GMW15777 Material Specification

常用建筑中英文对照表(一)教案资料

保留建筑EXISTING BUILDING 已建建筑AS-BUILT 新建建筑NEW BUILDING 道路ROADWAY 绿化LANDSCAPE 汽车流线CAR ACCESS 行人流线WALK ACCESS 消防车流线FIRE BRIGADE ACCESS 货车流线TRUCK ACCESS 自行车流线BICYCLE ACCESS 消防车道FIRE WAY 主出入口MAIN ENTRENCE 保安室NO.1 GUARD HOUSE 主出入口 1 EXIT 1 地下车库出口BASEMENT PARKING EXIT 自行车停车场BICYCLE PARKING 自行车停车位BICYCLE STAND 总停车位CAR PARK 其中INCLUDE 地上停车位AT-GRADE CAR PARK 地下停车位UNDERGROUND CAR PARK 空调管线AIR CONDITIONING 强电电缆LV 10KV 弱电电缆ELV 电缆10KV HV 供水管SUPPLY WATER 污水管WASTE WATER 雨水管RAIN WA TER 消防管线FIRE HYDRANT 西门子(中国)总部SIEMENS CENTER BEIJING 说明NOTE 1.本图依据城市道路高程及市政管线标高等 资料并结合场地排水、场地地形、土方平衡 等因素进行竖向设计。 1.THE DRAWING WITH "VERTICAL HEIGHT DESIGN" IS BASED ON CITY ROADWAY ENGINEERING WITH CITY BUREAU PIPELINE HEIGHT INDICATION DOCUMENT SITE DRAINAGE, SITE TOPOGRAPHY, AND SOIL BALANCE ARE INCORPORA TED INTO THE DESIGN. 2.本图所用坐标系统为北京市城市坐标系统， 所用高程为规划高程。 2.THE DRAWING INCORPORATES BEIJING CITY COORDINA TE SYSTEM. ALL THE INDICATIVE HEIGHTS ARE PLANNING HEIGHTS. 3.图中道路横坡按1.5%设计，最小纵坡为 0.2%。 3.ALL THE ROADWAY INDICATED ON THE DRAWING IS BASED ON 1.5%HORIZONTAL SLOPE.THE SMALLEST VERTICAL SLOPE IS 0.2%. 4.图中标注单位均为米。 4.BASIC UNIT OF MEASUREMENT IS METRIC. 保留建筑EXISTING BUILDING 已建建筑AS-BUILT 新建建筑NEW BUILDING 道路ROADWAY 绿化LANDSCAPE 地下车库入口BASEMENT PARKING ENTRANCE 坡道RAMP 消防车道FIRE WAY 紧急出口EMERGENCY EXIT 3 2#保安室NO.2 GUARD HOUSE 停车场PARKING 工程地点位置图SITE LOCATION 图例LEGEND 自行车停车场BASEMENT EXIT 1 BICYCLE PARKING H=4.8M 地下室出入口 2 BASEMENT EXIT 2 主出入口 4 PARKING EXIT 4 主出入口 1 EXIT 1 道路ROADWAY 实土绿化COMPACTED SOIL LANDSCAPE 敷土绿化DEPOSITED SOIL LANDSCAPE 通风井VENTILATION OUTLET 冷却塔(两组) COOLING TOWER(2 UNITS) 紧急通道EMERGENCY ACCESS 绿地LANDSCAPE 围挡BARRIER 停车场PARKING 地下车库出入口PARKING ENTRENCE 主出入口MAIN ENTRENCE 1#保安室NO.1 GUARD HOUSE 说明NOTE 1.图中所标注建筑尺寸为外墙皮尺寸. 1.DIMENSIONS INDICA TED ON THE PLAN ARE MEASURED TO EXTERNAL EDGE OF THE BUILDINGS. 2.建筑的坐标点为轴线交点坐标. 2.ARCHITECTURE COORDINATES = INTERSECTION OF THE BUILDINGS AXIS. 3.本图以米为单位,%%P0.000相当于绝对标 高37.75. 3.METRIC SYSTEMS ARE THE UNIT OF MEASUREMENT. 4.本项目对周边现状及规划建筑日照影响满 足相关法规及规范要求, 即日照时数满足大寒日最低2小时的日照要 求. 4.DESIGN COMPLIES WITH LOCAL REGULATION OF SUN SHADING TO NEIGHBORHOOD. 保留建筑面积EXISTING BUILDING 容 积率PLOT RATIO 建筑占地面积BUILDING COVERAGE 建筑密度BUILDING DENSITY 绿化面积GREEN AREA 绿地率GREEN RATIO 总人数TOTAL USERS 机动车停车位CAR PARK 地上其辆65 65 LOTS ABOVE GROUND 地下辆564 中INCLUDE UNDERGROUND 564 LOTS 200辆自行车停车位BICYCLE STAND 200 LOTS 地上辆200 200 LOTS ABOVE GROUND 服务中心SERVICE CENTRE 1号办公楼OFFICE 1 地上 2号办公楼ABOVE GROUND OFFICE 2 地下室出入口1 BASEMENT EXIT1

图像处理中值滤波器中英文对照外文翻译文献

中英文资料对照外文翻译 一、英文原文 A NEW CONTENT BASED MEDIAN FILTER ABSTRACT In this paper the hardware implementation of a contentbased median filter suitabl e for real-time impulse noise suppression is presented. The function of the proposed ci rcuitry is adaptive; it detects the existence of impulse noise in an image neighborhood and applies the median filter operator only when necessary. In this way, the blurring o f the imagein process is avoided and the integrity of edge and detail information is pre served. The proposed digital hardware structure is capable of processing gray-scale im ages of 8-bit resolution and is fully pipelined, whereas parallel processing is used to m inimize computational time. The architecturepresented was implemented in FPGA an d it can be used in industrial imaging applications, where fast processing is of the utm ost importance. The typical system clock frequency is 55 MHz. 1. INTRODUCTION Two applications of great importance in the area of image processing are noise filtering and image enhancement [1].These tasks are an essential part of any image pro cessor,whether the final image is utilized for visual interpretation or for automatic an alysis. The aim of noise filtering is to eliminate noise and its effects on the original im age, while corrupting the image as little as possible. To this end, nonlinear techniques (like the median and, in general, order statistics filters) have been found to provide mo re satisfactory results in comparison to linear methods. Impulse noise exists in many p ractical applications and can be generated by various sources, including a number of man made phenomena, such as unprotected switches, industrial machines and car ign ition systems. Images are often corrupted by impulse noise due to a noisy sensor or ch annel transmission errors. The most common method used for impulse noise suppressi on n forgray-scale and color images is the median filter (MF) [2].The basic drawback o f the application of the MF is the blurringof the image in process. In the general case,t he filter is applied uniformly across an image, modifying pixels that arenot contamina ted by noise. In this way, the effective elimination of impulse noise is often at the exp ense of an overalldegradation of the image and blurred or distorted features[3].In this paper an intelligent hardware structure of a content based median filter (CBMF) suita ble for impulse noise suppression is presented. The function of the proposed circuit is to detect the existence of noise in the image window and apply the corresponding MF

常用材料中英文对照表

常用原材料英文缩写与中文名称对照表A 英文缩写全称 A/MMA 丙烯腈/甲基丙烯酸甲酯共聚物 AA 丙烯酸 AAS 丙烯酸酯-丙烯酸酯-苯乙烯共聚物 ABFN 偶氮(二)甲酰胺 ABN 偶氮(二)异丁腈 ABPS 壬基苯氧基丙烷磺酸钠 B 英文缩写全称 BAA 正丁醛苯胺缩合物 BAC 碱式氯化铝 BACN 新型阻燃剂 BAD 双水杨酸双酚A酯 BAL 2，3-巯(基)丙醇 BBP 邻苯二甲酸丁苄酯 BBS N-叔丁基-乙-苯并噻唑次磺酰胺 BC 叶酸 BCD β－环糊精 BCG 苯顺二醇 BCNU 氯化亚硝脲 BD 丁二烯 BE 丙烯酸乳胶外墙涂料 BEE 苯偶姻乙醚 BFRM 硼纤维增强塑料 BG 丁二醇 BGE 反应性稀释剂 BHA 特丁基-4羟基茴香醚 BHT 二丁基羟基甲苯 BL 丁内酯 BLE 丙酮-二苯胺高温缩合物 BLP 粉末涂料流平剂 BMA 甲基丙烯酸丁酯 BMC 团状模塑料 BMU 氨基树脂皮革鞣剂

BN 氮化硼 BNE 新型环氧树脂 BNS β－萘磺酸甲醛低缩合物 BOA 己二酸辛苄酯 BOP 邻苯二甲酰丁辛酯 BOPP 双轴向聚丙烯 BP 苯甲醇 BPA 双酚A BPBG 邻苯二甲酸丁(乙醇酸乙酯)酯 BPF 双酚F BPMC 2-仲丁基苯基-N-甲基氨基酸酯 BPO 过氧化苯甲酰 BPP 过氧化特戊酸特丁酯 BPPD 过氧化二碳酸二苯氧化酯 BPS 4，4’-硫代双(6-特丁基-3-甲基苯酚) BPTP 聚对苯二甲酸丁二醇酯 BR 丁二烯橡胶 BRN 青红光硫化黑 BROC 二溴(代)甲酚环氧丙基醚 BS 丁二烯-苯乙烯共聚物 BS-1S 新型密封胶 BSH 苯磺酰肼 BSU N，N’-双(三甲基硅烷)脲 BT 聚丁烯-1热塑性塑料 BTA 苯并三唑 BTX 苯-甲苯-二甲苯混合物 BX 渗透剂 BXA 己二酸二丁基二甘酯 BZ 二正丁基二硫代氨基甲酸锌 C 英文缩写全称 CA 醋酸纤维素 CAB 醋酸-丁酸纤维素 CAN 醋酸-硝酸纤维素 CAP 醋酸-丙酸纤维素 CBA 化学发泡剂

图像处理外文翻译 (2)

附录一英文原文 Illustrator software and Photoshop software difference Photoshop and Illustrator is by Adobe product of our company, but as everyone more familiar Photoshop software, set scanning images, editing modification, image production, advertising creative, image input and output in one of the image processing software, favored by the vast number of graphic design personnel and computer art lovers alike. Photoshop expertise in image processing, and not graphics creation. Its application field, also very extensive, images, graphics, text, video, publishing various aspects have involved. Look from the function, Photoshop can be divided into image editing, image synthesis, school tonal color and special effects production parts. Image editing is image processing based on the image, can do all kinds of transform such as amplifier, reducing, rotation, lean, mirror, clairvoyant, etc. Also can copy, remove stain, repair damaged image, to modify etc. This in wedding photography, portrait processing production is very useful, and remove the part of the portrait, not satisfied with beautification processing, get let a person very satisfactory results. Image synthesis is will a few image through layer operation, tools application of intact, transmit definite synthesis of meaning images, which is a sure way of fine arts design. Photoshop provide drawing tools let foreign image and creative good fusion, the synthesis of possible make the image is perfect. School colour in photoshop with power is one of the functions of deep, the image can be quickly on the color rendition, color slants adjustment and correction, also can be in different colors to switch to meet in different areas such as web image design, printing and multimedia application. Special effects production in photoshop mainly by filter, passage of comprehensive application tools and finish. Including image effects of creative and special effects words such as paintings, making relief, gypsum paintings, drawings, etc commonly used traditional arts skills can be completed by photoshop effects. And all sorts of effects of production are

material_studio_中文版帮助手册

欢迎 欢迎使用Materials Studio Materials Studio是一个采用服务器/客户机模式的软件环境，它为你的PC机带来世界最先进的材料模拟和建模技术。 Materials Studio使你能够容易地创建并研究分子模型或材料结构，使用极好的制图能力来显示结果。与其它标准PC软件整合的工具使得容易共享这些数据。 Materials Studio的服务器/客户机结构使得你的Windows NT/2000/XP，Linux和UNIX服务器可以运行复杂的计算，并把结果直接返回你的桌面。 Materials Studio采用材料模拟中领先的十分有效并广泛应用的模拟方法。Accelry’s的多范围的软件结合成一个集量子力学、分子力学、介观模型、分析工具模拟和统计相关为一体容易使用的建模环境。卓越的建立结构和可视化能力和分析、显示科学数据的工具支持了这些技术。 无论是使用高级的运算方法，还是简单地利用Materials Studio增强你的报告或演讲，你都可以感到自己是在用的一个优秀的世界级材料科学与化学计算软件系统。 易用性与灵活性 Materials Studio可以在Windows 98,Me，NT，2000和XP下运行。用户界面符合微软标准，你可以交互控制三维图形模型、通过简单的对话框建立运算任务并分析结果，这一切对Windows用户都很熟悉。 Materials Studio的中心模块是Materials Visualizer。它可以容易地建立和处理图形模型，包括有机无机晶体、高聚物、非晶态材料、表面和层状结构。Materials Visualizer 也管理、显示并分析文本、图形和表格格式的数据，支持与其它字处理、电子表格和演示软件的数据交换。 Materials Studio是一个模块化的环境。每种模块提供不同的结构确定、性质预测或模拟方法。你可以选择符合你要求的模块与Materials Visualizer组成一个无缝的环境。你也可以把Materials Visualizer作为一个单独的建模和分子图形的软件包来运行。 如果你安装了Materials Studio的其它模块，后台运算既可以运行在本机，也可以通过网络运行在远程主机上。这取决于你建立运算时的选择和运算要求。Materials Studio的客户机/服务器模式支持服务器端运行在Windows NT/2000/XP，Linux或UNIX下，使得你可以最大化利用计算资源。 效率和交流 所以的研究人员都可以从Materials Studio强大功能中获益。这份文档的“演示”部分给出了一些简单的分子和材料的模型。这能使你获得对材料的更好的理解并能创建优秀的图形。与其它Windows软件的协同工作使得能容易地拷贝粘贴这些图形到其它文档。结构和性质的数据能容易地从电子表格和数据库中导入导出。Materials Studio帮助你显示和共享数据。Materials Visualizer也可以安装在研究部门、生产部门、

vray各种材质中英文对照参数大全

1.白色乳胶漆 Diffuse （漫反射）245 Reflect （反射） 23 Hight glossiness （高光） 取消Trace reflections （跟踪反射） 2.清玻璃 Diffuse （漫反射）R30 G88 B98 Reflect （反射） 255 Hight glossiness （高光） Refl glossiness (光泽) Refract (折射) 255 开启Fresnel reflect （菲尼尔反射） 3.磨砂玻璃 Diffuse （漫反射）255 Diffuse （漫反射）/Refract (折射) 200 Subdivs (细分) 4 Glossiness（光泽度） IOR （折射率） 在Bump（凹凸）通道中添加Noise（澡波）贴图， 调整size（大小）开启Fresnel reflect （菲尼尔反射）4.不锈钢材质 Diffuse （漫反射）60 Reflect （反射） 200 Hight glossiness （高光） Refl glossiness (光泽)

5.白陶瓷 Diffuse （漫反射）250 在Reflect （反射）中添加 Falloff （衰减）贴图Falloff Fype （衰减类型）修 改为Fresne (菲尼尔衰减) Hight glossiness （高光） Refl glossiness (光泽) Subdivs (细分) 15 BRDF （双向反射分布函数）改为WARD （沃德）＜高光区 域最大＞ Anisotropy（各向异性） Rotalion （旋转）70在Maps（贴图）通道中添加Output（输出） 修改Output（输出量） 6.铝塑板材质 Diffuse （漫反射）蓝灰色 Reflect （反射） 30 Hight glossiness （高光） glossiness (光泽) 7.白油 Diffuse （漫反射）250 Reflect （反射）25-30 Hight glossiness （高光）glossiness (光泽) Subdivs (细分) 12-16 8.沙发布纹（标准材质）standard 明暗器窗口中选择 oren-nayar-Blinn（合成异性）较柔软 Roughness（粗糙度）70 Diffuse （漫反射）添加Bitmap(位图)将贴图复制到Bump

图像处理中常用英文词解释

Algebraic operation 代数运算一种图像处理运算，包括两幅图像对应像素的和、差、积、商。 Aliasing 走样（混叠）当图像像素间距和图像细节相比太大时产生的一种人工痕迹。Arc 弧图的一部分；表示一曲线一段的相连的像素集合。 Binary image 二值图像只有两级灰度的数字图像（通常为0和1，黑和白） Blur 模糊由于散焦、低通滤波、摄像机运动等引起的图像清晰度的下降。 Border 边框一副图像的首、末行或列。 Boundary chain code 边界链码定义一个物体边界的方向序列。 Boundary pixel 边界像素至少和一个背景像素相邻接的内部像素（比较：外部像素、内部像素） Boundary tracking 边界跟踪一种图像分割技术，通过沿弧从一个像素顺序探索到下一个像素将弧检测出。 Brightness 亮度和图像一个点相关的值，表示从该点的物体发射或放射的光的量。 Change detection 变化检测通过相减等操作将两幅匹准图像的像素加以比较从而检测出其中物体差别的技术。 Class 类见模或类 Closed curve 封闭曲线一条首尾点处于同一位置的曲线。 Cluster 聚类、集群在空间（如在特征空间）中位置接近的点的集合。 Cluster analysis 聚类分析在空间中对聚类的检测，度量和描述。 Concave 凹的物体是凹的是指至少存在两个物体内部的点，其连线不能完全包含在物体内部（反义词为凸） Connected 连通的 Contour encoding 轮廓编码对具有均匀灰度的区域，只将其边界进行编码的一种图像压缩技术。 Contrast 对比度物体平均亮度（或灰度）与其周围背景的差别程度 Contrast stretch 对比度扩展一种线性的灰度变换 Convex 凸的物体是凸的是指连接物体内部任意两点的直线均落在物体内部。Convolution 卷积一种将两个函数组合成第三个函数的运算，卷积刻画了线性移不变系统的运算。 Corrvolution kernel 卷积核1，用于数字图像卷积滤波的二维数字阵列，2，与图像或信号卷积的函数。 Curve 曲线1，空间的一条连续路径，2 表示一路径的像素集合（见弧、封闭曲线）。 Deblurring 去模糊1一种降低图像模糊，锐化图像细节的运算。2 消除或降低图像的模糊，通常是图像复原或重构的一个步骤。 Decision rule 决策规则在模式识别中，用以将图像中物体赋以一定量的规则或算法，这种赋值是以对物体特征度量为基础的。 Digital image 数字图像 1 表示景物图像的整数阵列，2 一个二维或更高维的采样并量化的函数，它由相同维数的连续图像产生，3 在矩形（或其他）网络上采样一连续函数，并才采样点上将值量化后的阵列。 Digital image processing 数字图像处理对图像的数字化处理；由计算机对图片信息进

material_studio个人经验讲解

Materials Studio是Accelrys专为材料科学领域开发的可运行于PC机上的新一代材料计算软件，可帮助研究人员解决当今化学及材料工业中的许多重要问题。Materials Studio软件采用Client/Server结构，客户端可以是Windows 98、2000或NT系统，计算服务器可以是本机的Windows 2000或NT，也可以是网络上的Windows 2000、Windows NT、Linux 或UNIX系统。使得任何的材料研究人员可以轻易获得与世界一流研究机构相一致的材料模拟能力。Materials Studio是ACCELRYS 公司专门为材料科学领域研究者所涉及的一款可运行在PC上的模拟软件。他可以帮助你解决当今化学、材料工业中的一系列重要问题。支持Windows98、NT、Unix以及Linux等多种操作平台的Materials Studio使化学及材料科学的研究者们能更方便的建立三维分子模型，深入的分析有机、无机晶体、无定形材料以及聚合物。 任何一个研究者，无论他是否是计算机方面的专家，都能充分享用该软件所使用的高新技术，他所生成的高质量的图片能使你的讲演和报告更引人入胜。同时他还能处理各种不同来源的图形、文本以及数据表格。 多种先进算法的综合运用使Material Studio成为一个强有力的模拟工具。无论是性质预测、聚合物建模还是X射线衍射模拟，我们都可以通过一些简单易学的操作来得到切实可靠的数据。灵活方便的Client-Server结构还是的计算机可以在网络中任何一台装有NT、Linux或Unix操作系统的计算机上进行，从而最大限度的运用了网络资源。 ACCELRYS的软件使任何的研究者都能达到和世界一流工业研究部门相一致的材料模拟的能力。模拟的内容囊括了催化剂、聚合物、固体化学、结晶学、晶粉衍射以及材料特性等材料科学研究领域的主要课题。 Materials Studio采用了大家非常熟悉Microsoft标准用户界面，它允许你通过各种控制面板直接对计算参数和计算结构进行设置和分析。模块简介：基本环境 MS.Materials Visualizer 分子力学与分子动力学 MS.DISCOVER https://www.wendangku.net/doc/806800550.html,PASS MS.Amorphous Cell MS.Forcite MS.Forcite Plus MS.GULP MS.Equilibria MS.Sorption晶体、结晶与X射线衍射 MS.Polymorph Predictor MS.Morphology MS.X-Cell MS.Reflex MS.Reflex Plus MS.Reflex QPA量子力学 MS.Dmol3 MS.CASTEP MS.NMR CASTEP MS.VAMP高分子与介观模拟 MS.Synthia

元素符号表

第02 号元素: 氦[化学符号]He, 读“亥”, [英文名称]Helium 第03 号元素: 锂[化学符号]Li, 读“里”, [英文名称]Lithium 第04 号元素: 铍[化学符号]Be, 读“皮”, [英文名称]Beryllium 第05 号元素: 硼[化学符号]B, 读“朋”, [英文名称]Boron 第06 号元素: 碳[化学符号]C, 读“炭”, [英文名称]Carbon 第07 号元素: 氮[化学符号]N, 读“淡”, [英文名称]Nitrogen 第08 号元素: 氧[化学符号]O, 读“养”, [英文名称]Oxygen 第09 号元素: 氟[化学符号]F, 读“弗”, [英文名称]Fluorine 第10 号元素: 氖[化学符号]Ne, 读“乃”, [英文名称]Neon 第11 号元素: 钠[化学符号]Na, 读“纳”, [英文名称]Sodium 第12 号元素: 镁[化学符号]Mg, 读“美”, [英文名称]Magnesium 第13 号元素: 铝[化学符号]Al, 读“吕”, [英文名称]Aluminum 第14 号元素: 硅[化学符号]Si, 读“归”, [英文名称]Silicon 第15 号元素: 磷[化学符号]P, 读“邻”, [英文名称]Phosphorus 第16 号元素: 硫[化学符号]S, 读“流”, [英文名称]Sulfur 第17 号元素: 氯[化学符号]Cl, 读“绿”, [英文名称]Chlorine 第18 号元素: 氩[化学符号]Ar,A, 读“亚”, [英文名称]Argon 第19 号元素: 钾[化学符号]K, 读“甲”, [英文名称]Potassium 第20 号元素: 钙[化学符号]Ca, 读“丐”, [英文名称]Calcium 第21 号元素: 钪[化学符号]Sc, 读“亢”, [英文名称]Scandium

materials studio介绍资料和案例的应用

新一代材料模拟软件 Materials Studio Accelrys材料科学软件的主要应用领域包括： 固体物理及表面科学 催化、分离与化学反应 高分子及软材料 纳米材料 材料表征与仪器分析 晶体与结晶 QSAR (定量构效关系)与配方设计 Accelrys(美国)公司是世界领先的计算科学公司，是一系列用于科学数据的挖掘、整合、分析、模建与模拟、管理和提交交互式报告的智能软件的开发者，是目前全球范围内唯一能够提供分子模拟、材料设计、化学信息学和生物信息学全面解决方案和相关服务的软件供应商，所提供的全面解决方案和科技服务满足了当今全球领先的研究和开发机构的要求。 Accelrys材料科学软件产品提供了全面和完善的模拟环境，可以帮助研究者构建、显示和分析分子、固体、表面和界面的结构模型，并研究、预测材料的结构与相关性质。Accelrys的软件是高度模块化的集成产品，用户可以自由定制、购买自己的软件系统，以满足研究工作的不同需要。 Accelrys软件用于材料科学研究的主要产品是Materials Studio分子模拟软件，它可以运行在台式机、各类型服务器和计算集群等硬件平台上。Materials Studio分子模拟软件广泛应用在石油、化工、环境、能源、制药、电子、食品、航空航天和汽车等工业领域和教育科研部门；这些领域中具有较大影响的跨国公司及世界著名的高校、科研院所等研究机构几乎都是Accelrys产品的用户。 Materials Studio分子模拟软件采用了先进的模拟计算思想和方法，如量子力学（QM）、线性标度量子力学(Linear Scaling QM)、杂化量子力学分子力学(QM/MM)、分子力学(MM)、分子动力学(MD)、蒙特卡洛(MC)、介观动力学(MesoDyn)和耗散粒子动力学（DPD）、统计方法QSAR(Quantitative Structure-Activity Relationship )等多种先进算法和X射线衍射分析等仪器分析方法；模拟的内容包括了催化剂、聚合物、固体及表面、界面、晶体与衍射、化学反应等材料和化学研究领域的主要课题。 Materials Studio分子模拟软件支持32与64位Windows和Linux操作平台，而且界面非常友好、操作简便，使化学及材料科学的研究者们能更方便地建立三维结构模型，并对各种小分子、晶体、无定型以及高分子材料的性质及相关过程进行深入的研究，得到切实可靠的数据。 Materials Studio软件使任何研究者都能得到和世界一流研究部门相一致的材料模拟技术。

高分子材料常用专业术语中英对照表分析

加工processing 反应性加工reactive processing 等离子体加工plasma processing 加工性processability 熔体流动指数melt [flow] index 门尼粘度Mooney index 塑化plasticizing 增塑作用plasticization 内增塑作用internal plasticization 外增塑作用external plasticization 增塑溶胶plastisol 增强reinforcing 增容作用compatibilization 相容性compatibility 相溶性intermiscibility 生物相容性biocompatibility 血液相容性blood compatibility 组织相容性tissue compatibility 混炼milling, mixing 素炼mastication 塑炼plastication 过炼dead milled 橡胶配合rubber compounding 共混blend 捏和kneading 冷轧cold rolling 压延性calenderability 压延calendaring 埋置embedding 压片performing 模塑molding 模压成型compression molding 压缩成型compression forming 冲压模塑impact moulding, shock moulding 叠模压塑stack moulding 复合成型composite molding 注射成型injection molding 注塑压缩成型injection compression molding 射流注塑jet molding 无流道冷料注塑runnerless injection molding 共注塑coinjection molding 气辅注塑gas aided injection molding 注塑焊接injection welding 传递成型transfer molding

化学元素中英文对照

第 01 号元素: 氢 H [英文名称]Hydrogen 第 02 号元素: 氦 He [英文名称]Helium 第 03 号元素: 锂 Li [英文名称]Lithium 第 04 号元素: 铍 Be [英文名称]Beryllium 第 05 号元素: 硼 B [英文名称]Boron 第 06 号元素: 碳 C [英文名称]Carbon 第 07 号元素: 氮 N [英文名称]Nitrogen 第 08 号元素: 氧 O [英文名称]Oxygen 第 09 号元素: 氟 F [英文名称]Fluorine 第 10 号元素: 氖 Ne [英文名称]Neon 第 11 号元素: 钠 Na [英文名称]Sodium 第 12 号元素: 镁 Mg [英文名称]Magnesium 第 13 号元素: 铝 Al [英文名称]Aluminum 第 14 号元素: 硅 Si [英文名称]Silicon 第 15 号元素: 磷 P [英文名称]Phosphorus 第 16 号元素: 硫 S [英文名称]Sulfur 第 17 号元素: 氯 Cl [英文名称]Chlorine 第 18 号元素: 氩 Ar [英文名称]Argon 第 19 号元素: 钾 K [英文名称]Potassium 第 20 号元素: 钙 Ca [英文名称]Calcium 第 21 号元素: 钪 Sc [英文名称]Scandium 第 22 号元素: 钛 Ti [英文名称]Titanium 第 23 号元素: 钒 V [英文名称]Vanadium 第 24 号元素: 铬 Cr [英文名称]Chromium 第 25 号元素: 锰 Mn [英文名称]Manganese 第 26 号元素: 铁 Fe [英文名称]Iron 第 27 号元素: 钴 Co [英文名称]Cobalt 第 28 号元素: 镍 Ni [英文名称]Nickel 第 29 号元素: 铜 Cu [英文名称]Copper 第 30 号元素: 锌 Zn [英文名称]Zinc 第 31 号元素: 镓 Ga [英文名称]Gallium 第 32 号元素: 锗 Ge [英文名称]Germanium 第 33 号元素: 砷 As [英文名称]Arsenic 第 34 号元素: 硒 Se [英文名称]Selenium 第 35 号元素: 溴 Br [英文名称]Bromine 第 36 号元素: 氪 Kr [英文名称]Krypton 第 37 号元素: 铷 Rb [英文名称]Rubidium 第 38 号元素: 锶 Sr [英文名称]Strontium 第 39 号元素: 钇 Y [英文名称]Yttrium 第 40 号元素: 锆 Zr [英文名称]Zirconium 第 41 号元素: 铌 Nb [英文名称]Niobium 第 42 号元素: 钼 Mo [英文名称]Molybdenum 第 43 号元素: 锝 Tc [英文名称]Technetium 第 44 号元素: 钌 Ru [英文名称]Ruthenium 第 45 号元素: 铑 Rh [英文名称]Rhodium 第 46 号元素: 钯 Pd [英文名称]Palladium 第 47 号元素: 银 Ag [英文名称]Silver 第 48 号元素: 镉 Cd [英文名称]Cadmium 第 49 号元素: 铟 In [英文名称]Indium 第 50 号元素: 锡 Sn [英文名称]Tin 第 51 号元素: 锑 Sb [英文名称]Antimony 第 52 号元素: 碲 Te [英文名称]Tellurium 第 53 号元素: 碘 I [英文名称]Iodine 第 54 号元素: 氙 Xe [英文名称]Xenon 第 55 号元素: 铯 Cs [英文名称]Cesium 第 56 号元素: 钡 Ba [英文名称]Barium 第 57 号元素: 镧 La [英文名称]Lanthanum 第 58 号元素: 铈 Ce [英文名称]Cerium 第 59 号元素: 镨 Pr [英文名称]Praseodymium 第 60 号元素: 钕 Nd [英文名称]Neodymium 第 61 号元素: 钷 Pm [英文名称]Promethium 第 62 号元素: 钐 Sm [英文名称]Samarium

materialstudio使用经验总结

materialstudio 使用经验总结 关于K 点 1.应当使用多少个k 网格? 很难一般地回答,只能给出一般建议。注意:一定要检查k 网格,首先用较粗糙的网格计算, 接下来用精细的网格计算。通过比较两次的结果, 决定选用较粗糙的网格, 或是继续进行更 精细网格的计算, 直到达到收敛。金属体系需要精细的网格, 绝缘体使用很少的k 点通常就 可以。小单胞需要精细格点, 大单胞很可能不需要。因此: 单位晶胞内原子数很多（比如 40-60个）的绝缘体,可能仅需要一个（移动后的）k点。另一方面,面心立方的铝可能需 要上万个k点以获得好的DOS对于孤立原子或分子的超晶胞，仅需要在 Gamm点计算。对 于表面（层面）的超晶胞计算,仅需要（垂直于表面）z方向上有1个k点。甚至可以增加 晶格参数c,这样即使对精细格点，沿z方向上也只产生一个k点（产生k 点后, 不要忘记 再把 c 改回）。

2.当体系没有出现时间反演对称操作时, 是否加入? 大多数情况下的回答是“是” , 只有包含自旋- 轨道耦合的自旋极化（磁性）计算除外。这 时, 时间反演对称性被破坏（+k 和-k 的本征值可能不同）, 因此决不能加入时间反演对称性。 3.是否移动k 网格?（只对某些格子类型有效） “移动” k网格意味着把所有产生的k点增加x,x,x,把那些位于高对称点（或线）上的k 点移动到权重更大的一般点上。通过这种方法（也即众所周知的“特殊k 点方法” ）可以产 生等密度的,k 点较少的网格。通常建议移动。只有一点注意: 当对半导体的带隙感兴趣时 （通常位于Gamma,X或BZ边界上的其它点）,使用移动的网格将不会得到这些高对称性 的点,因此得到的带隙和预期结果相比或大或小。这个问题的解决:用移动的网格做SCF 循环，但对DOS计算，改用精细的未移动网格。 关于k 空间布点的问题, 建议参阅以下文献Phys.Rev.B 49,16223 1994 如何构建缺陷晶体结构 晶体结构改成P1, 然后去掉想抹去的原子就可以了 在ms中如何做空穴 对于金属缺陷, 是直接剪切一个原子?