高真空镀膜的基本原理及特点

高真空镀膜的基本原理及特点

发布者：振华真空发布时间：2009-6-27 11:08:25 【字体：大中小】

在过去的几年里，真空镀铝膜在软包装的应用上有了大幅度的增长，其市场之所以得到迅速扩大，主要原因在于真空镀铝膜的技术因此及加工制造的经济因素、环保因素。

1 高真空镀膜的基本原理

高真空镀膜是指在高真空状态下，通过高温将铝线熔化蒸发，铝蒸发沉淀吸附在柔性材料表面，使这些表面具有金属光泽，形成一层保护层，具有技术上的特性，从而能够适合软包装最终产品的特定用途。

需要蒸镀的薄膜材料放置在原料处，薄膜按照一定的方式穿过一系列的导辊，连接在收料轴上，放入密封的真空室中。采取三级真空泵抽真空，当真空室中的真空度达到lO-4Torr以上时，预先安装好的蒸发舟开始升温加热。达到1400oC以上后，铝线开始熔化蒸发，镀铝基材以400～600米／分的运行速度，通过布满来自蒸发舟上的铝蒸发的区域时，铝蒸发被吸附沉积在薄膜表面；经过镀铝的薄膜温度一般都很高，因此需要冷却，否则薄膜的形状和性质都会发生改变，给用户的使用带来意想不到的问题。因此，我们采用能达到-5oC～-10oC的冷却系统来冷却，经过冷却的镀铝膜的温度可控制在适当的范围内：我们采用红外线自动膜厚检测仪来检测镀铝膜的外观等其他指标。

2 真空镀铝膜的特点

(1)外观

因为镀铝膜具有很高的金属光泽和良好的反射性，在软包装中使用镀铝膜，能够与油墨形成强烈的色彩反差。增加光线的反射，使包装产生非常夺目的光学效果，增加产品的美观程度。

(2)阻隔性

薄膜经过真空镀铝后，能大大提高薄膜材料的阻隔性，对于一些需要延

长保存期的产品，使用真空镀铝膜的软包装是一个不错的选择。

(3)低成本及良好的加工性能

与铝箔相比，VMPET有较大的价格优势。成本只相当于铝箔的一半。

镀铝薄膜基材具有良好的物理机械性能。在复合加工中不容易出现扭曲、皱折、断裂等现象，有利于提高生产效率和合格品率；镀铝膜具有导电性，在加工过程中可以避免因静电所造成的质量问题或故障，便于安全生产，特别是在包装粉状物品时，因为镀铝膜能够起到消除静电的作用，保证了封口性能的良好性。

(4)符合环保要求

镀铝产品消耗的主要能源是电力，在生产过程中不会产生废水、废气，作为残留物的氧化铝可以回收再利用。另外镀铝时，沉积在镀铝膜表面的铝非常少(一般只有350～400埃)，因此可以认为没有改变其基材的本质。从环保的角度看，已镀过铝的薄膜可作为一种“单一材料”，所以它们可以更容易地被分裂，以循环生产或焚烧处理。

3 真空镀铝膜的发展趋势

3.1真空镀膜机的发展趋势

·宽幅化

·高速化

·自动化

3.2纸镀铝

因环保因素,纸镀铝的品种和产量将有较大的发展。

3.3图案镀铝

真空镀膜基础知识

学校：龙岩学院 院系：物理与机电工程学院 专业：机械设计制造及其自动化 班级： 11级机械（本）1班 姓名：柯建坤 学号： 2011043523 简介 真空镀膜 在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。 蒸发镀膜 通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。这种方法最早由M.法拉第于1857年提出，现代已成为常用镀膜技术之一。蒸发镀膜设备结构如图1。 蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源，待镀工件，如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后，加热坩埚使其中的物质蒸发。蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间（或决定于装料量），并与源和基片的距离有关。对于大面积镀膜，常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程，以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。蒸气分子平均动能约为0.1～0.2电子伏。 蒸发镀膜的类型 蒸发源有三种类型。①电阻加热源：用难熔金属如钨、钽制成舟箔或丝状,通以电流,加热在它上方的或置于坩埚中的蒸发物质（图1[蒸发镀膜设备示意图]

）电阻加热源主要用于蒸发Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。②高频感应加热源：用高频感应电流加热坩埚和蒸发物质。③电子束加热源：适用于蒸发温度较高（不低于2000[618-1]）的材料，即用电子束轰击材料使其蒸发。 蒸发镀膜与其他真空镀膜方法相比，具有较高的沉积速率，可镀制单质和不易热分解的化合物膜。 为沉积高纯单晶膜层，可采用分子束外延方法。生长掺杂的GaAlAs单晶层的分子束外延装置如图2[ 分子束外延装置示意图 ]。喷射炉中装有分子束源，在超高真空下当它被加热到一定温度时，炉中元素以束状分子流射向基片。基片被加热到一定温度，沉积在基片上的分子可以徙动，按基片晶格次序生长结晶用分子束外延法可获得所需化学计量比的高纯化合物单晶膜，薄膜最慢生长速度可控制在1单层/秒。通过控制挡板,可精确地做出所需成分和结构的单晶薄膜。分子束外延法广泛用于制造各种光集成器件和各种超晶格结构薄膜。 溅射镀膜 用高能粒子轰击固体表面时能使固体表面的粒子获得能量并逸出表面，沉积在基片上。溅射现象于1870年开始用于镀膜技术，1930年以后由于提高了沉积速率而逐渐用于工业生产。常用的二极溅射设备如图3[ 二

真空镀膜机操作指导

真空镀膜实验指导 真空镀膜常用的方法有蒸发镀膜、射频溅射镀膜和离子镀膜等。本实验通过介绍蒸发镀膜原理，掌握蒸发镀膜的操作方法。真空镀膜技术在电真空、无线电、光学、固体物理、原子能和空间技术中有广泛的应用。 1真空镀膜原理： 1.1蒸发镀膜机理 蒸发镀膜是真空镀膜的一种，它是在高真空条件下将物质加热到沸腾状态，沸腾出来的原子或分子溅落在固体材料表面，形成一层或多层膜的方法。凡是在沸腾温度下不分解或不变性的物质都可以用此法蒸镀成膜。 蒸发原子的成膜过程比较复杂，这里只能粗略描述如下：溅落原子首先被固体表面吸附，当表面温度低于某一临界温度时，原子开始“核化”——部分原子凝聚成团，出现若干“岛”，然后这些“岛”逐渐吸收周围的原子而长大，众多的“岛”相互连接成一片而成一块连续的膜。蒸发镀膜的条件主要有两个，分别介绍如下： 1.2高真空 我们希望蒸发出来的原子或分子不要受空气分子的阻挡而直接溅落到固体的表面，这样，蒸发镀膜的速度高，成膜质量也好。相反，如果真空度低，有大量的空气分子存在，一方面，蒸发出来的原子或分子与空气分子碰撞，阻碍了膜材分子的扩散，降低了蒸镀的速度，影响了膜的均匀性，另一方面，空气的导热使得膜材的温度不能很快地升高，必然要加大加热功率；更有甚者，空气的存在可能使膜材的某些成分氧化，引起成分变性；在连接着抽气机的情况下，若不能很快完成镀膜，膜料将被抽走。因此，蒸发镀膜需要在高真空条件下进行。当然，真空度也不需要绝对地高。事实上，只要分子的平均自由程大于膜材到基底的距离即可。如果膜材到基底的距离为10 --20cm，根据自由程公式 （d是分子的直径，n是分子数密度） 不难估计真空度在Pa以上就可以满足要求。 1.3材料洁净 材料的洁净包括膜料的洁净和基底材料的洁净。这一要求似乎是不言而喻的。如果材料中混有颗粒状或纤维状的杂质，将直接影响膜的均匀性和牢固度；如果混有可融的化学成分，将影响膜的物理性质，如亮度、表面张力、电导率等等。所以，膜材和基底的清洗工作必须认真对待。 2真空技术

真空镀膜机安全管理规定

仅供参考[整理] 安全管理文书 真空镀膜机安全管理规定 日期：__________________ 单位：__________________ 第1 页共4 页

真空镀膜机安全管理规定 真空镀膜设备是电阻加热式蒸发真空镀膜设备。操作人员必须详细阅读该机说明书，了解设备结构、工作原理、操作程序并由专业人员指导培训，熟练掌握各操作要领。经有关专业人员确认符合操作规范，方能独立上岗操作。 一、该机开机前应先检查电控柜的接线是否有松脱现象，接上电源，并检查真空室内电极绝缘性，钨丝接触是否可靠，工件架转动是否自如。联轴器，输入电极接触是否良好，各密封处特别是动密封处是否良好。还需检查扩散泵、旋片泵、罗茨泵、滑阀泵等的油量是否满足要求。提供的电源、气源，各种机械泵转向都应正确。注意：试验罗茨泵转向一定要在真空状态下进行。 经过上述检查，各项性能良好，才能进行抽气试机。如果镀膜室长期暴露大气，还必须进行炼气，就是按照操作规程，不进行镀膜，只让机械泵、扩散泵等连续抽气，察看真空度上升的稳定情况，若真空度保持稳定，才能进行下一步操作。一般炼气时间要达10小时以上。调试时主要检查： 1.真空检漏 2.检查极限压强 3.抽气时间 二、满足以上各项检查后，进入操作和使用： 1.在非特殊情况下，请勿以断拉闸(断电)方式停机。 2.本设备通电及运行过程中，请勿触摸电气控制柜内部和外部用电器件，注意安全。 3.确认安全无误时才能操作设备。 4.不要将设备交给非本设备操作人员操作。 5.设备及电源控制柜必须良好接地。 第 2 页共 4 页

6.非专业人员请不要维修本设备。 三、工作中还必须注意以下几点： 1.平时，整个系统要保持真空状态，工作前才充入气体，不要使真空室长期暴露在大气中; 2.真空室镀膜200-250次后，要清洗真空室和工作支撑架; 3.经常检查胶封是否良好，特别是动密封圈，定期给动密封圈加上真空脂; 4.定期检查电气元件，清除灰尘，更换烧坏的电器元件; 5.在真空状态下不得拆卸扩散泵和阀门; 6.罗茨泵、粗抽泵、维持泵要定期加油，换油(保持油面在油镜中心为佳); 7.充气阀门充气动作失灵时，必须进行检修; 8.镀膜完毕时先关闭真空测量计，再关闭精抽、前置阀，待精抽阀、前置阀完全关闭后才能充入大气，否则会烧坏电离规管，氧化扩散泵油及发生不必要的以外; 9.镀膜机在工作过程中，不得断水，若在工作过程中突然停电，应马上关闭精抽阀门，减少因系统漏气泵油的氧化; 10.关罗茨泵后一定要经过1分钟后才能关粗抽泵，否则会因为罗茨泵在转速较高时充入气体，会损坏罗茨泵。 第 3 页共 4 页

真空镀膜 2

得分教师签名批改日期深圳大学实验报告 课程名称：近代物理实验 实验名称：真空镀膜 学院：物理科学与技术学院 组号指导教师： 报告人：学号： 实验地点实验时间 实验报告提交时间：

一．实验目的 1．、直接地接触薄膜材料，对薄膜材料有一个直观的感性认识； 2．了解和学会直流磁控溅射制备金属薄膜的原理和方法； 3．了解清洗基片和测量薄膜膜厚的方法。 二．实验仪器 直流磁控溅射镀膜机；气体质量流量计；数显复合真空计；超声波清洗器；石英晶体振荡膜厚监控仪；氩气；K9玻璃基片等。 三．实验原理 一、真空的获得和测量 1．真空的获得 各级真空，均可通过各种真空泵来获得．不同的真空泵，都不可能在整个真空范围内工作，有些泵可直接从大气压下开始工作，但极限真空度都不高，如机械泵和吸附泵，通常这类泵用作前级泵；而有些泵则只能在一定的预备真空条件下才能开始正常工作，如扩散泵、离子泵等，这类泵需要前级泵配合，可作为高真空泵．一般利用分子泵－机械泵组来获得10-2Pa以上的高真空。本实验真空系统的主泵选分子/增压泵，前级泵选用直联高速旋片式机械泵。 （1）机械泵: 获得低真空常用的方法是采用机械泵．机械泵是运用机械方法不断地改变泵内吸气空腔的容积，使被抽容器内气体的体积不断膨胀从而获得真空的泵．机械泵的种类很多，目前常用的是旋片式机械泵．机械泵可以从大气压开始工作，常被用来获得高真空泵的前缀真空和高真空系统的预备真空。通常，机械泵的极限压强为1×10-1 Pa． （2) 分子/增压泵：最早用来获得高真空的泵是扩散泵，目前依然广泛使用． 2.．真空的测量 测量真空度的装置称为真空计或真空规．由于被测量的真空度范围很广，真空计的种类很多．根据气体产生的压强、气体的粘滞性、动量转换率、热导率、电离等原理制成了各种真空计．本实验选用数显复合真空计来测量镀膜室内的真空度，测量范围：1×105Pa～1×10-4Pa。 二、基片的清洗方法 基片上的污染物会影响在它上面形成的薄膜的性质。对于玻璃基片，清洗的方法有若干种：1.用化学溶剂等清洗的方法 如果玻璃表面的污染物质是一般的油类时，也经常用化学溶剂来把油脂溶解掉。最标准的化学溶剂是罗铬酸和硫酸混合液（把重铬酸溶解于浓硫酸使之达到饱和的溶液在室温用几个小时，若是接近沸腾状态的溶液只要用几分钟，就能把严重的污染清洗干净，但是，一般因玻璃种类而异，大多数光学玻璃手酸或碱侵蚀时，在玻璃表面就会产生由二氧化硅骨架形成的所谓腐蚀斑痕。而且由于这种混合液含有铬离子，故废液的处理很麻烦，因此，最近，大多采用处理半导体的强碱溶液。在玻璃污染不是很严重的时候，依次浸入丙酮、酒精、流水的方法也是有效的。使用化学溶剂时，最后玻璃要用流水进行充分的冲洗，并且随后从沸水或者沸腾的酒精中取出来，迅速进行干燥，等等。这些都是有效的措施。 2、超声波清洗 若使超声波在液体中传播，则在液体中就会产生空穴又产生又消失的现象（气穴效应），这是空穴内的压力，瞬时局部地升高，如果作用到放在液体中的固体表面，就产生局部升温和局部高速流动，结果就将固体表面洗净。这就是超声波清洗的原理。该方法对于除去油脂

真空镀铝机安全操作规程详细版

文件编号：GD/FS-9694 （操作规程范本系列） 真空镀铝机安全操作规程 详细版 The Daily Operation Mode, It Includes All The Implementation Items, And Acts To Regulate Individual Actions, Regulate Or Limit All Their Behaviors, And Finally Simplify Management Process. 编辑：_________________ 单位：_________________ 日期：_________________

真空镀铝机安全操作规程详细版 提示语：本操作规程文件适合使用于日常的规则或运作模式中，包含所有的执行事项，并作用于规范个体行动，规范或限制其所有行为，最终实现简化管理过程，提高管理效率。，文档所展示内容即为所得，可在下载完成后直接进行编辑。 1 目的：为了减少直至消除违章操作造成的工伤安全事故，为了减少直至消除违章或不规范操作对设备造成的损害，特制定本文件，为操作镀铝机提供正确指引。 2 范围：适用于本公司钟南街厂区所有镀铝机。 3 职责： 3.1 机长和辅助：执行本文件规定项目和内容。 3.2 主管：监督当班人员按本文件规定执行，负责日常巡查和纠正违章操作。 3.3 设备管理部：负责全厂区范围内巡回检查，

发现和取证各车间违章操作行为。 4 操作具体要求： 4.1工作准备 按本设备使用说明的各项要求，检查设备的供电、供水、供气、油位等各部分状态是否正常，保证三相电压＞370V,保证油水分离器处的气压＞ 0.55Mpa、冷却水进水压力＞0.2Mpa（LDL5的水压≥0.15 Mpa），＜0.3 Mpa,确保其通畅、可靠和安全。［备注：交接班时，关闭V2、V6 V1、V5后开启滑阀泵、打开气镇阀进行气镇半小时再关闭气镇阀（也可以在关闭V1、V5而且真空度≤90Pa（9×103）的情况下进行），并经常排放滑阀泵内的冷凝水,1-7月排放1次/3小时间;7-12月排放1次/5小时。 4.2 镀膜准备工作

真空镀膜机安全管理规定(正式)

编订：__________________ 单位：__________________ 时间：__________________ 真空镀膜机安全管理规定 (正式) Standardize The Management Mechanism To Make The Personnel In The Organization Operate According To The Established Standards And Reach The Expected Level. Word格式 / 完整 / 可编辑

文件编号：KG-AO-5029-36 真空镀膜机安全管理规定(正式) 使用备注：本文档可用在日常工作场景，通过对管理机制、管理原则、管理方法以及管理机构进行设置固定的规范，从而使得组织内人员按照既定标准、规范的要求进行操作，使日常工作或活动达到预期的水平。下载后就可自由编辑。 真空镀膜设备是电阻加热式蒸发真空镀膜设备。操作人员必须详细阅读该机说明书，了解设备结构、工作原理、操作程序并由专业人员指导培训，熟练掌握各操作要领。经有关专业人员确认符合操作规范，方能独立上岗操作。 一、该机开机前应先检查电控柜的接线是否有松脱现象，接上电源，并检查真空室内电极绝缘性，钨丝接触是否可靠，工件架转动是否自如。联轴器，输入电极接触是否良好，各密封处特别是动密封处是否良好。还需检查扩散泵、旋片泵、罗茨泵、滑阀泵等的油量是否满足要求。提供的电源、气源，各种机械泵转向都应正确。注意：试验罗茨泵转向一定要在真空状态下进行。 经过上述检查，各项性能良好，才能进行抽气试

机。如果镀膜室长期暴露大气，还必须进行“炼气”，就是按照操作规程，不进行镀膜，只让机械泵、扩散泵等连续抽气，察看真空度上升的稳定情况，若真空度保持稳定，才能进行下一步操作。一般“炼气”时间要达10小时以上。调试时主要检查： 1.真空检漏 2.检查极限压强 3.抽气时间 二、满足以上各项检查后，进入操作和使用： 1.在非特殊情况下，请勿以断拉闸(断电)方式停机。 2. 本设备通电及运行过程中，请勿触摸电气控制柜内部和外部用电器件，注意安全。 3. 确认安全无误时才能操作设备。 4. 不要将设备交给非本设备操作人员操作。 5. 设备及电源控制柜必须良好接地。 6. 非专业人员请不要维修本设备。 三、工作中还必须注意以下几点： 1.平时，整个系统要保持真空状态，工作前才充入气体，不要使真空室长期暴露在大气中;

真空镀膜机的详细结构

真空镀膜机的详细结构 高真空镀膜机，镀膜机是目前制作真空条件应用最为广泛的设备。其相关组成及各部件：机械泵、增压泵、油扩散泵、冷凝泵、真空测量系统. 下面本人详细介绍各部分的组成及工作原理。 一、真空主体——真空腔 根据加工产品要求的各异，真空腔的大小也不一样，目前应用最多的有直径1.3M、0.9M、1.5M、1.8M 等，腔体由不锈钢材料制作，要求不生锈、坚实等，真空腔各部分有连接阀，用来连接各抽气泵浦。 二、辅助抽气系统 此排气系统采用“扩散泵+机械泵＋罗茨泵＋低温冷阱＋p olycold”组成 排气流程为：机械泵先将真空腔抽至小于2.0*10-2PA左右的低真空状态，为扩散泵后继抽真空提供前提，之后当扩散泵抽真空腔的时候，机械泵又配合油扩散泵组成串联，以这样的方式完成抽气动作。 排气系统为镀膜机真空系统的重要部分，主要有由机械泵、增压泵（主要介绍罗茨泵）、油扩散泵三大部分组成。 机械泵：也叫前级泵，机械泵是应用最广泛的一种低真空泵，它是用油来保持密封效果并依靠机械的方法不断的改变泵内吸气空腔的体积，使被抽容器内气体的体积不断膨胀从而获得真空。 机械泵有很多种，常用的有滑阀式（此主要应用于大型设备）、活塞往复式、定片式和旋片式（此目前应用最广泛，本文主要介绍）四种类型。 机械泵常常被用来抽除干燥的空气，但不能抽除含氧量过高、有爆炸性和腐蚀性的气体，机械泵一般被用来抽除永久性的气体，但是对水气没有好的效果，所以它不能抽除水气。旋片泵中起主要作用的部件是定子、转子、弹片等，转子在定子里面但与定子不同心轴，象两个内切圆，转子槽内装有两片弹片，两弹片中间装有弹簧，保证了弹片紧紧贴在定子的内壁。 它的两个弹片交替起着两方面的作用，一方面从进气口吸进气体，另一方面压缩已经吸进的气体，将气体排出泵外。转子每旋转一周，泵完成两次吸气和两次排气。当泵连续顺时针转动时，旋片泵不断的通过进气口吸入气体，又从排气口不断的排出泵外，实现对容器抽气的目的。为了提高泵的极限真空度，均将泵的定子浸在油里面这样，在各处的间隙中及有害空间里面经常保持足够的油，把空隙填满，所以油一方面起到了润滑作用，另一方面又起了密封和堵塞缝隙及有害空间的作用，防止气体分子通过各种渠道反流到压强低的空间去。 机械泵是从大气开始工作的，它的主要参数有极限真空，抽气速率，此为设计与选用机械泵的重要依据。单级泵可以将容器从大气抽到1.0*10-1PA的极限真空，双级机械泵可以将容器从大气抽到6.7*10-2帕，甚至更高。 抽气速率，是指旋片泵按额定转数运转时，单位时间内所能排出气体的体积，可以用下公式计算： Sth=2nVs=2nfsL fs表示吸气结束时空腔截面积，L表示空腔长度，系数表示转子每旋转一周有两次排气过程，Vs表示当转子处于水平位置的时候，吸气结束，此时空腔内的体积最大，转速为n。

真空镀膜与光学镀膜对比

真空镀膜主要利用辉光放电(glow discharge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面, 靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好,但是镀膜速度却比蒸镀慢很多。新型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围的氩气离子化, 造成靶与氩气离子间的撞击机率增加, 提高溅镀速率。一般金属镀膜大都采用直流溅镀,而不导电的陶磁材料则使用RF交流溅镀,基本的原理是在真空中利用辉光放电(glow discharge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面，电浆中的阳离子会加速冲向作为被溅镀材的负电极表面，这个冲击将使靶材的物质飞出而沉积在基板上形成薄膜。一般来说，利用溅镀制程进行薄膜披覆有几项特点：(1)金属、合金或绝缘物均可做成薄膜材料。(2)再适当的设定条件下可将多元复杂的靶材制作出同一组成的薄膜。(3)利用放电气氛中加入氧或其它的活性气体，可以制作靶材物质与气体分子的混合物或化合物。(4)靶材输入电流及溅射时间可以控制，容易得到高精度的膜厚。(5)较其它制程利于生产大面积的均一薄膜。(6)溅射粒子几不受重力影响，靶材与基板位置可自由安排。(7)基板与膜的附着强度是一般蒸镀膜的10倍以上，且由于溅射粒子带有高能量，在成膜面会继续表面扩散而得到硬且致密的薄膜，同时此高能量使基板只要较低的温度即可得到结晶膜。(8)薄膜形成初期成核密度高，可生产10nm以下的极薄连续膜。(9)靶材的寿命长，可长时间自动化连续生产。(10)靶材可制作成各种形状，配合机台的特殊设计做更好的控制及最有效率的生产。 光学镀膜 一、耐磨损膜（硬膜） 无论是无机材料还是有机材料制成的眼镜片，在日常的使用中，由于与灰尘或砂砾（氧化硅）的摩擦都会造成镜片磨损，在镜片表面产生划痕。与玻璃片相比， 有机材料制成的硬性度比较低，更易产生划痕。通过显微镜，我们可以观察到镜片表面的划痕主要分为二种，一是由于砂砾产生的划痕，浅而细小，戴镜者不容易察觉；另一种是由较大砂砾产生的划痕，深且周边粗糙，处于中心区域则会影响视力。 （1）技术特征 1）第一代抗磨损膜技术 抗磨损膜始于20世纪70年代初，当时认为玻璃镜片不易磨制是因为其硬度高，而有机镜片则太软所以容易磨损。因此将石英材料于真空条件下镀在有机镜片表面，形成一层非常硬的

JSD-300蒸发镀膜机使用说明书

JSD-300型真空镀膜机 使 用 说 明 书 安徽嘉硕真空科技有限公司

目录 1、概述 (3) 2、主要技术性能参数 (3) 3、设备安装 (5) 4、操作规程 (5) 5、使用注意事项、维护与保养 (7) 6、设备主要配置 (8) 7、技术资料清单 (9)

一、概述 JSD-300型真空镀膜机是我公司研发，用于真空蒸发镀光学薄膜、低熔点金属和合金薄膜等。设备由真空室、真空机组和电气系统组成，具有结构紧凑、方便移动、操作简单、维护方便的特点，特别适合小型企业、科研单位和高校的使用。 二、主要技术性能参数 1.真空室：φ300*H450mm； 2.基片架：放一个基片，可旋转（步进电机控制，转速连续可调，可加热0-300度连续可调）； 3.最大可镀工件直径：φ120mm； 4.极限真空度：1X10-4Pa; 5.抽气时间：大气压~8*10-3Pa小于20min； 6.蒸发：电阻式蒸发电极（2对） 功率：2KW； 7.开启方式：上翻盖结构； 8.真空系统：机械泵+分子泵； 设备结构介绍： 1.真空室 钟罩结构，上盖开启。不锈钢材质，前面配φ100观察窗、预抽接口、充气接口；内部有底 板、蒸发源等； 2.真空系统 采用分子泵+旋片式机械泵。采用真空波纹管连接，配有真空测量仪表，具备真空互锁机构； 3.电气系统 电气系统包括真空抽气机组控制、蒸发与烘烤控制、真空测量控制等部分组成。

系统示意图如下所示： 图1 JSD-300真空镀膜机示意图 调节旋纽 电控面板 电流表 蒸发开关 膜厚仪探头 步进电机 插板阀 预抽阀门 备用接口 分子泵电源 前门板 总开关 电离单元 观察窗挡板 真空室 陶封电极 电机控制器 电阻单元 真空计 膜厚仪 加热温控电源 封板 地脚 脚轮 观察窗 温控仪表

LS152真空镀膜在线测厚仪说明书V1.1

LS152真空镀膜在线测厚仪 使用说明书Ｖ1.0 镀膜厚度的纵向、横向均匀度是镀膜制品重要质量和技术指标。镀膜产品的光密度（光密度 = LOG（1/透过率））和镀层厚度成正比例关系，镀层厚度越厚，光密度值越大，透过率越低。所以通过测量镀膜产品的光密度可以监控镀膜层的厚度。 真空镀膜在线镀层厚度检测装置，适用于各类镀膜生产线上，通过选择监控产品的可见光透过率，红外线透过率和光密度值（OD），来达到在线检测和分析产品镀层厚度，镀层厚度的均匀性等性能是否在工艺要求之内。以便操作人员及时了解产品质量，如有问题，及早发现及调整工艺，提高产品品质，降低产品的废品率。 此仪器提供双路的RS485通讯接口，标准的MODBUS通讯协议，方便和PLC，单片机，人机界面，组态王，电脑等通讯。镀膜机可以直接读取此设备的光密度数据，实现控制自动化（闭环控制）。 一：真空镀膜在线测厚仪的参数 1.测试波长：根据客户需要选择，目前有如下的选择： ●红外线：850 nm（默认选项，抗干扰能力强） ●可见光：白光 380nm-760nm ●绿光： 530nm 2.透过率测量精度：优于±1% 3.透过率分辨率：0.005%； 4.光密度测量范围：0.00 OD --- 5.00 OD 5.光密度的分辨率： 0.01 for 0.00 - 3.00 OD 0.05 for 3.00 - 5.00 OD 6.最大测量点数：36点 7.相邻探测头之间距离：最小70mm 8.发射接收探头之间距离：20mm 9.温度范围： -20°C --- +70°C

10.数据刷新周期：300ms 11.仪器整体尺寸： 100mm（宽）*230mm（高）* 长度(根据客户要求定制) 12.需真空法兰电极芯数：6根（不配电脑监控），9根（配电脑监控） 13.电源：220V AC/50Hz 14.通讯：双路RS485 二：真空镀膜在线测厚仪的特点 1. 一体化设计，结构简单，现场安装维护方便 2. 防尘设计 对于镀膜过程中的粉尘（如镀铝过程）会影响测量光学系统，该系统采用防尘设计，粉尘不会影响光学系统内部。如有粉尘，只需要定期擦拭清洁光学系统的镜头玻璃即可，方便维护。 3. 真空室的电子设计 真空环境中，和大气环境下有众多的区别，经过多次真空试验和现场应用，成功解决真空中电子器件的稳定性问题。 三：真空镀膜在线测厚仪的组成 1：设备分为三部分：探测系统、人机交互设备、电脑实时监控系统。 ●探测系统 主要包括光源，接收器，控制器和支架（测试点的多少，根据用户要求定制，测试点数一般是3的整数倍，如3、6、9、12、15等）。 ●人机交互设备 7寸LCD人机交互界面，显示各个测试点的透过率和光密度数据。实时数据，柱状图显示方式，上下限，基准值设置及显示，越限声音报警。 ●电脑实时监控系统（选配） 所有测试点数据的实时监控。包含实时显示、柱状图、上下阈值设定、实时曲线，越限报警等。透光率与光密度的显示可自由切换。 历史数据存储，分析和报表功能。整卷膜在其对应长度上，都有数据记录和分析。如果已知镀膜机的运行速度，可以出报表分析整卷膜在对应长度的光学指标，做到整卷膜镀层厚度和均匀性可追溯。 2：真空镀膜在线测厚仪示意图。

真空镀膜技术的现状及发展

真空镀膜技术的现状及发展 薄膜是一种物质形态，它所使用的膜材料非常广泛，可以是单质元素或化合物，也可以是无机材料或有机材料。薄膜与块状物质一样，可以是单晶态的，多晶态的或非晶态的。近年来功能材料薄膜和复合薄膜也有很大发展。镀膜技术及薄膜产品在工业上的应用非常广泛，尤其是在电子材料与元器件工业领域中占有及其重要的地位。 镀膜方法可以分为气相生成法，氧化法，离子注入法，扩散法，电镀法，涂布法，液相生长法等。气相生成法又可分为物理气相沉积法，化学气相沉积法和放电聚合法等。 真空蒸发，溅射镀膜和离子镀等通常称为物理气相沉积法，是基本的薄膜制备技术。它们都要求淀积薄膜的空间要有一定的真空度。所以，真空技术是薄膜制作技术的基础，获得并保持所需的真空环境，是镀膜的必要条件。 真空系统的种类繁多。在实际工作中，必须根据自己的工作重点进行选择。典型的真空系统包括：获得真空的设备（真空泵），待抽空的容器（真空室），测量真空的器具（真空计）以及必要的管道，阀门和其它附属设备。 1 真空蒸发镀膜法 真空蒸发镀膜法是在真空室中，加热蒸发容器中待形成薄膜的原材料，使其原子或分子从表面气化逸出，形成蒸汽流，入射到固体（称为衬底或基片）表面，凝结形成固态薄膜的方法。真空蒸发镀膜又可以分为下列几种： 1．1 电阻蒸发源蒸镀法 采用钽，钼，钨等高熔点金属，做成适当形状的蒸发源，其上装入待蒸发材料，让气流通过，对蒸发材料进行直接加热蒸发，或者把待蒸发材料放入氧化铝，氧化铍等坩锅中进行间接加热蒸发，这就是电阻加热蒸发法。

利用电阻加热器加热蒸发的镀膜机结构简单，造价便宜，使用可靠，可用于熔点不太高的材料的蒸发镀膜，尤其适用于对镀膜质量要求不太高的大批量的生产中，迄今为止，在镀铝制镜的生产中仍然大量使用着电阻加热蒸发的工艺。 电阻加热方式的缺点是：加热所能达到的最高温度有限，加热器的寿命液较短。近年来，为了提高加热器的寿命，国内外已采用寿命较长的氮化硼合成的导电陶瓷材料作为加热器。据日本专利报道，可采用20％～30％的氮化硼和能与其相熔的耐火材料所组成的材料来制作坩锅，并在表面涂上一层含62％～82％的锆，其余为锆硅合金材料。 1．2 电子束蒸发源蒸镀法 将蒸发材料放入水冷钢坩锅中，直接利用电子束加热，使蒸发材料气化蒸发后凝结在基板表面成膜，是真空蒸发镀膜技术中的一种重要的加热方法和发展方向。电子束蒸发克服了一般电阻加热蒸发的许多缺点，特别适合制作熔点薄膜材料和高纯薄膜材料。 依靠电子束轰击蒸发的真空蒸镀技术，根据电子束蒸发源的形式不同，又可分为环形枪，直枪，e型枪和空心阴极电子枪等几种。 环形枪是由环形的阴极来发射电子束，经聚焦和偏转后打在坩锅内使金属材料蒸发。它的结构较简单，但是功率和效率都不高，基本上只是一种实验室用的设备，目前在生产型的装置中已经不再使用。 直枪是一种轴对称的直线加速枪，电子从灯丝阴极发射，聚成细束，经阳极加速后打在坩锅中使镀膜材料融化和蒸发。直枪的功率从几百瓦至几百千瓦的都有，有的可用于真空蒸发，有的可用于真空冶炼。直枪的缺点是蒸镀的材料会污染枪体结构，给运行的稳定性带来困难，同时发射灯丝上逸出的钠离子等也会引起膜层的污染，最近由西德公司研究，在电子束的出口处设置偏转磁场，并在灯丝部位制成一套独立的抽气系统而做成直枪的改进形式，不但彻底干便了灯丝对膜的污染，而且还有利于提高枪的寿命。

ZZ1100箱式真空镀膜机说明书解析

1、概述 本设备采用箱式结构，抽气系统后置，便于拆卸和维修。整机表面平整，便于清洁，适合净化间安装。蒸发室全部采用不锈钢制造，外有可通冷、热水的护罩，可对壁进行加热(热水器选配)或冷却。蒸发室底板有足够的面积布置蒸发源和各种接头。阀门采用气动，操作方便，使用可靠。液氮冷阱和水冷挡板设计为一整体。蒸发室抽气口也设置一光学密封机械挡板，因此可使蒸发室的油污染降低到极低的程度。本设备配备的抽气元件抽速较大，因此具有抽气时间短，工作真空度高，生产周期短等特点。 本设备适用于镀制各种多层光学薄膜和电学膜。是有关工厂、研究院和大专院校进行生产和科研的理想设备。 2、主要技术数据 2.1真空： 2.1.1极限真空：2×10-4Pa。 2.1.2恢复真空：从大气→2×10-3Pa≤10min。 2.2 蒸发室： 2.2.1直径：内部为φ1100mm。 2.2.2内腔尺寸：φ1100×1300mm。 2.2.3底板上有45个φ3 3.5通孔和2个斜光路孔。 3.3工件夹具： 2.3.1外径φ1000mm。 2.3.2锥形球面夹具：

2.3.3夹具转速N=3～31r.p.m。 2.4基片烘烤：可安装上下烘烤装置或其中一种，上烘烤为电阻丝（管状加热器）18KW(350℃全烘烤)；下烘烤为碘钨灯8KW(选配)，最高烘烤温度350℃，有上下烘烤接口。 2.5电阻蒸发电极：由技术协议确定，功率5KW/只。 2.6 2.7离子轰击：轰击电压0—300V 2.8抽气系统 2.8.1 主泵：K-630高真空油扩散泵，抽速12000L/s 2.8.2 前级泵：ZJP-300罗茨泵，抽速300L/s 2.8.3 2X-70机械泵：抽速70L/s 2.9光路系统： 2.9.1透、反射光路。 2.9.2六位(12位)比较片，另留一石英探头位置。 2.10其它 2.10.1电源：3相220V/380V 50Hz 2.10.2总功率：约40KW 2.10.3耗水：约30L/min 2.10.4压缩空气：5～6Mpa 2.10.5水压:0.2～0.25MPa 2.10.6总重量：（包括控电柜）约5吨 2.10.7外型尺寸：主机：1390×3500×2300（宽×深×高）控 电柜：1400×600×2100（宽×深×高）

真空镀膜机安全管理规定(正式版)

真空镀膜机安全管理规定 Through the process agreement to achieve a unified action policy for different people, so as to coordinate action, reduce blindness, and make the work orderly. 编制：___________________ 日期：___________________

专业技术文件/ Technical documentation编号： 真空镀膜机安全管理规定 温馨提示：该文件为本公司员工进行生产和各项管理工作共同的技术依据，通过对具体的工作环节进行规范、约束，以确保生产、管理活动的正常、有序、优质进行。 本文档可根据实际情况进行修改和使用。 真空镀膜设备是电阻加热式蒸发真空镀膜设备。操作人员必须详细阅读该机说明书, 了解设备结构、工作原理、操作程序并由专业人员指导培训, 熟练掌握各操作要领。经有关专业人员确认符合操作规范, 方能独立上岗操作。 一、该机开机前应先检查电控柜的接线是否有松脱现象, 接上电源, 并检查真空室内电极绝缘性, 钨丝接触是否可靠, 工件架转动是否自如。联轴器, 输入电极接触是否良好, 各密封处特别是动密封处是否良好。还需检查扩散泵、旋片泵、罗茨泵、滑阀泵等的油量是否满足要求。提供的电源、气源, 各种机械泵转向都应正确。注意：试验罗茨泵转向一定要在真空状态下进行。 经过上述检查, 各项性能良好, 才能进行抽气试机。如果镀膜室长期暴露大气, 还必须进行炼气, 就是按照操作规程, 不进行镀膜, 只让机械泵、扩散泵等连续抽气, 察看真空度上升的稳定情况, 若真空度保持稳定, 才能进行下一步操作。一般炼气时间要达10小时以上。调试时主要检查： 1.真空检漏 2.检查极限压强 3.抽气时间 第2页/共5页

镀膜机安全操作规范

ZHL-1800立式真空镀膜机安全操作规程 版本号：A 编号：Q/HZE-J06-024-2009 一、目的与适用范围： 1.1消除一切使设备遭到损坏、使人身健康与安全受到威胁、使环境遭到污染的因素或现象，避免设备事故的发生，实现安全正常生产。 1.2本制度适用于ZHL-1800立式真空镀膜机； 二、职责： 2.1操作工必须严格按照《ZHL-1800立式真空镀膜机使用说明书》操作 2.2车间主任必须对加工过程进行有效控制，防止意外事故发生 三、安全操作规程： 3.1.1员工着穿整洁，袖口扣紧（佩戴袖套），上衣下摆不能敞开，不得穿拖鞋、高跟鞋； 3.1.2检查电路各控制开关能否正常断开闭合，电压指示380±20V； 3.1.3检查各螺钉处连接是否牢固，电控柜、主机的连接线有无松脱现象、接地是否良好；所有电器的开关置在零或者“关”的位置上； 3.1.4检查镀膜机室内不锈钢挡板的插销是否牢固，角部有无弯曲翘曲等变形情况； 3.1.5检查水压、气压是否正常；水、油、气是否有漏滴现象； 3.1.6设备中途停水时，应立即关闭扩散泵、粗抽泵、罗茨泵，让维持泵继续运行； 3.1.7设备中途停气时，应立即关闭扩散泵、粗抽泵、罗茨泵，让维持泵继续运行； 3.1.8设备中途停电时，应立即关总电源，后关扩散泵、粗抽泵、维持泵； 3.1.9扩散泵加热时，避免人身体接触扩散泵加热炉、以免烫伤； 3.2.1工件旋转时，禁止一切作业；应待工件完全停止转动后，才可进行上下滚筒作业； 3.2.2电镀作业完成后，需要打开门时，应有作业人员扶住拉手，缓慢的将门打开，并将插销插入固定孔中； 3.2.3操作人员必须严格按设备操作指导书和安全操作规程进行作业，注意设备本身及设备运行中的安全，特别要重视安全装置的检查与使用。 四、相关文件 无

真空镀膜机构成

JN-CLD系列真空磁控溅射镀膜机型号及技术参数 性能型号JN-CLD-700 JN-CLD-900 JN-CLD-1000 JN-CLD-1250 JN-CLD-1400 JN-CLD-1600 镀膜室尺寸Ф700×H900 mm Ф900×H1100m m Ф1000×H1200 mm Ф1250×H1350 mm Ф1400×H1600 mm Ф1600×H1800m m 电源类型灯丝电源、脉冲偏压电源、直流磁控电源、中频磁控电源、射频磁控电源、线性离化源 真空室结构立式双开门、立式前开门结构、后置抽气系统 真空室材质优质不锈钢材质腔体 极限真空 6.0×10-4Pa 抽气时间 (空载） 从大气抽至8.0×10-3Pa≤15分钟 真空获得系 统 扩散泵或分子泵+罗茨泵+机械泵+维持泵（具体型号可根据客户的要求进行配置） 镀膜方式磁控溅射镀膜 制膜种类金属膜、反应膜、化合物膜、多层膜、半导体膜 磁控靶类型矩形磁控靶、圆柱形磁控靶、孪生磁控对靶 磁控电源功 率及磁控靶 数量 根据不同镀膜工艺和客户的需求进行选配 偏压电源10KW/1台20KW/1台20KW/1台30KW/1台40KW/1台50KW/1台工件转架 转动方式行星式公自转、变频调速（可控可调） 工艺气体3路或4路工艺气体流量控制及显示系统选配自动加气系统 冷却方式水循环冷却方式，另需配冷却水塔或工业冷水机或深冷系统。（客户提供） 控制方式手动/自动一体化方式、触摸屏操作、PLC或计算机控制 整机总功率30KW 35KW 40KW 50KW 65KW 80KW 报警及保护对泵和靶等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警，并执行相应保护措施及电气联锁功能。设备占地面 积 W2m×L3m W2.5m×L3.5m W3m×L4m W4m×L5m W4.5m×L6m W5m×L7m 其他技术参水压≥0.2MPa、水温≤25℃、气压0.5-0.8MPa

真空镀膜相关知识

1.真空镀膜机真空抽不上去: 抽空时间相同，而真空度偏低，这时候关闭主阀，如真空计指针很快下降，多数情况是真空室漏，应先查出漏点。如真空计指针下降很慢，多数情况是真空机组抽气能力不够，重点查找真空泵及阀门看哪里出现泄漏，或是扩散泵油污染或氧化；或前级管路密封不好，泵油不足；或泵油乳化，轴封漏油等。漏--分内漏和外漏，较大的漏点可以用火焰法，利用气流能使火焰偏离的原理，先抽上真空，比如用蜡烛或打火机在可疑点附近逐步查寻，会发现火苗向漏点偏移，则可找到漏点。查找小漏和微漏：利用在高真空状态下电离管对某些气体反应敏感来检漏，比如丙酮或乙醇，用医用注射器向可疑的地方喷射丙酮或乙醇，喷到漏点时，电离计的指针会有明显摆动。用这种方法检漏一定要有耐心，一定要等到电离计的示值稳定了--也就是真空机组的抽气能力和漏率平衡了，然后再喷射。最好是反复几次，确认漏点。内漏多发生在有水冷套的设备上，查外漏没有发现疑点，但是却有以下现象：机械泵的抽速明显偏低、真空计示值低、机械泵油很快乳化、真空室内的铁基零部件明显锈蚀。具备以上条件基本可以确定有内漏。 2.真空淬火炉达不到真空度:可能是真空机组

的抽气能力不够，也可能是漏率偏高，或两者都有，将真空室抽到一定的真空状态后，关闭真空阀，如果真空计数值上升很快，多数情况是真空室漏，这时应先查出漏点并且治漏。如真空计数值上升很慢，就可能是真空机组抽气能力不够，重点查找真空泵及阀门的泄漏上，或真空泵油污染、氧化，或前级管路密封不好，泵油不足，或泵油乳化，轴封漏油等，这时要更换真空泵油或直接更换真空泵。如果设备真空度在短时间内迅速下降，一般是炉门、真空阀、中间隔热门等动态密封件老化、划伤及氧化皮脱落至密封线上所致，可以通过清理更换密封件，手动开关阀门检修。如果没有问题，那就检查真空室与外界接口位置，如连接法兰、水冷电极、管道及真空管等，有时可使用丙酮检漏法观察真空度变化，仔细查找漏点。实在找不到漏点的话，就要把所有怀疑可能漏气的地方全部拆检并重新安装，或者加工实心法兰堵住后进行试验。 3.真空镀膜机抽气慢:从粗抽开始检查,如果抽的时间就长,那就是滑阀泵有问题,或前面的管道有漏气,如果粗抽没问题就是扩散泵的事了,一般是清理泵腔换掉泵油。 4.真空镀膜机维修：一、当正在镀膜时真空度突然下降

真空镀膜操作规程

真空镀膜操作规程 Prepared on 22 November 2020

真空镀膜操作规程 一、准备： 1、开启设备总电源，稳压器，确认三相供电电压正常：370 —440V； 2、开启电容补偿器； 3、确认水池冷却水水量充足（见浮标尺）打开循环水泵； 4、根据工艺要求，确定是否需要启动冷水机以及启动几台冷 水机；启动前应确认冷水机入口水压-3kg，内部增压泵旋转正常，可采用自动或手动方式启动； 5、确认各部分冷却水循环系统完好，确认扩散泵循环水工作 正常，紧急冷却系统准备就绪； 6、确认工艺气体气压不低于20个大气压 7、装基膜： A、领膜：镀膜工按生产任务单要求，从净化室中领到基膜 时，应立即检查该膜是否合格，有无花纹、斑点、划伤、 污迹，收卷是否整齐等直接观测到的问题，如有应立即向 生产主管报告，以决定是否采用； B、装轴：操作时必须带手套，将合格的基膜放在专用膜托架 上，取一对尺寸相同的轴安装好，安装时请注意膜的正反 面，确认一切准备就绪了，即可吊装。吊装时必须轻拿轻

放，严禁碰撞，必须保持基膜水平，以免膜打滑引起螺纹 状； C、装膜：确认冷辊无冷凝水后，即可装膜，装膜时不要对着 膜讲话，以保持膜面干净。注意不要碰透过率分析仪的探 头，装膜时应保证膜在冷辊的中心； D、按任务书车速要求设置镀膜速度、张力； E、试卷：引膜完成后，手动预卷几圈，打开张力控制器， 启动冷辊、收卷、卷膜（其中ITO膜卷1—2m，前档膜和 建筑膜卷20m）。仔细观察膜是否走正，启动是否容易， 冷辊是否与膜同步，走速是否平稳，膜是否变形、起皱、 划伤等等，并及时处置，最后用记号笔在放料端画起始标 志线； 8、按生产任务书要求确认各靶位、布气系统、电源配置正 确，靶材量充足，确认无其他物品遗忘在真空室内或小车上，关闭真空室； 二、抽真空 1、扩散泵预加热（约需40分钟）：启动维持泵，确认运转正 常后，打开维持阀（灯亮），逐一打开扩散泵； 2、低抽：确认真空室门已关闭启动计算机，进入镀膜系统监 控程序，充气阀关闭，启动机械泵（1、2），确认机械泵正常运行后，开预抽阀，五分钟后打开复合真空计，打开罗茨泵开

真空镀膜机操作程序

真空镀膜机操作程序 真空镀膜机操作程序，是参照北京仪器厂生产的DM-450C型说明书修改编写。具体操作时请参照该设备说明书 和设备上仪表盘指针显示及各旋钮下的标注说明。 ①检查镀膜机各操作控制开关是否在"关"位置。 ②打开总电源开关，设备送电。 ③低压阀拉出。开充气阀，听不到气流声后，启动升钟罩阀，钟罩升起。 ④安装固定钨螺旋加热子。把PVDF薄膜和铝盖板固定在转动圆盘上。把铝丝穿放在螺旋加热子内。清理钟罩内各部位，保证无任何杂质污物。 ⑤落下钟罩。 ⑥启动抽真空机械泵。 ⑦开复合真空计电源（复合真空计型号：Fzh-1A)。 a.左旋钮“1”顺时针旋转至指向2区段的加热位置。 b.低真空表“2”内指针顺时针移动，当指针移动至110mA时，左旋钮"1"旋转至指向2区段测量位置。 ⑧当低真空表“2”内指针再次顺时针移动至6.7Pa时，低压阀推入。这时左旋钮“1”旋转至指向1区段测量位置。 ⑨开通冷却水，启动扩散泵，加热40min。 ⑩低压阀拉出。重复一次⑦动作程序：左下旋钮“1”转至指向2区段测量位置。低真空表“2”内指针顺时针移动，当指针移动至6.7Pa时，开高压阀（阀杆顺时针旋转）。 ?等低真空表“2”内指针右移动至0.1Pa时，开规管灯丝开关。 a. 发射、零点测量钮“9”旋转至指向发射位置。 b. 左下旋钮“1”旋转至指向1区段测量位置。 ?旋转发射调节钮“4”，使高压真空表“5”内指针指向5。 ?发射、零点、测量旋钮“9”旋转至指向零点位置。 ?旋转零点调节钮“10”，让高压真空表“5”内指针指向0位置。 ?发射、零点、测量旋钮“9”旋转至指向测量位置。 ?旋转标准调节钮“3”，让高压真空表“5”内指针指向10。 ?旋转“倍加器”开关钮“8”至指向10-12，当高压真空表“5”内指针逆时针左移超过1时，再把“倍加器”开关旋钮“8”旋转至指向10-3。 ?当高压真空表“5”内指针逆时针移动超过6.7Pa时，开工件旋转钮开关，钟罩内被镀件PVDF膜转动。 ?开蒸发钮开关。把电流分插塞插入蒸发电极分配孔内（设有1、 2、 3、 4孔，可插入任意一孔）。 ?右手旋转右侧调压器手轮，慢慢旋转升压。 a. 从视镜窗口观察钨螺旋加热子的加热温度颜色变化情况。 b. 当钨螺旋加热子颜色变成黄橙色，铝丝开始熔化时，左手操作挡板钮，移开钨螺旋上方挡板。 c. 铝丝全部熔化蒸发，挡板回原位。