涉现象对于超薄薄膜厚度测量的限制,完全可以进行多层薄膜总厚度的测量,并且由于红外技术自身的特点,还可以在测量复合薄膜总厚度的同时给出每一层材料的厚度。近红外技术可用于双向拉伸薄膜、流延膜和多层共挤薄膜,信号源无放射性,设备维护难度

薄膜厚度和折射率测量实验讲义

薄膜厚度和折射率测量 实验讲义 一、前言 薄膜厚度是否均匀一致是检测薄膜各项性能的基础。很显然,倘若一批单层薄膜厚度不均匀,不但会影响到薄膜各处的拉伸强度、阻隔性等,更会影响薄膜的后续加工。对于复合薄膜,厚度的均匀性更加重要,只有整体厚度均匀,每一层树脂的厚度才可能均匀。因此,薄膜厚度是否均匀,是否与预设值一致,厚度偏差是否在指定的范围内,这些都成为薄膜是否能够具有某些特性指标的前提。薄膜厚度测量是薄膜制造业的基础检测项目之一。 1. 包装材料厚度的测试最早用于薄膜厚度测量的是非在线测厚技术。之后,随着射线技术的不断发展逐渐研制出与薄膜生产线安装在一起的在线测厚设备。上个世纪60年代在线测厚技术就已经有了广泛的应用,现在更能够检测薄膜某一涂层的厚度。同时,非在线测厚技术也有了长足的发展,各种非在线测试技术纷纷兴起。在线测厚技术与非在线测厚技术在测试原理上完全不同,在线测厚技术一般采用射线技术等非接触式测量法,非在线测厚技术一般采用机械测量法或者基于电涡流技术或电磁感应原理的测量法,也有采用光学测厚技术、超声波测厚技术的。 2. 在线测厚较为常见的在线测厚技术有β射线技术,X射线技术和近红外技术。 2.1 β射线技术β射线技术是最先应用于在线测厚技术上的射线技术,在上世纪60年代就已经广泛用于超薄薄膜的在线厚度测量了。它对于测量物没有要求,但β传感器对温度和大气压的变化、以及薄膜上下波动敏感,设备对于辐射保护装置要求很高,而且信号源更换费用昂贵, Pm147源可用5-6年,Kr85源可用10年,更换费用均在6000美元左右。 2.2 X射线技术这种技术极少为薄膜生产线所采用。X光管寿命短,更换费用昂贵,一般可用2-3年,更换费用在5000美元左右,而且不适用于测量由多种元素构成的聚合物,信号源放射性强。X射线技术常用于钢板等单一元素的测量。 2.3 近红外技术近红外技术在在线测厚领域的应用曾受到条纹干涉现象的影响,但现在近红外技术已经突破了条纹干涉现象对于超薄薄膜厚度测量的限制,完全可以进行多层薄膜总厚度的测量,并且由于红外技术自身的特点,还可以在测量复合薄膜总厚度的同时给出每一层材料的厚度。近红外技术可用于双向拉伸薄膜、流延膜和多层共挤薄膜,信号源无放射性,设备维护难度相对较低。 2.4 在线测厚设备的应用情况在线测厚能够以最快的速度获取厚度测试数据,通过数据分析,及时调整生产线的参数,缩短开车时间。但是在线测厚设备必须配备与生产线相匹配的扫描架,这在一定程度上限制了在线测厚设备的重复利用。而且由于薄膜生产线往往需要长期连续工作,因此相应的在线测厚设备也就必须长期工作。在设备的价格上,在线测试设备一般要比非在线测试设备贵很多,而且前者的运行费用与维护费用也比较高。

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