热处理炉炉温均匀性的黑体调控技术
作者:李治岷;魏玉文
作者机构:成都西华工业炉节能技术公司,四川,成都,610039;成都西华工业炉节能技术公司,四川,成都,610039
来源:热处理技术与装备
ISSN:1673-4971
年:2006
卷:027
期:001
页码:37-40
页数:4
中图分类:TG155.1+1
正文语种:chi
关键词:热射线;漫反射;到位率;炉温均匀性;黑体元件;调控
摘要:加热炉的温度场均匀性直接关系到产品最终的组织性能,是非常重要的一环,微机控制系统的发展,比较容易地使温差控制在±5℃甚至更高的精度.但是,炉子运行一段时间后,炉温控制超差的现象普遍发生,温差可以超过规定值的几倍甚至十几倍.采用黑体技术来调控炉温均匀性,可以使炉温长期稳定在规定范围内.