PCB真空蚀刻技术详细分析,原理和优势详细概述

PCB真空蚀刻技术详细分析,原理和优势详细概述

蚀刻过程是PCB生产过程中基本步骤之一，简单的讲就是基底铜被抗蚀层覆盖，没有被抗蚀层保护的铜与蚀刻剂发生反应，从而被咬蚀掉，最终形成设计线路图形和焊盘的过程。当然，蚀刻原理用几句话就可以轻而易举地描述，但实际上蚀刻技术的实现还是颇具有挑战性，特别是在生产微细线路时，很小的线宽公差要求，不允许蚀刻过程存在任何差错，因此蚀刻结果要恰到好处，不能变宽，也不能过蚀。

进一步解释蚀刻的过程，PCB制造商更愿意使用水平的蚀刻线进行生产，以实现最大程度上的生产自动化，使生产成本降低，但水平蚀刻也不是十全十美，无法消除的“水池效应”使板的上表面和下表面产生不同的蚀刻效果，板边的蚀刻速率比板中心的蚀刻速率快，有时候，这种现象会使板面上的蚀刻结果产生比较大的差异。

也就是说，“水池效应”会使板边上的线路过蚀比板中心的线路过蚀大，甚至精心进行的线路修正（在板边上适当地加宽线路宽度），来补偿不同的蚀刻速率也会出现失败，因为要获得超细的线路必须非常精细的控制蚀刻公差。

这种情况导致蚀刻速率的变化是十分显著的。位于线路板上面，靠近板边的部分，蚀刻液更容易流出板外，新旧蚀刻液更容易进行交换，因此保持了较好的蚀刻速率。而在板中心的位置，比较容易形成“水池”情况，蚀刻剂的流动因此受到限制，富含铜离子的溶液流出板面相对要难一些，结果对比板边或板的下面，蚀刻效率降低，蚀刻效果变差。实际上，在实践中不太可能避免“水池效应”，因为链条式的水平传动辊轮会阻止蚀刻液的排出，结果导致蚀刻液在辊轮间积聚，这种现象在生产面积较大的板或超微细线路时更加明显，即使是采用了比较特殊的生产过程控制和补偿方式，例如水平于传输方向可独立调整的喷淋系统、增加振荡式的喷淋管及增加矫正性的再蚀刻段等，如果没有巨大的技术投入，这个问题也无法很好解决，于是实现避免“水池效应”的目标又不不得不回到起点，重新开始。

在去年底，PILL e.K.发布了一项新的工艺技术，仅通过抽水泵来吸取使用过的蚀刻液就可改善板面朝上部分的蚀刻液的流动性，从而阻止水坑效应的产生。这种方法被称为真空

真空镀膜的现状与发展趋势

真空镀膜的现状与发展趋势 发布日期：2010-07-17 <<返回前一页 -------------------------------------------------------------------------------- 薄膜是一种物质形态，它所使用的膜材料非常广泛，可以是单质元素或化合物，也可以是无机材料或有机材料。薄膜与块状物质一样，可以是单晶态的，多晶态的或非晶态的。近年来功能材料薄膜和复合薄膜也有很大发展。镀膜技术及薄膜产品在工业上的应用非常广泛，尤其是在电子材料与元器件工业领域中占有及其重要的地位。 镀膜方法可以分为气相生成法，氧化法，离子注入法，扩散法，电镀法，涂布法，液相生长法等。气相生成法又可分为物理气相沉积法，化学气相沉积法和放电聚合法等。 真空蒸发，溅射镀膜和离子镀等通常称为物理气相沉积法，是基本的薄膜制备技术。它们都要求淀积薄膜的空间要有一定的真空度。所以，真空技术是薄膜制作技术的基础，获得并保持所需的真空环境，是镀膜的必要条件。 真空系统的种类繁多。在实际工作中，必须根据自己的工作重点进行选择。典型的真空系统包括：获得真空的设备（真空泵），待抽空的容器（真空室），测量真空的器具（真空计）以及必要的管道，阀门和其它附属设备。 1.真空蒸发镀膜法 真空蒸发镀膜法是在真空室中，加热蒸发容器中待形成薄膜的原材料，使其原子或分子从表面气化逸出，形成蒸汽流，入射到固体（称为衬底或基片）表面，凝结形成固态薄膜的方法。真空蒸发镀膜又可以分为下列几种： 1.1 电阻蒸发源蒸镀法 采用钽，钼，钨等高熔点金属，做成适当形状的蒸发源，其上装入待蒸发材料，让气流通过，对蒸发材料进行直接加热蒸发，或者把待蒸发材料放入氧化铝，氧化铍等坩锅中进行间接加热蒸发，这就是电阻加热蒸发法。 利用电阻加热器加热蒸发的镀膜机结构简单，造价便宜，使用可靠，可用于熔点不太高的材料的蒸发镀膜，尤其适用于对镀膜质量要求不太高的大批量的生产中，迄今为止，在镀铝制镜的生产中仍然大量使用着电阻加热蒸发的工艺。 电阻加热方式的缺点是：加热所能达到的最高温度有限，加热器的寿命液较短。近年来，为了提高加热器的寿命，国内外已采用寿命较长的氮化硼合成的导电陶瓷材料作为加热器。据日本专利报道，可采用20％～30％的氮化硼和能与其相熔的耐火材料所组成的材料来制作坩锅，并在表面涂上一层含62％～82％的锆，其余为锆硅合金材料。 1.2 电子束蒸发源蒸镀法 将蒸发材料放入水冷钢坩锅中，直接利用电子束加热，使蒸发材料气化蒸发后凝结在基板表面成膜，是真空蒸发镀膜技术中的一种重要的加热方法和发展方向。电子束蒸发克服了一般电阻加热蒸发的许多缺点，特别适合制作熔点薄膜材料和高纯薄膜材料。 依靠电子束轰击蒸发的真空蒸镀技术，根据电子束蒸发源的形式不同，又可分为环形枪，直枪，e型枪和空心阴极电子枪等几种。 环形枪是由环形的阴极来发射电子束，经聚焦和偏转后打在坩锅内使金属材料蒸发。它的结构较简单，但是功率和效率都不高，基本上只是一种实验室用的设备，目前在生产型的装置中已经不再使用。 直枪是一种轴对称的直线加速枪，电子从灯丝阴极发射，聚成细束，经阳极加速后打在坩锅中使镀膜材料融化和蒸

真空脱气机控制器详细讲解

真空脱气机控制器说明书 一、功能说明 1、液晶面板显示工作状态、时钟时间。 2、显示公司联系电话。 3、在面板上可以设定各项参数，操作设备。 4、排气方式有液位和时间两种，液位方式中设有高中低三个液位控制信号输 入端，控制进水电磁阀和排水泵。排水泵除了低液位信号端开时停止工作，其他位置信号接通时均处于工作状态；进水电磁阀在中液位信号端开时开始工作，到高液位信号接通时停止工作。 5、设备自动工作时设有定时、远控两种工作方式 6、控制器设有故障信号输入、输出等多种信号供用户选择使用。 二、面板图 面板布置图介绍 1、面板设有电源、故障、远控、就地4个指示灯。 2、液晶面板内显示当前时间和工作状态。 3、“工作方式”键：选择自动/手动模式，手动模式：可以在面板上直接操作 “电磁阀”和“排水泵”开和关。自动模式：可以按照设定时间或远地控制设备开和关。 4、“ESC”（F1）键：进入主菜单页面、参数设定。

5、“ENT”（F2）键：在主菜单页面时进入故障查询。在参数设定状态时：进入 或保存退出参数修改。 6、“《/F3”键：在主菜单页面时进入帮助信息查询；在参数设定状态时向左移 位设定值。 7、“^\F4”键：在主菜单页面时返回工作状态页面；在参数设定状态时增大设 定值。 8、“V\F5”键：在参数设定状态时向减小设定值。 三、端子功能 真空脱气机 输入信号 输出信号 水位上升 进水阀关排水泵开高液位进水阀关排水泵开进水阀开排水泵关中液位进水阀开排水泵开进水阀开排水泵关低液位进水阀开，排水泵关

四、功能表设定

五、输入输出点属性 六、电气接线图 控制原理图 真空脱气机

真空镀膜试验

真空镀膜实验 一、 实验目的 真空镀膜技术广泛地应用在现代工业和科学技术中，光学仪器的反射镜，增透镜，激光器谐振腔的高反射膜，计算机上存储和记忆用的磁性薄膜，以及材料表面的超硬薄膜。此外在电子学、半导体等其它各尖端学科也都采用了真空技术。 本实验的目的是学习真空蒸发镀膜技术。通过本门实验，要求学生掌握如下几点：①较系统了解真空镀膜仪器的结构；②了解真空系统各组件的功能；③了解石英晶体振荡器测厚原理；④掌握真空蒸镀的基本原理；⑤了解真空镀膜仪器的基本操作。 二、预习要求 要求学生在实验之前对真空系统有一定了解，可以通过以下几本相关书籍获得相关信息。《薄膜材料制备原理、技术及应用》—— 唐伟忠著，冶金工艺出版社出版社；《薄膜物理与技术》—— 杨邦朝，王文生编著，电子科学出版社；《薄膜技术》—— 王力衡，清华大学出版社；《薄膜技术》—— 顾培夫，浙江大学出版社；《真空技术物理基础》—— 张树林，东北工学院出版社；《真空技术》—— 戴荣道，电子工业出版社。 三、实验所需仪器设备 实验过程需要的主要设备为DMDE 450型光学多层镀膜机。 真空镀膜机：本实验使用DMDE-450光学多层镀膜机，其装置结构如图3所示。它主要由真空系统、蒸发设备及膜厚监控系统组成。真空系统由各种真空器件组成，主要包括：真空室；真空泵（机械泵、和分子泵）；真空导管；各种真空阀门和测量真空度的真空计等。高真空阀门为碟式，机械泵与分子泵的连通阀门为三同式，将阀门拉出时，机械泵可以直接对镀膜室抽气，推入时机械泵与分子泵连通，同时也切断了机械泵与镀膜室的连接。 蒸发系统由真空钟罩，蒸发电极（共有二对）， 活动挡板，蒸发源，底盘等组成。蒸发源安装在电 图3镀膜机装置图 1电离管 2高真空碟阀 3分子泵 4机械泵 5低真空磁力阀 6储气桶 7低真空三同阀 8磁力充气阀 9热偶规 10钟罩 11针型阀

各种真空泵的工作原理

各种真空泵的工作原理 水环式真空泵/液环真空泵工作原理 水环真空泵(简称水环泵)是一种粗真空泵，它所能获得的极限真空为2000~4000Pa，串联大气喷射器可达270~670Pa。水环泵也可用作压缩机，称为水环式压缩机，是属于低压的压缩机，其压力范围为1~2×105Pa表压力。 水环泵初用作自吸水泵，而后逐渐用于石油、化工、机械、矿山、轻工、医药及食品等许多工业部门。在工业生产的许多工艺过程中，如真空过滤、真空引水、真空送料、真空蒸发、真空浓缩、真空回潮和真空脱气等，水环泵得到广泛的应用。由于真空应用技术的飞跃发展，水环泵在粗真空获得方面一直被人们所重视。由于水环泵中气体压缩是等温的，故可抽除易燃、易爆的气体，此外还可抽除含尘、含水的气体，因此，水环泵应用日益增多。 在泵体中装有适量的水作为工作液。当叶轮按图中顺时针方向旋转时，水被叶轮抛向四周，由于离心力的作用，水形成了一个决定于泵腔形状的近似于等厚度的封闭圆环。水环的下部分内表面恰好与叶轮轮毂相切，水环的上部内表面刚好与叶片顶端接触(实际上叶片在水环内有一定的插入深度)。此时叶轮轮毂与水环之间形成一个月牙形空间，而这一空间又被叶轮分成和叶片数目相等的若干个小腔。如果以叶轮的下部0°为起点，那么叶轮在旋转前180°时小腔的容积由小变大，且与端面上的吸气口相通，此时气体被吸入，当吸气终了时小腔则与吸气口隔绝;当叶轮继续旋转时，小腔由大变小，使气体被压缩;当小腔与排气口相通时，气体便被排出泵外。 综上所述，水环泵是靠泵腔容积的变化来实现吸气、压缩和排气的，因此它属于变容式真空泵。 泵的工作原理

真空镀膜技术

真空镀膜技术 磁控溅射膜即物理气相沉积(PVD) 金属镀膜不一定用磁控溅射，可以根据成本&工艺需求选择合理的沉积方法，具体有： 物理气相沉积(PVD)技术 第一节概述 物理气相沉积技术早在20世纪初已有些应用，但在最近30年迅速发展，成为一门极具广阔应用前景的新技术。，并向着环保型、清洁型趋势发展。20世纪90年代初至今，在钟表行业，尤其是高档手表金属外观件的表面处理方面达到越来越为广泛的应用。 物理气相沉积(Physical Vapor Deposition，PVD)技术表示在真空条件下，采用物理方法，将材料源——固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体(或等离子体)过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。物理气相沉积的主要方法有，真空蒸镀、溅射镀膜、电弧等离子体镀、离子镀膜，及分子束外延等。发展到目前，物理气相沉积技术不仅可沉积金属膜、合金膜、还可以沉积化合物、陶瓷、半导体、聚合物膜等。 真空蒸镀基本原理是在真空条件下，使金属、金属合金或化合物蒸发，然后沉积在基体表面上，蒸发的方法常用电阻加热，高频感应加热，电子柬、激光束、离子束高能轰击镀料，使蒸发成气相，然后沉积在基体表面，历史上，真空蒸镀是PVD法中使用最早的技术。 溅射镀膜基本原理是充氩(Ar)气的真空条件下，使氩气进行辉光放电，这时氩(Ar)原子电离成氩离子(Ar+)，氩离子在电场力的作用下，加速轰击以镀料制作的阴极靶材，靶材会被溅射出来而沉积到工件表面。如果采用直流辉光放电，称直流(Qc)溅射，射频(RF)辉光放电引起的称射频溅射。磁控(M)辉光放电引起的称磁控溅射。电弧等离子体镀膜基本原理是在真空条件下，用引弧针引弧，使真空金壁(阳极)和镀材(阴极)之间进行弧光放电，阴极表面快速移动着多个阴极弧斑，不断迅速蒸发甚至“异华”镀料，使之电离成以镀料为主要成分的电弧等离子体，并能迅速将镀料沉积于基体。因为有多弧斑，所以也称多弧蒸发离化过程。 离子镀基本原理是在真空条件下，采用某种等离子体电离技术，使镀料原子部分电离成离子，同时产生许多高能量的中性原子，在被镀基体上加负偏压。这样在深度负偏压的作用下，离子沉积于基体表面形成薄膜。 物理气相沉积技术基本原理可分三个工艺步骤： (1)镀料的气化：即使镀料蒸发，异华或被溅射，也就是通过镀料的气化源。 (2)镀料原子、分子或离子的迁移：由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞后，产生多种反应。 (3)镀料原子、分子或离子在基体上沉积。 物理气相沉积技术工艺过程简单，对环境改善，无污染，耗材少，成膜均匀致密，与基体的结合力强。该技术广泛应用于航空航天、电子、光学、机械、建筑、轻工、冶金、材料等领域，可制备具有耐磨、耐腐饰、装饰、导电、绝缘、光导、压电、磁性、润滑、超导等特性的膜层。

真空脱气机使用说明书

真空脱气机使用说明书 1.前言 本使用说明书中对于设备的安装、调试和运行的描述仅适用于 YH-S6A YH-S10A YH-S15A YH-S20A 四个型号。请在安装、调试和运行前仔细阅读本说明，并妥善保存，以便日后参考。 2 概述 真空脱气机在所有闭合水循环系统中都能高效地运转。它的工作原理是将水循环系统中的一部分液体置于真空的环境下，此时液体中的游离态气体及溶解态气体就会释出。之后，这部分已经过脱气处理的、具有吸收性的液体将被注回水循环系统中参加循环。它们会重新吸收系统中的游离态气体和溶解态气体，以再次达到平衡。经过多次这样的过程之后，水循环系统中的游离态气体及溶解态气体就都被去除了。 2.1设备结构

2.2脱气机的工作过程 真空脱气机能按照用户预先设定的脱气程序自动运行，脱气过程可分为两个阶段： 1）进水阶段：系统中的液体进入脱气罐，液体中含有的所有气体都会被释出，并通过脱气罐顶部的自动放气阀与系统分离。 2）抽真空阶段：立式多级泵会对罐内持续抽真空，制造负压状态，使液体中溶解态气体全部释出，聚集在罐的顶部并通过自动放气阀排出。此时进水电磁阀再次打开，新的液体进入罐内。那些经脱气处理过的、有吸收性的液体被重新注回系统中参与循环，并重新吸收系统中的气体。 2.3 运行条件

真空脱气机适用于水循环系统或水--乙二醇（≤40%）混合液系统。若用于其它介质系统有可能导致不可预知的损害，由此导致的影响本公司不承担任何责任。请依据本说明第3 章中列出的技术参数对真空脱气机进行操作。 3.技术参数

4 安全保障 ·须由专业人员对设备进行安装和维护。 ·设备运行前，为保证安全，请断开电源和水压。 ·机体内有发热组件，请务必冷机启动 5 安装调试 5.1安装要求 ·请将设备安放在通风干燥的地方。 ·设备连接到380V/50-60Hz 电源。 ·请确认配备合适的定压膨胀系统，水进出脱气机时会引起系统压力的小幅波动。 ·系统中必须设有超压保护阀，以防止系统压力过高。 5.2安装和固定 ·建议将设备安装在系统的温度最低点(只针对供暖系统)，这样有利于溶解气体的脱除。 ·安装真空脱气机时一定要注意使控制面板向外，以易于操作。·设备要依据当地的施工操作规范安装。 ·原则上真空脱气机可并联安装在系统的任何位置上，建议将设备并联到系统主回水干管上，这样有利于溶解气体的脱除。 电器方面

真空脱气机

真空脱气机 产品型号：YD-TJ 真空脱气机简介 真空脱气机又称为：真空喷射式排气装置、真空排气装置、真空脱气罐、真空脱气装置、真空脱气机组、真空溅射式排气装置等。 采暖和制冷系统中如果存有气体，系统容易产生气阻，从而造成局部或整个系统的循环不畅，水阻增到致使供暖系统不热，制冷系统不冷。 同时由于水中含有氧气而使得供热（制冷） 设备、管道和钢制散热器有氧腐蚀，造成穿孔、漏水。系统中存有气体还会造成水泵的腐蚀，直接影响到整个系统的安全。真空脱气机采用真空脱气方法，快捷的脱除系统内的游离气体及溶解性气体，使得系统能够安全可靠运行。在循环水系统当中，很多用户将软水器、定压补水装置、螺旋除污器和真空脱气机配合使用，既能减少结垢，使系统压力稳定，降低能耗；又能减缓腐蚀吗，降低噪音，降低水的浊度。 真空脱气机是盈都环保设备有限公司引进的美国、英国发达国家具有世界先进水平的真空脱气技术，生产的新一代循环水系统脱气装置。有效解决由于供暖和制冷系统中，因存在气体导致的局部或整体系统循环不通畅的气阻现象、系统中因含有氧气造成的管网中的噪音、换热器换热效果差等一系列问题。真空脱气机是循环水系统中不可缺少的二中院组成部分。 折扣脱气机广泛应用与暖通空调循环水系统，能够有效脱除水中游离态和溶解态的空气和氧气，脱气效率大于99%，从而彻底解决管路气阻气堵问题，消除管网系统噪音，大大减轻散热器和管道的氧腐蚀，消除水泵气蚀，延长使用寿命。 真空脱气机工作原理 真空脱气机根据亨利定律，气体在水中的溶解度与水温和压力有关。在一定温度下，与气体的压力成正比，在一定的压力下，水温降低，气体的溶解度增加，水温升高，气体溶解度降低。当降低水面的压力，则可在较低的水温下，式溶于水中的气体析出，从而除去水中的气体。真空脱气机就是通过产生真空，将水中的游离气体和溶解气体释放出来，在通过自动排气阀排出系统，脱气后的水再注入系统。这些低含气量的水是不饱和水，对气体具有高度的吸收性，它将吸收系统中的气体从而达到气水平衡。真空脱气机每20-30秒重复一次这样的循环。如此循环往复，将系统中的大部分气体脱除。 真空脱气机照片

真空镀膜技术的现状及发展

真空镀膜技术的现状及发展 薄膜是一种物质形态，它所使用的膜材料非常广泛，可以是单质元素或化合物，也可以是无机材料或有机材料。薄膜与块状物质一样，可以是单晶态的，多晶态的或非晶态的。近年来功能材料薄膜和复合薄膜也有很大发展。镀膜技术及薄膜产品在工业上的应用非常广泛，尤其是在电子材料与元器件工业领域中占有及其重要的地位。 镀膜方法可以分为气相生成法，氧化法，离子注入法，扩散法，电镀法，涂布法，液相生长法等。气相生成法又可分为物理气相沉积法，化学气相沉积法和放电聚合法等。 真空蒸发，溅射镀膜和离子镀等通常称为物理气相沉积法，是基本的薄膜制备技术。它们都要求淀积薄膜的空间要有一定的真空度。所以，真空技术是薄膜制作技术的基础，获得并保持所需的真空环境，是镀膜的必要条件。 真空系统的种类繁多。在实际工作中，必须根据自己的工作重点进行选择。典型的真空系统包括：获得真空的设备（真空泵），待抽空的容器（真空室），测量真空的器具（真空计）以及必要的管道，阀门和其它附属设备。 1 真空蒸发镀膜法 真空蒸发镀膜法是在真空室中，加热蒸发容器中待形成薄膜的原材料，使其原子或分子从表面气化逸出，形成蒸汽流，入射到固体（称为衬底或基片）表面，凝结形成固态薄膜的方法。真空蒸发镀膜又可以分为下列几种： 1．1 电阻蒸发源蒸镀法 采用钽，钼，钨等高熔点金属，做成适当形状的蒸发源，其上装入待蒸发材料，让气流通过，对蒸发材料进行直接加热蒸发，或者把待蒸发材料放入氧化铝，氧化铍等坩锅中进行间接加热蒸发，这就是电阻加热蒸发法。

利用电阻加热器加热蒸发的镀膜机结构简单，造价便宜，使用可靠，可用于熔点不太高的材料的蒸发镀膜，尤其适用于对镀膜质量要求不太高的大批量的生产中，迄今为止，在镀铝制镜的生产中仍然大量使用着电阻加热蒸发的工艺。 电阻加热方式的缺点是：加热所能达到的最高温度有限，加热器的寿命液较短。近年来，为了提高加热器的寿命，国内外已采用寿命较长的氮化硼合成的导电陶瓷材料作为加热器。据日本专利报道，可采用20％～30％的氮化硼和能与其相熔的耐火材料所组成的材料来制作坩锅，并在表面涂上一层含62％～82％的锆，其余为锆硅合金材料。 1．2 电子束蒸发源蒸镀法 将蒸发材料放入水冷钢坩锅中，直接利用电子束加热，使蒸发材料气化蒸发后凝结在基板表面成膜，是真空蒸发镀膜技术中的一种重要的加热方法和发展方向。电子束蒸发克服了一般电阻加热蒸发的许多缺点，特别适合制作熔点薄膜材料和高纯薄膜材料。 依靠电子束轰击蒸发的真空蒸镀技术，根据电子束蒸发源的形式不同，又可分为环形枪，直枪，e型枪和空心阴极电子枪等几种。 环形枪是由环形的阴极来发射电子束，经聚焦和偏转后打在坩锅内使金属材料蒸发。它的结构较简单，但是功率和效率都不高，基本上只是一种实验室用的设备，目前在生产型的装置中已经不再使用。 直枪是一种轴对称的直线加速枪，电子从灯丝阴极发射，聚成细束，经阳极加速后打在坩锅中使镀膜材料融化和蒸发。直枪的功率从几百瓦至几百千瓦的都有，有的可用于真空蒸发，有的可用于真空冶炼。直枪的缺点是蒸镀的材料会污染枪体结构，给运行的稳定性带来困难，同时发射灯丝上逸出的钠离子等也会引起膜层的污染，最近由西德公司研究，在电子束的出口处设置偏转磁场，并在灯丝部位制成一套独立的抽气系统而做成直枪的改进形式，不但彻底干便了灯丝对膜的污染，而且还有利于提高枪的寿命。

真空脱气

实验十六 真空脱气精炼过程的物理模拟实验 1 实验目的 (1)学会物理模型的实验方法 (2)了解RH 精炼装置的工作原理、流动和混合特征 (3)考察操作参数对RH 真空精炼过程的影响 2 实验原理 为了获得纯净钢和超低碳钢，必须对钢水进行真空处理，RH 精炼技术就是其中之一。它是1957年由德国Ruhrstahl 和Heraus 公司共同设计，1959年正式投入工业应用的。80年代以来，日本的研究人员对此技术进行开发，产生了RH-OB ，RH-KTB ，RH-PB 等新技术。RH 主体设备是一个真空槽，槽内下部有上升管和下降管，插入大包钢液中，在真空槽内抽真空，并在上升管中通入.提升氩气，由于气泡浮力的作用，上升管中与氩气混合的钢液向上流动进入真空槽，在槽内发生脱碳反应和脱气反应，然后在重力作用下从下降管流回大包，如此反复，形成连续的循环。因此，不难理解，RH 装置中上升管的直径，喷吹提升氩气的方式和气量，真空度以及真空槽内钢液的深度等均将对RH 装置内的循环流量亦脱气行为产生影响。本实验的重点将利用物理模型考察RH 装置内的流动特征及操作参数和对脱气行为的影响。 (1)相似准则 为了能经济、实效地研究操作参数对脱气过程的影响，根据120t 实际钢液，确定物理模型的几何相似比为1:3，物理模型由有机玻璃制作。 考虑到RH 装置内的湍流流动，在动力相似准数的选择上，选用弗鲁德准数： gD u Fr 2 = (1) 式中u 为特征速度（可指下降管的平均流速），D 为下降管的直径。 特征速度可由下式给出： 2 4D Q u π= (2) 式中Q 为钢液体积流量（m 3/s ） (2)实验参数的确定 根据下降的弗鲁德数相等来确定模型中提升气体流量:

定压补水真空脱气装置

定压补水真空脱气装置 定压补水真空脱气机组是石家庄宇泉环保设备有限公司采用国际先进技术研发的实现集中供热及中央空调系统定压、膨胀、补水、真空脱气四位一体的新型设备。该设备在系统中起到稳压、自动补水、膨胀自动泄水，脱除系统内游离气体及溶解气体等作用。使系统始终处于高效、环保、节能的运动状态。 设备工作原理 定压补水装置利用气压罐的可调节能力，可自动调节用户水量的变化，当用水量减少或不用水时，可较长时间不启动水泵，达到节能目的。与水塔、高位水箱相比可节省投资约40%-60%。该设备结构紧凑，与其他传统的供水装置相比减少了占地面积，节省了土地资源。本设备全自动运行，无需专人管理，工作可靠。 同时在水循环系统中：一方面存在大量气体，如果不加以脱除容易产生气阻，造成局部或整个系统的循环不畅且冷热不均，以及设备和管道的损坏；另一方面水中含有的氧气使得供热（制冷）设备、管道和钢制散热器等末端设备腐蚀，穿孔、漏水直接影响到整个系统的安全。该机组中的脱气设备根据享利定律即：在一定温度及压力下水中溶解一定数量的气体，当温度增加或压力降低时，水中溶解气体将会减少的原理；在不改变水温的情况下通过设备产生真空，将水中的游离气体和溶解气体释放出来，再通过自动排气阀排出系统。脱气后的不饱和水将吸收系统中的气体寻求气水平衡。如此循环，从而脱除系统水中所有气体，确保系统稳定安全运转。 设备特点 1、自动定压，自动补水，自动泄水，自动脱除系统内游离气体、溶解气体。 2、运行参数任意设定，适用于任何密闭定压补水场所。 3、节约能源：自动读取系统信息，只在必要时才启动设备运行。 4、脱气效率和脱氧效率>99% 5、可大大缩短供热或冷却系统初次注水后的排气时间，极有利于系统的初次调试运行。 6、脱除系统中的气体，防止气阻，保证系统正常运行期间稳定可靠。 7、消除水泵气蚀，降低系统运行噪音。 8、由于脱除了水中的氧气，将降低系统的有氧腐蚀，延长设备使用时间。 9、由于脱除了水中的气体，换热器表面上不会附有气体气泡，提高了供热效率。 10、脱气机工作时间和周期可根据需要调节。 11、单台适用系统容量最大可达150m3；可多台并联使用。 12、占地面积小，安装使用方便，全自动运行，安全可靠，易于维修保养。 设备功能 集自动定压、膨胀、补水、真空脱气四位一体 取消膨胀水箱及大型气压水罐，简化系统 延长设备和管道的使用寿命 提高设备的传热效率消除管道噪音及系统中气阻现象脱气单台处理水系统容积最大可到150m3一用一备，双立式泵补水功能 可选用变频控制和一般控制方式 可靠的机械工作性能，全中文操作界面 性能参数 适应系统压力：0.1-2.0Mpa给水压力：≥0.1Mpa环境温度：+5℃～+40℃ 电源：380V/50Hz安装场所：室内 相关型号参数请咨询联系。

PVD真空镀膜简介

PVD真空镀膜简介 1. PVD的含义—PVD是英文Physical Vapor Deposition的缩写，中文意思是“物理气相沉积”，是指在真空条件下，用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。 2. PVD镀膜和PVD镀膜机—PVD(物理气相沉积)镀膜技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀和真空离子镀膜。对应于PVD技术的三个分类，相应的真空镀膜设备也就有真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机这三种。近十多年来，真空离子镀膜技术的发展是最快的，它已经成为当今最先进的表面处理方式之一。我们通常所说的PVD镀膜，指的就是真空离子镀膜；通常所说的PVD镀膜机，指的也就是真空离子镀膜机。 3. PVD镀膜技术的原理—PVD镀膜（离子镀膜）技术，其具体原理是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。 4. PVD镀膜膜层的特点—采用PVD镀膜技术镀出的膜层，具有高硬度、高耐磨性（低摩擦系数）、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点，膜层的寿命更长；同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。 5. PVD镀膜能够镀出的膜层种类—PVD镀膜技术是一种能够真正获得微米级镀层且无污染的环保型表面处理方法，它能够制备各种单一金属膜（如铝、钛、锆、铬等),氮化物膜（TiN、ZrN、CrN、TiAlN）和碳化物膜（TiC、TiCN),以及氧化物膜（如TiO等)。 6. PVD镀膜膜层的厚度—PVD镀膜膜层的厚度为微米级，厚度较薄，一般为0.3μm ～5μm，其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.3μm ～1μm ，因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能，镀后不须再加工。 7. PVD镀膜能够镀出的膜层的颜色种类—PVD镀膜目前能够做出的膜层的颜色有深金黄色，浅金黄色，咖啡色，古铜色，灰色，黑色，灰黑色，七彩色等。通过控制镀膜过程中的相关参数，可以控制镀出的颜色；镀膜结束后可以用相关的仪器对颜色进行测量，使颜色得以量化，以确定镀出的颜色是否满足要求。

真空脱气机原理和应用

真空脱气机的原理和应用 北京九方华宇科技发展有限公司 一、产品综述 供暖及制冷水循环系统中不可避免地会存有一些空气，其来源为系统补水和管网泄漏。这部分气体在系统中以三种形式存在：第一种形式，气体以气团的形式积聚于系统中的高点或局部高点，如管线拐角处，换热器（散热器、风机盘管）顶部等。第二种形式，气体以游离气泡形式随系统中水循环运动。第三种形式，气体溶解于水中，并随水循环运动。上述三种气体存在形式中第一、二种为游离性气体，第三种为溶解性气体，三者之间会不停相互转化，但在无外界条件变化时，其各种形式的存在量会相对稳定。 水中存在的空气会对供暖及制冷水循环系统带来很多不利影响，积聚的气体产生气阻，造成系统阻力不均衡，系统循环不畅，产生噪音、气蚀，这些问题会降低水泵的有效扬程和运行效率，降低设备及管网的使用寿命，换热器表面附有的气泡会降低其传热效率，系统气阻造成系统调试困难，且在运行期间经常需要人工排气。系统中的氧气会造成系统的氧腐蚀。腐蚀导致系统使用寿命降低，直接影响整个系统的安全。 真空脱气脱氧采用压差脱气原理，可适用于任何水系统。它的极强的脱气能力可保证安全快捷地脱除系统内的游离性气体和溶解性气体，使得系统能够安全可靠地运行。 二．目前水循环系统脱气除氧的现状 在工业锅炉水质标准(GB1576-2001)中规定：炉外化学处理时给水溶氧量≤0.1mg/L，锅水当额定功率< 4.2MW的承压锅炉和常压锅炉应尽量除氧，额定功率≥4.2MW的承压锅炉应除氧。北京市供热采暖系统水质及防腐技术规程（DBJ01-619-2004）中规定：与热源间接连接的二次水供暖系统循环水溶氧量≤0.1mg/L，与锅炉房直接连接的供暖系统（无压热水锅炉除外），循环水溶氧量≤0.1mg/L。工业循环冷却水处理规范（GB50050-95）规定：换热设备的冷却水侧管壁腐蚀率小于0.125mm/a，铜、铜合金和不锈钢管壁的腐蚀率小于0.005 mm/a。对敞开式循环冷却水游离氧＝0.5－1.0mg/L。水的溶解氧控制问题是极为严重的问题，目前我国的水循环系统很难达到上述要求，其溶氧量一般都在2 mg/L以上，有的甚至高达5.3 mg/L。 国内外有关专家学者对钢制散热器的腐蚀机理进行了多年的探讨后认为：从腐蚀状况分析，氧化腐蚀及各种氧浓差腐蚀（如缝隙腐蚀、水线腐蚀、点腐蚀、垢下腐蚀）是钢制散热器腐蚀及穿孔的主要原因。 在我国目前的供暖及制冷水循环系统中，除少数大型规范系统进行了除氧外，大部分系统都未采取主动的脱气措施，而是通过控制管线安装坡度，设置顶部自动排气阀，换热器通过人工排气阀排气等。这些

真空脱气脱氧的原理及理论计算

书山有路勤为径，学海无涯苦作舟 真空脱气脱氧的原理及理论计算 真空脱气( 脱氧) 依据原理是亨利定律: 在等温等压下, 某种气体在溶液中的溶解度与液面上该气体的平衡压力成正比。表达式为 p = kc (1) 式中, p 为气体的分压, 单位Pa; k 为亨利常数, 随温度变化, 单位Pa.L/ mol; c 为气体的摩尔浓度, 单位mol/ L。 因此在一定的压力下, 气体在液体中的溶解度与温度成反比; 在一定的温度下, 气体在液体中的溶解度与压力成正比。因此可以通过提高液体温度和降低液面上的压力，使溶解性气体逸出，进行脱气。由于水冷系统的特殊性，采用 降压-产生真空的方式可以在较低的温度下使溶于水中气体析出, 从而去除水中的气体。 由于溶氧量可以由溶氧表在线检测, 因此以溶氧量作为系统的监测目标。假设水冷系统的水温为50 度, 可以依据亨利定律, 通过下面步骤计算出氧在标准大气压1.01300*105 Pa 下、50 度饱和水中的溶解度。 首先从表1 查出水在50 度时的蒸汽压为0.12330*105 Pa, 由于干空气中氧的含量为20.95%, 因此氧的分压为: po2= ( 1.01300- 0.12330) *105 X0.2095= 0.1864X105( Pa) 表1 水在不同温度下的分压 亨利常数随温度变化为 式中, 0 指的是标准温度(298 K) , C 为常数值, 氧为1280。 已知298 K( 25 度) 时亨利常数为1.28X10-8, 代入式( 2) 可得50 度时的亨利常数为0.917X10-8。再代入亨利定律式( 1) 即可求出氧在水中的摩尔浓度

真空脱气机与脱气膜

真空脱气机真空分离的原理 真空脱气装置是根据真空分离的原理，通过在一个特定真空罐内对水进行自动化处理，使气体跟水完全分离，一体化的补水系统可作为一种选择，使用在供暖、制冷及太阳能系统中，用于集中脱气，降低腐蚀，是系统及设备安全稳定运行的可靠保证。 VENTO喷射式真空脱气机工作时，系统水或补水通过泵的抽吸作用进入真空罐，当真空罐充满水后，入口侧电磁阀自动关闭但泵仍继续运行几秒钟，脱气机的特制真空罐内形成负压，系统水经特制的喷射管旋转喷射入真空罐，并被迅速雾化打散。根据亨利定律，当压力降低时，气体的溶解度会减小，致使水中的游离气体和溶解气体被释放出来，聚集在真空罐的顶部，此时进水电磁阀再次打开，新水进入罐内，聚集在真空罐顶部的气体通过自动排气阀排出。而脱气后的水一方面参加系统循环，另一方面因其具有很强的吸收能力，又将系统中的气体，不论是游离的还是溶解的气体吸收，当水再次进入脱气机时，气体又被脱除，如此周而复始，将系统中的气体全部排出。 作为真空脱气技术的先锋，VENTO喷射式真空机几乎可以完全排除系统中的气体，有效提高供热、制冷效率、消除水泵气蚀、降低系统噪音、避免气阻、防止氧气对管道及设备的腐蚀，保证系统稳定可靠运行，延长设备使用寿命，节省用户投资。 空气在水中存在形式： 空气的聚集气体停滞在最高点——在系统充水的过程中，由于气体密度较小，气体被排挤到系统最高点，此时，如果系统的排气阀关闭或存在故障，则聚集在最高点的气体不能被排放。这种情况下，聚集的部分空气会溶解到水里，导致气体在水中呈过饱和状态，所以在系统加热时，水的溶解度降低，在循环过程中便释放出气泡。 大游离气泡存在于流动的水中——在水的流动过程中，水携带大量气泡，在通常情况下，管道内流体中气泡分离困难，如果要分离并收集这些气泡，必须在特殊的装置中进行。 微小游离气泡体积小但数量巨大——肉眼很难发现微小气泡，但微小游离气泡大量存在使水呈现乳白色。当水流动时，气泡以特殊的方式被携带，我们只能通过特殊的分离装置才能将它们分离。如果存在固体粒子，则形成较大的气泡。气体附着在固体表面使得分离过程变得困难，而且增加了危害。 溶解的气体肉眼看不见——气体分子以一种特殊的方式附着在水分子之间，此时只有在高倍显微镜下才可看见气体的存在。当压力降低或水温升高时，才被分离出来。由于在一个系统中，各个位置的温度和压力是不同的，因此，溶解的气体在循环过程中处于溶解与释放的不断变化中。 空气的危害 ○锈蚀与腐蚀，空气随着系统补水进入系统中，空气中的氧分子与管道和设备的金属原子发生化学反应，生成氧化铁，即铁锈。这种化学反应一方面会导致腐蚀，腐蚀严重时会使水管、散热器、锅炉发生泄漏；另一方面腐蚀产物即铁锈随着液体的流动被带到系统的各个位置，沉积下来导致堵塞，阻塞设备零部件、控制阀、水泵、降低锅炉及换热器的换热性能。○压力波动、循环不畅，空气中的氮气及其他气体分子在水中若以游离气泡的形式存在，对系统循环将造成不利影响。一方面，游离气泡使系统中的水量相对降低，压力波动；另一方面，在紊流条件下，某些靠热压工作的部件可能失效，使水泵性能降低或失效，使控制阀不能正常工作，特别在系统低负荷运行状态下，情况更为严重。 ○噪音，系统中的游离气体会随着水流在设备、管道和散热器中流动而产生较大噪音。○降低供热制冷效率，气泡附着在散热面上，阻止热的传导、辐射，从而降低设备的换热

真空脱气机使用说明书

For personal use only in study and research; not for commercial use 真空脱气机使用说明书 1.前言 本使用说明书中对于设备的安装、调试和运行的描述仅适用于 YH-S6A YH-S10A YH-S15A YH-S20A 四个型号。请在安装、调试和运行前仔细阅读本说明，并妥善保存，以便日后参考。 2 概述 真空脱气机在所有闭合水循环系统中都能高效地运转。它的工作原理是将水循环系统中的一部分液体置于真空的环境下，此时液体中的游离态气体及溶解态气体就会释出。之后，这部分已经过脱气处理的、具有吸收性的液体将被注回水循环系统中参加循环。它们会重新

吸收系统中的游离态气体和溶解态气体，以再次达到平衡。经过多次这样的过程之后，水循环系统中的游离态气体及溶解态气体就都被去除了。 2.1设备结构 2.2脱气机的工作过程 真空脱气机能按照用户预先设定的脱气程序自动运行，脱气过程可分为两个阶段： 1）进水阶段：系统中的液体进入脱气罐，液体中含有的所有气体都会被释出，并通过脱气罐顶部的自动放气阀与系统分离。 2）抽真空阶段：立式多级泵会对罐内持续抽真空，制造负压状态，使液体中溶解态气体全部释出，聚集在罐的顶部并通过自动放气阀排

出。此时进水电磁阀再次打开，新的液体进入罐内。那些经脱气处理过的、有吸收性的液体被重新注回系统中参与循环，并重新吸收系统中的气体。 2.3 运行条件 真空脱气机适用于水循环系统或水--乙二醇（≤40%）混合液系统。若用于其它介质系统有可能导致不可预知的损害，由此导致的影响本公司不承担任何责任。请依据本说明第3 章中列出的技术参数对真空脱气机进行操作。 3.技术参数

脱气方法及工作原理

动态顶空脱气 顶空法脱气原理是通过一定的手段（搅拌等）使得油中溶解气体在气液两相达到分配平衡，通过测试气相中的各组分浓度，并根据平衡原理导出的奥斯特瓦尔德（Ostwald）系数计算出油中溶解气体各组分的浓度。奥斯特瓦尔德系数定义为： k i=C oi gi （1） 式（1）中C oi和C gi分别为平衡条件下溶解在油和气相中组分i的浓度；k i表示组分i的奥斯特瓦尔德系数。 对于一个确定的油样来说，脱气完成时（气、液两相浓度比达到平衡）分离出的待检测气体的浓度越高越好，这样有利于仪器的检测。同时，完成脱气所需要的时间越短越好，可以缩短检测间隔，也就是说顶空脱气装置所能达到的脱气率和平衡时间很重要。 脱气率定义为： ηi=U gi oi （2） 式（2）中U gi和U oi分别为脱出气体中某组分气体的浓度和油样中某组分气体的原有浓度。 为了讨论顶空脱气技术脱气效率（包括脱气率和平衡时间）的影响因素，建立模型，如下图1所示，在一个密闭的容器中，下部为待脱气油样，上部为气室（进油样前使用高纯N2吹扫），油中溶解气体在自由扩散和搅拌等扰动的作用下，通过油与顶部气体的接触面进入顶部气室，逐渐趋于平衡。 图1 顶空脱气模型 不考虑搅拌的情况下，溶解在油中的气体逸出到顶空的过程主要是依靠分子热运动的自由扩散，根据菲克定律（扩散通量与截面处的浓度梯度成正比），气体分子逸出的速度与油面和顶空界面两侧的浓度差成正比（气体由溶解态到游离态的自由扩散过程比较缓慢，假设短时间内是稳态扩散），而逸出的阻力来源于油液对于气体分子的溶解吸附，基于这两个基本假设，界面处气体分子的传递速率方程即气室气体分子物质的量的变化率方程为：

真空镀膜工艺简介

真空镀膜工艺资料 真空：低于一个大气压的气体状态。1643年，意大利物理学家托里拆利(E.Torricelli)首创著名的大气压实验，获得真空。自然真空：气压随海拔高度增加而减小，存在于宇宙空间。人为真空：用真空泵抽掉容器中的气体。 真空量度单位 1标准大气压=760mmHg=760(Torr) 1标准大气压=1.013x105 Pa 1Torr=133.3Pa 真空区域的划分 目前尚无统一规定，常见的划分为： 粗真空105-103pa(760-10Torr) 低真空103-10-1pa(10-10-3Torr) 高真空10-1-10-6pa(10-3-10-8Torr) 超高真空10-6-10-10pa(10-8-10-12Torr) 极高真空<10-10pa(<10-12Torr) 真空技术的应用 电子技术、航空航天技术、加速器、表面物理、微电子、材料科学、医学、化工、工农业生产、日常生活等各个领域。 真空获得—真空泵：1654年，德国物理学家葛利克发明了抽气泵，做了著名的马德堡半球试验。原理：当泵工作后，形成压差，p1 >p2，实现了抽气。 真空泵的分类 气体传输泵: 是一种能将气体不断地吸入并排出泵外以达到抽气目的的真空泵，例如旋片机械泵、油扩散泵、涡轮分子泵。 气体捕集泵: 是一种使气体分子短期或永久吸附、凝结在泵内表面的真空泵，例如分子筛吸附泵、钛升华泵、溅射离子泵、低温泵和吸气剂泵。 真空泵的主要参数 抽气速率: 定义为在泵的进气口任意给定压强下，单位时间内流入泵内的气体体积 其中，Q为单位时间内流入泵的气体量。泵的抽气速率S并不是常数，随P而变。

极限压强：P n(极限真空) 最高工作压强：P m 工作压强范围（P n-P m）：泵能正常工作的压强范围 几种常用真空泵的工作压强范围： 旋片机械泵105-10-2pa 吸附泵105-10-2pa 扩散泵100-10-5pa 涡轮分子泵101-10-8pa 溅射离子泵100-10-10pa 低温泵10-1-10-11pa 几种常用真空泵的工作原理 旋片机械泵 工作过程是：吸气—压缩—排气。 定子浸在油中起润滑，密封和堵塞缝隙的作用。主要参量是：抽速和极限压强。 由于极限压强较高，常用做前级泵(预抽泵)。 旋片式机械泵

真空脱气机

真空脱气机 水系统中水质对设备的寿命有很大影响，并且会影响加热和冷却的效率，水中的空气导致腐蚀，低传热效率。投诉增多，总性能降低和设备的过快损坏。空气乃水系统许多问题的源头！这是可以解决的…无空气的水系统是可能的。水精灵真空脱气是一个专为下面这种高层建筑中央空调水系统脱气而设计的降压脱气机。 真空脱气机 [杀菌、灭藻工作原理] SIL 水精灵系列水箱洁净消毒机用于微生物（如菌藻）滋生水质的净化处理，其原理在于经过水箱洁净消毒机处理后，水中细菌和藻类的生态环境发生变化，生存条件丧失而死亡。 [澄清降浊工作原理] 低压电场处理降低了水中细小胶粒的Zeta 电位， 使它们更容易聚合长大、通过过滤或沉淀去除，达到甚至超越水混凝剂的功效。 水箱洁净消毒机 [工作原理] 全能水处理器是具有防垢、杀菌、来藻、防腐、除锈、脱色、超净过滤等多种功能于一体的综合水处理设备。它解决了系统中普遍存在的腐蚀结垢、菌藻滋生及水质的综合问题，是当今水处理行业最为先进的综合水处理设备。 [结构组成] 控制箱、夜晶显示器、波形转换器、波形发射摸 板、线束发射极内置干式高磁铁芯、多层复合机 械过滤网等组成。 全能器 [简述] 对中央空调水处理进行水质稳定处理，如采用人工加药对水质进行控制存在着工作量大、加药控制不问候准确，水质容易失控等比弊病，为此我公司研制开发了国内领先技术——空调水自动加药系统。 自动加药系统是与中内空调水处理相匹配的 一组设备，包括自动加药控制箱、在线测量仪表、

全自动加药设备加药泵、加药桶等部分。它可使系统内的水质获得有效的监控，使水系统内保持适量的均匀的药物浓度，排污量少，节约用水，自动维持系统水质指标在控制范围内，减少劳动量，实现科学管理，降低运行成本。 [工作原理] 是利用物理方法，在不改变水质的前提下，运用 共振学原理和现代化的频率反反馈功能，通过反 馈中心传递的不同信号来向水中发射不同的波 形，来达到防垢、除垢、杀菌、灭藻、防腐蚀的 目的。 [结构组成] 控制箱、波形转换器、波形发射模板、线束发射 极等组成。 变频电子水处理器 [工作原理] 水力旅旋流的工作原理及设计自100多年前 提出，现已广泛应用于化工、环保、食品、医药 等许多工业部门，在水处理领域实现除砂、降浊、 固液分离效果显著。旋鎏除砂器实现固液分离的 应用。 [应用领域] 结构简单，成本低廉，易于安装和操作，几乎不 需要维护。 与扩大管、缓冲箱等除砂设备相比，具有体积小， 处理能力大，节省现场空间。 空调水处理、化学、石油、矿业、医药、造纸、 纺织等行业。 旋流除砂器 [涡街流量计特点] 综合射频水处理器是通过滤体与射频发射极的组 合，来完成对系统存在的结垢、腐蚀、污物、菌 藻的综合处理，过滤体由不铜不锈钢网。导向阀、 排污口组成。通过导向阀的启闭来实现对污物的 截留、反冲排污的全过程。射频发射极是根据系 统需要处理的问题、流量、水质参数配备其数量

真空镀膜技术英语

真空镀膜技术常识及英文术语 2009-03-11 18:51 6.1一般术语 6.1.1真空镀膜vacuum coating：在处于真空下的基片上制取膜层的一种方法。 6.1.2基片substrate：膜层承受体。 6.1.3试验基片testing substrate：在镀膜开始、镀膜过程中或镀膜结束后用作测量和（或）试验的基片。 6.1.4镀膜材料coating material：用来制取膜层的原材料。 6.1.5蒸发材料evaporation material：在真空蒸发中用来蒸发的镀膜材料。 6.1.6溅射材料sputtering material：有真空溅射中用来溅射的镀膜材料。 6.1.7膜层材料(膜层材质)film material：状干膜层的材料。 6.1.8蒸发速率evaporation rate：在给定时间间隔内蒸发出来的材料量除以该时间间隔 6.1.9溅射速率sputtering rate：在给定时间间隔内溅射出来的材料量除以该时间间隔。 6.1.10沉积速率deposition rate：在给定时间间隔内沉积在基片上的材料量除以该时间间隔和基片表面积。 6.1.11镀膜角度coating angle：入射到基片上的粒子方向与被镀表面法线之间的夹角。 6.2工艺 6.2.1真空蒸膜vacuum evaporation coating：使镀膜材料蒸发的真空镀膜过程。 6.2.1.1同时蒸发simultaneous evaporation：用数个蒸发器把各种蒸发材料同时蒸镀到基片上的真空蒸发。 6.2.1.2蒸发场蒸发evaporation field evaporation：由蒸发场同时蒸发的材料到基片上进行蒸镀的真空蒸发(此工艺应用于大面积蒸发以获得到理想的膜厚分布)。 6.2.1.3反应性真空蒸发reactive vacuum evaporation：通过与气体反应获得理想化学成分的膜层材料的真空蒸发。 6.2.1.4蒸发器中的反应性真空蒸发reactive vacuum evaporation in evaporator：与蒸发器中各种蒸发材料反应而获得理想化学成分膜层材料的真空蒸发。 6.2.1.5直接加热的蒸发direct heating evaporation：蒸发材料蒸发所必须的热量是对蒸发材料(在坩埚中或不用坩埚)本身加热的蒸发。 6.2.1.6感应加热蒸发induced heating evaporation：蒸发材料通过感应涡流加热的蒸发。 6.2.1.7电子束蒸发electron beam evaporation：通过电子轰击使蒸发材料加热的蒸发。6.2.1.8激光束蒸发laser beam evaporation：通过激光束加热蒸发材料的蒸发。 6.2.1.9间接加热的蒸发indirect heating evaporation：在加热装置(例如小舟形蒸发器坩埚灯丝加热板加热棒螺旋线圈等)中使蒸发材料获得蒸发所必须的热量并通过热传导或热辐射方式传递给蒸发材料的蒸发。 6.2.1.10闪蒸flash evaportion：将极少量的蒸发材料间断地做瞬时的蒸发。