硅烷偶联剂KH570对纳米SiO2的表面改性及其分散稳定性

硅烷偶联剂KH570对纳米SiO2的表面改性及其分散稳定

性

作者：苏瑞彩;李文芳;彭继华;杜军

作者机构：华南理工大学材料科学与工程学院,广东,广州,510640;华南理工大学材料科学与工程学院,广东,广州,510640;华南理工大学材料科学与工程学院,广东,广州,510640;华南理工大学材料科学与工程学院,广东,广州,510640

来源：化工进展

ISSN：1000-6613

年：2009

卷：028

期：009

页码：1596-1599

页数：4

中图分类：TQ127.2

正文语种：chi

关键词：纳米SiO2;表面改性;硅烷偶联剂;分散

摘要：采用硅烷偶联剂KH570对纳米SiO2实现表面改性,并利用透射电镜(TEM)、粒径分析、Zeta电位、红外光谱(FTIR)等方法对改性后纳米SiO2的表面结构和在有机介质中的分散稳定性进行分析表征.结果表明,通过硅烷偶联剂KH570表面改性后,颗粒表面覆盖了硅烷偶联剂的有机官能团,提高了SiO2纳米颗粒在水溶液中的Zeta电位,降低了颗粒团聚程度.改性后的纳米SiO2粉体在有机溶剂中的团聚块体尺寸明显减小,从200 nm降低到不足100nm.