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热氧化法制备SiO2薄膜

东南大学材料科学与工程

实验报告

学生姓名徐佳乐班级学号12011421 实验日期2014/9/4 批改教师

课程名称电子信息材料大型实验批改日期

实验名称热氧化法制备SiO2薄膜报告成绩

一、实验目的

1、掌握热氧化法制备SiO2薄膜的基本方法;

2、了解热氧化法制备SiO2薄膜的基本原理。

二、实验原理

在微电子工业中,SiO2薄膜也可采用CVD或者LPCV方法沉积,但热氧化法制备的SiO2薄膜具有结构致密、均匀性和重复性好、电特性最佳

与光刻胶粘附性好等优点,是制备半导体器件关键部分的高质量SiO2薄

膜的常用方法,如MOSFET器件的栅介电氧化层的制备。

下图为热氧化工艺的示意图,其基本原理是氧化气体源从一端炉口通入加热炉内,在900-1200℃的高温下,氧化剂分子向硅晶片内扩散并与

硅晶片表面发生化学反应,生成SiO2薄膜。氧化剂可以为O2(干氧氧化)H2O(湿氧氧化),在相同的氧化温度下,湿氧氧化的速率远大于干氧氧化。

氧化物的生长主要有两个过程决定,一个是氧化剂经由氧化层向硅表面扩散的过程,一个是氧化剂与Si表面的化学反应过程。在SiO2的生长初期,表面反应是限制生长速率的主要因素,热氧化生长的SiO2薄膜的

厚度X由下式确定:

X=B/A(t+τ)

此时SiO2薄膜厚度与时间呈线性关系。B/A陈伟线性氧化速率常数,其主

要由表面反应的化学速率确定。t为热氧化时间,τ为一常数。当SiO2厚度变厚,氧化剂必须扩散至Si和SiO2的界面才可反应,故其厚度受限

于扩散速度,SiO2的厚度与时间关系由下式所示:

X2=B(t+τ)

SiO2厚度与生长时间呈抛物线关系。B为抛物线型氧化速率常数,仅与氧化剂在SiO2中的扩散系数有关。不管是化学反应速率常数还是氧化

剂在SiO2的扩散系数均与温度有关,因此线性氧化速率常数B/A和抛物线型氧化速率常数B均随温度升高指数增长。上面的分析也表明,氧化过

程中,硅与二氧化硅的界面会向硅内部迁移,这将使得Si表面的污染物移到氧化物表面而形成一个崭新的界面。

三、实验设备及材料

1.实验器材:OTF1200管式真空炉,机械泵,塑料烧杯,塑料镊子等2.试剂及材料:氧气,HF,去离子水,清洗过的硅片。

四、实验内容及步骤

1.去除Si晶片表面的自然氧化层。按1:10的比例配制HF/H20腐蚀液,将清洗过的晶片浸入腐蚀液内约1分钟后,立即取出,用去离子水冲洗晶片表面后,吹干表面。

2.设置温度处理参数。在OTF1200管式真空炉的控制器上设置升温时间(≤10℃),热处理温度(1000℃),热处理时间(1.5小时)。

3.将Si片放入刚玉舟,放入管式炉中心位置,安装好炉管两侧的连接法兰,打开氧气钢瓶,保证整个实验过程中氧气以一定流量在炉管内流动。启动管式炉,开始热氧化生长SiO2薄膜。

4.生长结束后,关闭管式炉加热电源,待炉温冷却到40℃以下后,取出刚玉舟,观察生长的SiO2薄膜的颜色,与附表对比,粗略估计出所生长SiO2薄膜的厚度。

5.妥善保管所制备SiO2薄膜,以备以后实验室用。

五、实验结果及分析

样品制备完成后学长没有给我们看,所以无法得到其表面清洁状况,颜色和估计的厚度。

六、思考题

1.从热氧化法生长SiO2薄膜的基本原理,解释为什么热氧化方法制备的SiO2薄膜具有优异的电学性能。

答:因为热氧化法制备的SiO2薄膜结构致密、均匀性和重复性好,

2.为了制备约几个nm的超薄SiO2薄膜,可以通过改变哪些参数达到?答:改变热处理的温度和时间,降低温度,增加升温速率,减少保温时间。改变氧化剂状态,增加氧气的流动速度。