1,4-萘醌

脂溶性维生素

脂溶性维生素 维生素是机体维持正常代谢和功能所必需的一类低分子化合物。它是人体六大营养要素（糖、脂肪、蛋白质、盐类、维生素和水）之一，大多数必须从食物中获得，仅少数可在体内合成或由肠道细菌产生。人体每日对维生素的需要量甚微，但缺乏时，可引起一类特殊的疾病，称“维生素缺乏症”。目前已发现的维生素有60余种，多已能人工合成。被世界公认的有14种，分为脂溶性维生素及水溶性维生素两类。脂溶性维生素易溶于大多数有机溶剂，不溶于水。在食物中常与脂类共存，脂类吸收不良时其吸收也减少，甚至发生缺乏症。常用的脂溶性维生素有：维生素A、维生素D、维生素E和维生素K等。 1 维生素A 1.1 结构：维生素A是指具有全反式视黄醇生物活性的一组类视黄醇物质。视黄醇可以被可逆地氧化为视黄醛，视黄醛具备视黄醇的全部生物活性；还可以进一步被氧化成视黄酸，视黄酸不能满足视觉或动物繁殖的需要。参与视觉循环的维生素A形式是11-顺视黄醛，而维生素A主要是以视黄酰棕榈酸酯的形式储存。 1.2 生理作用：某些形式的类视黄醇参与了机体所有细胞的功能。视觉、细胞间信息交流、黏液素生成、胚胎形成、细胞生长和细胞分化是维生素A所有功能中最重要的功能，维生素A的全部功能包括参与视觉、造血、免疫细胞、成骨和破骨、肺泡和神经组织的功能。除影响正常健康相关进化功能外，维生素A还有纠正多种病理状态的调节作用。（1）抗增殖作用：维生素A及其异构体能够促进终未分

化、抑制增殖、促进凋亡，该作用对组织恶变过程中的肿瘤发挥作用。（2）促进膳食铁的吸收。 1.3 维生素A缺乏：目前世界范围内评估结果认为，维生素A缺乏症是第二大微量营养素缺乏问题。（1）视觉症状：眼症是维生素A 缺乏的典型临床特征。（2）其他上皮功能异常：毛囊增厚是维生素A 缺乏的皮肤表征。从咽扁桃体、支气管和肺组织到消化道的黏膜内，黏蛋白生成减少，造成伴有症状的疼痛，并易受细菌侵袭。（3）高死亡率。（4）高感染发病率。 1.4膳食来源：胡萝卜、牛奶、肉、速溶谷类、奶酪、人造黄油、西红柿、鸡蛋、棕榈油和人乳。 1.5 维生素A用于临床药物与治疗：（1）干眼症（2）麻疹（3）临床蛋白-能量营养不良（3）急性腹泻（4）疟疾（5）肺结核（6）阴道疱疹病毒的清除（7）直肠放射性治疗（8）色素性视网膜炎（9）早产儿相关并发症。视黄酸及其异构体和合成的类似物被越来越多地以药理剂量用于治疗目的：（1）严重寻常痤疮（2）恶性肿瘤（3）丙型肝炎病毒治疗中的联合疗法。 1.6维生素A和类视黄醇的毒副作用：肝脏维生素A浓度超过300mg/g 被认为是过量，并出现中毒的临床表现。急性维生素A过量，症状包括严重皮疹、头痛、假性脑瘤性昏迷而导致快速死亡。更常见的是慢性过量，症状包括中枢神经系统紊乱性症状、肝脏纤维化、腹水和皮肤损伤。维生素A缺乏和过量均可导致出生缺陷。 2 类胡萝卜素

光刻胶实验报告

综合实验报告 题目：重氮萘醌磺酸酯-酚醛树脂正性光致抗蚀剂的制备与性质 院系：化学学院 年级：2011级 指导老师：王力元 姓名：姚宁 学号：201111014918

摘要：本文关于制备一种正性光致抗蚀剂——重氮萘醌磺酸酯-酚醛树脂及其成像性质的研究。重氮萘醌磺酸酯采用2,4,4’-三羟基二苯甲酮作为接枝化母体，与2,1,4-重氮萘醌磺酰氯进行酯化得到，产量 1.43g，产率82.6% ；并用红外光谱和熔点仪对产物进行了表征。重氮萘醌磺酯感光剂与酚醛树脂和乙二醇配胶并均匀铺在铝板上，在紫外下曝光，稀碱水洗涤显影。成像试验得到的结果是：最佳曝光时间为90S，分辨率为12um。 关键词：重氮萘醌磺酸酯重氮萘醌磺酸酯-酚醛树脂光化学腐蚀法感光化合物负性光致抗蚀剂正性光致抗蚀剂 正文： 实验目的： 1. 初步了解光致抗蚀剂的概念 2. 了解酚醛树脂-重氮萘醌磺酸酯正性抗蚀剂的成像原理 3. 学习重氮萘醌磺酸酯的制备方法 4. 学习匀胶机、烘胶台、碘镓灯的使用方法 5. 学习抗蚀剂曝光、显影等评价方法。 实验原理： 在半导体器件和集成电路制造中，要在硅片等材料上获得一定几何图形的抗蚀保护层，是运用感光性树脂材料在控制光照（主要是UV光）下，短时间内发生化学反应，使得这类材料的溶解性、熔融性和附着力在曝光后发生明显的变化；再经各种不同的方法显影后获得的。这种方法称为“光化学腐蚀法”，也称为“光刻法”。这种作为抗蚀涂层用的感光性树脂组成物称为“光致抗蚀剂”（又称光刻胶）。 按成像机理不同，光致抗蚀剂可分为负性光致抗蚀剂和正性光致抗蚀剂：（1）负性光致抗蚀剂：在紫外光照射下，光刻胶中光照部分发生交联反应，溶解度变小，用适当溶剂即可把未曝光的部分显影除去,在被加工表面形成与曝光掩膜相反的图像，因此称为负性光致抗蚀剂。（2）正性光致抗蚀剂：在紫外光照射下，光刻胶的光照部分发生分解，溶解度增大，用适当溶剂可以把光照部分显影除去，即形成与掩膜一致的图像，因此称为正性光致抗蚀剂。如图1所示。

重氮萘醌磺酸酯-酚醛树脂——正性光致抗蚀剂的制备与性质

重氮萘醌磺酸酯-酚醛树脂 正性光致抗蚀剂的制备与性质 摘要：本实验采用2,3,4-三羟基二苯甲酮作为接枝化母体，与2,1,5－重氮萘醌磺酰氯进行酯化，合成感光化合物。之后再与线性酚醛树脂—BTB24配合，溶于乙二醇乙醚，再加入少量添加剂，制得酚醛树脂-重氮萘醌磺酸酯正性抗蚀剂。将其涂布于铝版基上，烘干，曝光，显影。结果表明，最佳曝光时间为90S，分辨率为12um，网点保留下限为10%，上限为90%。 关键词：光致抗蚀剂化学增幅感光度重氮萘醌磺酸酯-酚醛树脂 在半导体器件和集成电路制造中，要在硅片等材料上获得一定几何图形的抗蚀保护层，是运用感光性树脂材料在控制光照（主要是UV光）下，短时间内发生化学反应，使得这类材料的溶解性、熔融性和附着力在曝光后发生明显的变化；再经各种不同的方法显影后获得的。这种方法称为“光化学腐蚀法”，也称为“光刻法”。这种作为抗蚀涂层用的感光性树脂组成物称为“光致抗蚀剂”（又称光刻胶）。 按成像机理不同，光致抗蚀剂可分为负性光致抗蚀剂和正性光致抗蚀剂：（1）负性光致抗蚀剂：在紫外光照射下，光刻胶中光照部分发生交联反应，溶解度变小，用适当溶剂即可把未曝光的部分显影除去,在被加工表面形成与曝光掩膜相反的图像，因此称为负性光致抗蚀剂。（2）正性光致抗蚀剂：在紫外光照射下，光刻胶的光照部分发生分解，溶解度增大，用适当溶剂可以把光照部分显影除去，即形成与掩膜一致的图像，因此称为正性光致抗蚀剂。如图1所示。 图1 光致抗蚀剂成像过程 20世纪30年代, 德国卡勒公司的Oskar Süss首先发现了重氮萘醌系感光化合物。它是以2,1,5或2,1,4重氮萘醌磺酰氯为代表的重氮萘醌化合物与含羟基的高分子或小分子进行酯化后得到的感光化合物。由于其具有感光范围宽, 从i-线(感光波长: 365nm)到g-线(感光波长: 436nm) 都有较高的分光感度,尤其是与线形酚醛树脂或酚树脂配合, 具有稀碱水显影, 显影宽容度高, 操作方便，储存稳定性好等优点，使得重氮萘醌系感光材料在20世纪60年代后广泛应用于印刷PS版感光剂及集成电路加工光致抗蚀剂。至今仍普遍使用的g-线和i-线光致抗蚀剂都主要采用重氮萘醌系感光体系。 重氮萘醌磺酸酯-酚醛树脂体系正性光致抗蚀剂的成像原理：感光涂层受紫外光照射后，曝光区的重氮萘醌磺酸酯发生光解，放出N2形成烯酮，烯酮遇水形成茚酸而易溶于稀碱水。由此通过稀碱水显影便得到了在未曝光区抗蚀膜保留的正型图形。以2,1,4－重氮萘醌磺酸酯为例，其成像原理如图2所示：

维生素K系列合成

合成2-甲基-1,4-萘醌的研究 一、前言 分子式C 11H 8O 2，分子量172.18。亮黄色结晶。有特殊刺激性。熔点 105-107℃。溶于乙醇、苯、植物油类、氯仿和四氯化碳。在空气中稳定，遇光、碱及还原剂易被变质、分解。工业上由2-甲基萘的冰醋酸溶液，用铬酐在温和条件下氧化制得，是制维生素的中间体。和亚硫酸氢钠生成加成物——2-甲基-1,4-萘醌亚硫酸氢钠。加成物为白色结晶，易溶于水，是一种维生素类药物——维生素。 二、合成方法 （1） 丁二烯、甲苯醌环化加成法。此方法因耗时较长、收率低、 原料不易得等原因导致产品成本较高，工业上已不再采用。 （2） 2-甲基萘经K 2CrO 4/H 2SO 4氧化法。此法生产的CrSO 4较难处理， 需电解还原，耗时长、能耗高。 （3） 2-甲基萘经30%H 2O 2在CH 3COOH 中反应，此法制得2-甲基-1,4- 萘醌收率低，难以工业化推广。 （4） 2-甲基萘经铬酐氧化法。此法原料易得，工艺成熟，因而在 工业生产中得到大量采用。 （5） 2-甲基萘经过氧乙酸氧化法。此法制得2-甲基1,4-萘醌收率 40%左右，与传统工艺相当，无污染。 合成法简介 1、 丁二烯、甲苯醌环化加法。 O O O O 合成产物后，通过铬酸氧化，形成2-甲基-1,4-萘醌。 2、 2-甲基萘经K 2CrO 4/H 2SO 4氧化法 冰醋酸 60.C O O 在冰醋酸介质中，以硫酸催化重铬酸钠，在60-90。C 氧化而成。保持2-甲基萘和Cr （VI ）氧化液的物质的量比为1:4.5，Cr （VI ）的浓度为2.875mol/L ，反应温度为60。C 。 该工艺的主要缺点是产生大量的含铬废水，处理繁杂困难，对环境铬酸 K 2CrO 4/H 2SO 4

光刻胶

一.光刻胶的定义(photoresist) 又称光致抗蚀剂，由感光树脂、增感剂（见光谱增感染料）和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体。感光树脂经光照后，在曝光区能很快地发生光固化反应，使得这种材料的物理性能，特别是溶解性、亲合性等发生明显变化。经适当的溶剂处理，溶去可溶性部分，得到所需图像（见图光致抗蚀剂成像制版过程）。 二.光刻胶的分类 光刻胶的技术复杂，品种较多。根据其化学反应机理和显影原理，可分负性胶和正性胶两类。光照后形成不可溶物质的是负性胶；反之，对某些溶剂是不可溶的，经光照后变成可溶物质的即为正性胶。利用这种性能，将光刻胶作涂层，就能在硅片表面刻蚀所需的电路图形。 基于感光树脂的化学结构，光刻胶可以分为三种类型。 ①光聚合型 采用烯类单体，在光作用下生成自由基，自由基再进一步引发单体聚合，最后生成聚合物，具有形成正像的特点。 ②光分解型 采用含有叠氮醌类化合物的材料，经光照后,会发生光分解反应,由油溶性变为水溶性，可以制成正性胶. ③光交联型 采用聚乙烯醇月桂酸酯等作为光敏材料,在光的作用下,其分子中的双键被打开，并使链与链之间发生交联，形成一种不溶性的网状结构，而起到抗蚀作用，这是一种典型的负性光刻胶。柯达公司的产品KPR胶即属此类。 三.光刻胶的化学性质 a、传统光刻胶：正胶和负胶。 光刻胶的组成：树脂（resin/polymer），光刻胶中不同材料的粘合剂，给与光刻胶的机械与化学性质（如粘附性、胶膜厚度、热稳定性等）；感光剂，感光剂对光能发生光化学反应；溶剂（Solvent），保持光刻胶的液体状态，使之具有良好的流动性；添加剂（Additive），用以改变光刻胶的某些特性，如改善光刻胶发生反射而添加染色剂等。 负性光刻胶。树脂是聚异戊二烯，一种天然的橡胶；溶剂是二甲苯；感光剂是一种经过曝光后释放出氮气的光敏剂，产生的自由基在橡胶分子间形成交联。从而变得

重氮萘醌酚醛树脂光刻胶

重氮萘醌-酚醛树脂体系光刻胶 感光性基团邻重氮萘醌基有机化合物+线型甲酚醛树脂+溶剂 特点：特性：分辨率高、台阶覆盖好、对比度好；粘附性差、抗蚀刻能力差、高成本。 原理：使用酯缩醛聚合物（线性酚醛树脂）为感光树脂，以重氮萘醌磺酸酯为光致产酸剂，光解产生磺酸，而酯缩醛聚合物具有高酸解性，在酸的作用下，室温即可分解为小分子片段，该体系用碱水显影时，具有更高的溶解速度和酸解活性，可进一步提高光致蚀刻剂的分辨率。 溶剂可选用丙二醇甲醚醋酸酯（PGMEA)，乙二醇乙醚，乙二醇乙醚乙酸酯等，其沸点大约在130℃左右，这有利于预烘工艺中溶剂的快速挥发。 原材料： （1）光刻胶用线性甲酚-甲醛树脂（本产品是甲酚与甲醛在催化剂作用下缩聚而成的热塑性聚合物，以反应工艺配方的严格设计控制树脂的分子量大小和分布、甲酚异构体比例以及甲撑连接方式。） 基本参数： 应用领域：本品是g-line、i-line光刻胶的关键组分之一，因其优异的热稳定性与抗蚀性，可用于制备高分辨率的树脂图像。 供应商：北京金介特新材料科技有限公司 （2）WL-8014（光刻胶专用酚醛树脂，红棕色） 供应商：濮阳蔚林化工股份有限公司 （3）光致产酸剂（化学增幅型如硫鎓盐，二砜化合物）及重氮萘醌磺酸酯2,1,4-重氮萘醌磺酸酯和2,1,5-重氮萘醌磺酸酯。 供应商：邯郸开发区立业化工有限公司 另一家公司的重氮萘醌磺酸酯（2,3,4,4’-四羟基二苯甲酮-2,1,4-重氮萘醌磺酸酯、2,3,4-三羟基二苯甲酮-2,1,4-重氮萘醌磺酸酯、2,3,4-三羟基二苯甲酮 -2,1,5-重氮萘醌磺酸酯、2,3,4,4’-四羟基二苯甲酮-2,1,5-重氮萘醌磺酸酯）

数字印前印前制作员理论考试复习题一考试卷模拟考试题.docx

《印前制作员理论考试复习题一》 考试时间：120分钟 考试总分：100分 遵守考场纪律，维护知识尊严，杜绝违纪行为，确保考试结果公正。 1、 在Photoshop 中对图像执行“转换配置文件”命令，图像的颜色外观可能 发生改 变，但图像的像素值并不发生变化。（ ） 2、 颜色调整操作既不会增加像素，也不会减少像素（ ） 3、一般情况下最大扫描分辨率最好不要超过扫描仪的光学分辨率。（ ） 4、矢量图一般比较适合描述企业的 LOGO 等细节变化较少的图。（ ） 姓名：________________ 班级：________________ 学号：________________ --------------------密----------------------------------封 ----------------------------------------------线-------------------------

5、梯尺的级差为 0.3，阳图 PS版干净级数加一级，曝光量需增加 2倍。（） 6、排出血图的目的是为了美化版面，同时还可使画面适当放大，便于欣赏。（） 7、显示器上显示的图像大小就是最终打印的图像尺寸。（） 8、平台扫描仪的光电转换器是电荷藕合器，滚筒扫描仪的是光电倍增管。（） 9、一般在对图像进行阶调调整时选复合通道，色彩调整时要选单色通道。（） 10、正面印刷丝网版的晒版原版是正向阳图版。（）

11、一般安排色序的原则是先印专色，后印四色。（） 12、一般印刷品光泽均随承印物吸附能力的增加而增强。（） 13、对图像扫描定标时，如果白场定的较高，则图像的颜色较深。（） 14、GATF星标中心白点大，说明网点增大。（） 15、 RGB颜色比CMYK颜色的像素需要更大的存储容量。（） 16、分辨率高，尺寸大的图像，其文件数据量就大。（） 17、Lab、RGB、灰度和 CMYK 图像的每个颜色通道包含 8 位数据。（） 18、在印前工作中为保证图像质量，不允许图像模式反复转换。（）

我国正性光刻胶的制备与应用研究进展

综述学术论文 036 收稿日期：2018-07-18 作者简介：杜新胜（1974-），男，工程师，主要从事高分子材料方面的研究。E-mail ：dux325@https://www.wendangku.net/doc/9810938648.html, 。 我国正性光刻胶的制备与应用研究进展 12 杜新胜，张红星（1.中国石油兰州石化公司研究院，甘肃 兰州 730060；2.兰州石化公司乙烯厂聚丙烯车间，甘肃 兰州 730060） 摘要：简述了正性光刻胶的光聚合机理，重点阐述了我国正性光刻胶的制备研究进展，并指出了我国正性光刻胶研究及发展方向。 关键词：正性；光刻胶；光聚合机理；聚合；应用中图分类号：T Q 437；T Q 31 文献标识码：A 文章编号：1001-5922（2019）01-0036-05 光刻胶是一类通过光束、电子束、离子束等能量辐射后，溶解度发生变化的耐蚀刻随着我国半导体工业的迅速发展，对光 薄膜材料，在集成电路和半导体分立器件的刻技术提出了越来越高的要求，从最早的436 [1～5]nm 光刻，365 nm 光刻，248 nm 光刻，到目前微细加工中有着广泛的应用。通过将光刻的193 nm 光刻及最有发展前景的极紫外13.5 胶涂覆在半导体、导体和绝缘体材料上，经nm 光刻，光刻技术的分辨率从微米级发展到曝光、显影后留下的部分对底层起保护作纳米级，相应地对光刻胶也提出了更高的要用，然后采用蚀刻剂进行蚀刻就可将所需要求，开发新型具有高分辨率、低边缘粗糙度的微细图形从掩膜版转移到待加工的衬底的光刻胶，使其综合性能满足光刻工艺的要上，因此光刻胶是微细加工技术中的关键材求成为目前光刻技术发展的重要任务。正性料。跟据光化学反应机理不同，光刻胶分为光刻胶具有高分辨率、抗干法蚀刻性强、耐正性光刻胶与负性光刻胶：曝光后，光刻胶热性好、去胶方便、台阶覆盖度好、对比度在显影液中溶解性增加，得到与掩膜版相同好的特点，但粘附性和机械强度较差且成本图形的称为正性光刻胶；曝光后，光刻胶在较高，鉴于它的高分辨率，广泛应用在显影液中溶解性降低甚至不溶，得到与掩膜版0.8～1.2 μm 及0.35 μm 集成电路的微细加相反图形的称为负性光刻胶。2种光刻胶都有工上。 各自不同的应用领域，通常来讲，正性光刻胶[6]用的更为普遍，占到光刻胶总量的80%以上。 曹昕利用2种不同重均分子质量的改性酚醛树脂（PF）与一种3个酯化度的四羟基二苯甲酮一重氮萘醌磺酸酯光敏剂（PAC）按比1 光聚合机理 例配制，加入适量助剂优化感光性能，制备出一种应用于电子触屏加工领域的I-line 正正性光刻胶树脂提供光刻胶的粘附性、性光刻胶，其具有刻蚀精度高、工艺性能优化学抗蚀性，当没有溶解抑制剂存在时，光良、单位成本较低等优势特点。图1为重氮萘刻胶树脂会溶解在显影液中；感光剂是光敏醌体系正性光刻胶分子间氢键作用图。 化合物，最常见的是重氮萘醌（DNQ）。在曝光前，DNQ 是一种强烈的溶解抑制剂，降低树脂的溶解速度。在紫外曝光后，DNQ 在光刻胶中化学分解，成为溶解度增强剂，大幅提高显影液中的溶解度因子至100或者更高。这种曝光反应会在DNQ 中产生羧酸，它在显影液中溶解度很高。正性光刻胶具有很好的对比度，所以生成的图形具有良好的分辨率。烯类单体，在光作用下生成自由基，自由基再进一步引发单体聚合，最后生成聚合物，具有形成正像的特点。 2 正性光刻胶的制备研究进展 图1 重氮萘醌体系正性光刻胶分子间氢键作用F i g .1 H y d r o g e n b o n d i n g i n t e r a c t i o n b e t we e n d i a z o n a p h t h o q u i n o n e p o s i t i v e p h o t o r e s i s t s

一种新型苯磺酸光致产酸剂的合成

目录 摘要： (2) 引言 (2) 1实验部分 (3) 1.1仪器与试剂 (3) 1.2试验方法 (3) 2结果与讨论 (4) 2.1反应历程 (4) 2.2粗产品产率 (4) 2.3 红外特征吸收光谱 (4) 结论 (6) 参考文献 (6) 致谢 (7)

一种新型苯磺酸酯类光致产酸剂的合成 摘要：本文自主设计合成了一种新型苯磺酸酯类光致产酸剂。利用1-萘酚与苯磺酰氯在吡啶条件下，合成一种新型苯磺酸酯。最后通过IR的方法对合成的化合物进行确认以及性能表征。 关键词：苯磺酸酯类；光致产酸剂；1-萘酚；苯磺酰氯 Synthesis of a novel benzene sulfonic acid ester photoacid generator Abstract:This article independently designed and synthesized a new sulfonic acid esters light-induced production of acid.1 - naphthol and benzene sulfonyl chloride in pyridine under the conditions of synthesis of a new sulfonic acid ester. Finally, the IR method for confirmation and characterization of synthetic compounds. Key words : sulfonic acid esters; light-induced production of acid; 1 - naphthol; benzene sulfonyl chloride 引言 光致产酸剂又称为光产酸剂（photoacid generator，PAG）是指在紫外可见光、X射线、电子束、离子束等适当光照射下的光作用下，能产生酸的化合物。此酸能够作为催化剂使光照区域发生酸解反应，从而使曝光区域和非曝光区域有很大的溶解性差异，可以通过显影得到所需要的图像。 1983年由IBM公司的Ito等提出的化学增幅（Chemically Amplified，CA）光致产酸剂被认为是非常有前景的感光成像体系，因为光产酸剂体系具有很好的化学增幅效应、较高的成像灵敏度和记录精度。提到光产酸剂最容易想到的一种用途就是应用到光刻胶领域中，光刻胶作为集成电路中的一种关键性材料而被人