文档库 最新最全的文档下载
当前位置:文档库 › 不同钝化结构的HgCdTe光伏探测器暗电流机制

不同钝化结构的HgCdTe光伏探测器暗电流机制

不同钝化结构的HgCdTe光伏探测器暗电流机制
不同钝化结构的HgCdTe光伏探测器暗电流机制

自动控制原理论文

自动控制 摘要:综述了自动控制理论的发展情况,指出自动控制理论所经历的三个发展阶段,即经典控制理论、现代控制理论和智能控制理论。最后指出,各种控制理论的复合能够取长补短,是控制理论的发展方向。 自动控制理论是自动控制科学的核心。自动控制理论自创立至今已经过了三代的发展:第一代为20世纪初开始形成并于50年代趋于成熟的经典反馈控制理论;第二代为50、60年代在线性代数的数学基础上发展起来的现代控制理论;第三代为60年代中期即已萌芽,在发展过程中综合了人工智能、自动控制、运筹学、信息论等多学科的最新成果并在此基础上形成的智能控制理论。经典控制理论(本质上是频域方法)和现代控制理论(本质上是时域方法)都是建立在控制对象精确模型上的控制理论,而实际上的工业生产系统中的控制对象和过程大多具有非线性、时变性、变结构、不确定性、多层次、多因素等特点,难以建立精确的数学模型。因此,自动控制专家和学者希望能从要解决问题领域的知识出发,利用熟练操作者的丰富经验、思维和判断能力,来实现对上述复杂系统的控制,这就是基于知识的不依赖于精确的数学模型的智能控制。本文将对经典控制理论、现代控制理论和智能控制理论的发展情况及基本内容进行介绍。 1自动控制理论发展概述 自动控制是指使用自动化仪器仪表或自动控制装置代替人 自动地对仪器设备或工业生产过程进行控制,使之达到预期的状态或性能指标。对传统的工业生产过程采用自动控制技术,可以有效提高产品的质量和企业的经济效益。对一些恶劣环境下的控制操作,自动控制显得尤其重要。 自动控制理论是和人类社会发展密切联系的一门学科,是自动控制科学的核心。自从19世纪M ax we ll对具有调速器的蒸汽发动机系统进行线性常微分方程描述及稳定性分析以来,经过20世纪初Ny qu i s t,B od e,Ha rr is,Ev ans,W ie nn er,Ni cho l s等人的杰出贡献,终于形成了经典反馈控制理论基础,并于50年代趋于成熟。经典控制理论的特点是以传递函数为数学工具,采用频域方法,主要研究“单输入—单输出”线性定常控制系统的分析和设计,但它存在着一定的局限性,即对“多输入—多输出”系统不宜用经典控制理论解决,特别是对非线性、时变系统更

光电探测器调研报告

题目:光电探测器的原理及国内外研究现状 学生姓名:学号: 院(系):专业:

光电探测器的原理及国内外研究现状 摘要 概述了光电探测器的分类和基本原理,并从材料体系的选择和器件的主要应用等方面阐述了光电探测器国内外研究现状,预测了硅基雪崩光电探测器在军事和激光雷达等方向的应用前景。 关键词:光电探测器;硅基雪崩光电探测器;激光雷达 Principle and Research Statue at Home and Abroad of photoelectric detector Abstract Described the basic principle and assortment of the photoelectric detector. The domestic and abroad research statue from the aspects of material selection and device main applications is summarized. At last the application prospects of silicon-based avalanche photodetector are predicted, such as research on military and laser radar. Keywords: phoroelectric detector;silicon-based avalanche photodetector;laser radar

1 引言 光电探测器的发展历史比较悠久,已有上百年的研究历史。由于这种器件在军事和民用中的重要性,发展非常迅速。随着激光与红外技术的发展,材料性能的改进和制造工艺的不断完善,光电探测器朝这集成化的方向发展。这大大缩小体积、改善性能、降低成本。此外将光辐射探测器阵列与CCD 器件结合起来,可以实现信息的传输也可用于热成像领域。 因此,进一步研究光电探测器是一项重要课题,本文章就从原理及国内外最新的研究状况探索光电探测器领先应用。 2 光电探测器入门 2.1 光电探测器的发展历史 最早用来探测可见光辐射和红外辐射的光辐射探测器是热探测器。其中,热电偶早在1826年就已发明出来【1】。1880年又发明了金属薄膜测辐射计。1947年制成了金属氧化物热敏电阻测辐射热计。1947年又发明了气动探测器。经过多年的改进和发展,这些光辐射探测器日趋完善,性能也有了较大的改进和提高。但是,与光子探测器相比,这些光辐射探测器的探测率仍较低,时间常数也较大。从五十年代开始人们对热释电探测器进行了一系列研究工作,发现它具有许多独特的优点,因此近年来有关热释电探测器的研究工作特别活跃,发展异常迅速。热释电探测器的发展以使得热探测器这个领域大为改观,以致有人估计热释电技术将成为发展电子——光学工业的先导。 应用广泛的光子探测器,除了发展最早、技术上也最成熟、响应波长从紫光到近红外的光电倍增管以外,硅和锗材料制作的光电二极管、铅锡、Ⅲ~Ⅴ族化合物、锗掺杂等光辐射探测器,目前均已达到相当成熟的阶段,器主要性能已接近理论极限。 1970年以后又出现了一种利用光子牵引效应制成的光子牵引探测器。其主要用于CO 2 激光的探测。八十年代中期,出现了利用掺杂的GaAs/AlGaAs材料、基于导带跃迁的新型光探测器——量子阱探测器。这种器件工作于8~12μm波段,工作温度为77K。 2.2 光电探测的分类及原理 光电探测器能把光信号转换为电信号。根据器件对辐射响应的方式不同或者说器件工作的机理不同,光电探测器可分为两大类:一类是光子探测器;另一类是热探测器。 光电探测器的工作原理是基于光电效应【2】。热探测器是用探测元件吸收入射辐射而产生热、造成温升,并借助各种物理效应把温升转换成电量的原理而制成的器件。最常用的有温差电偶、测辐射热计、高莱管、热电探测器。一般来说,热探测器的接收元由于表面涂黑它的光谱响应是无选择性的,它只受透光窗口光谱透射特性的限制,因此主要应用于红外区和紫外区,但它的响应率较低、响应速度慢、机械强度低,近来由于热电探测器和薄膜器件的发展,上述缺点已有所改进。 光子型探测器,利用外光电效应制成的光子型探测器是真空电子器件,如光电管、光电倍增管和红外变像管等。这些器件都包含一个对光子敏感的光电阴极,当光子投射到光电阴极上时,光子可能被光电阴极中的电子吸收,获得足够大能量的电子能逸出光电阴极而成为自由的光电子。在光电管中,光电子在带正电的阳极的作用下运动,构成

自动控制原理实验报告

《自动控制原理》 实验报告 姓名: 学号: 专业: 班级: 时段: 成绩: 工学院自动化系

实验一 典型环节的MATLAB 仿真 一、实验目的 1.熟悉MATLAB 桌面和命令窗口,初步了解SIMULINK 功能模块的使用方法。 2.通过观察典型环节在单位阶跃信号作用下的动态特性,加深对各典型环节响应曲线的理解。 3.定性了解各参数变化对典型环节动态特性的影响。 二、实验原理 1.比例环节的传递函数为 K R K R R R Z Z s G 200,1002)(211 212==-=-=- = 其对应的模拟电路及SIMULINK 图形如图1-3所示。 三、实验内容 按下列各典型环节的传递函数,建立相应的SIMULINK 仿真模型,观察并记录其单位阶跃响应波形。 ① 比例环节1)(1=s G 和2)(1=s G ; ② 惯性环节11)(1+= s s G 和1 5.01 )(2+=s s G ③ 积分环节s s G 1)(1= ④ 微分环节s s G =)(1 ⑤ 比例+微分环节(PD )2)(1+=s s G 和1)(2+=s s G ⑥ 比例+积分环节(PI )s s G 11)(1+=和s s G 211)(2+= 四、实验结果及分析 图1-3 比例环节的模拟电路及SIMULINK 图形

① 仿真模型及波形图1)(1=s G 和2)(1=s G ② 仿真模型及波形图11)(1+= s s G 和1 5.01)(2+=s s G 11)(1+= s s G 1 5.01 )(2+=s s G ③ 积分环节s s G 1)(1= ④ 微分环节

影响印铁涂膜附着力的原因和对策

所谓涂膜的附着力,主要是指印铁产品在施工完毕后,涂料膜层、彩色油墨膜层与金属薄板之间的附着能力。印铁成品在进行各种机械加工成型之后,要求依附于金属薄板上的彩色涂膜无损伤和膜层剥落现象。一般情况下,涂膜的附着力与金属印件的表面性质、涂料性质以及印铁涂料施工方式有着密切的关系。 金属印件性质检测 印铁所使用的金属薄板主要有镀锡薄钢板(俗称马口铁)、镀铬薄钢板以及铝板三大类。金属薄板在制作成型加工过程中,通常表面需要涂上一层薄而均匀的油膜,以防止在机械加工过程中摩擦损伤和保存期内生锈。在金属薄板的制作中,主要是对马口铁和镀铬薄钢板进行表面涂防锈油和表面钝化处理。涂油要求控制好量。而氧化膜和铬的含量,更要求控制在一定的范围之内,这是因为镀锡薄钢板出厂前必须经过钝化处理,以防表面快速氧化,如果钝化处理过强,即表面含铬量过高,就会导致表面附着力下降。此外,表面含铬状态直接影响印铁施工中印墨和涂膜的附着力,不同钝化液配方和电流密度,工艺条件也不同。 金属薄板表面状态的检测十分重要,主要涉及对金属薄板表面氧化膜量、含铬量和涂油量的检测。 氧化膜检测在适当的电解液和适当的电流密度下,氧化物被还原。在电流接通开始还原反应时,金属薄板表面保持在稳定的电位。反应终了时,会有明显的电位跌声。记录起止时刻,并算出该时段内所耗用的总电量,再根据法拉第定律,即可算出被还原的氧化物量。 含铬量的测定化学法测定含铬量较为繁琐,且容易出错,目前行业多采用库伦法估算。其原理是电解铬——测试电路接通后,记录仪上将会呈现表面铬层在电解剂将用尽时表面电极电位逐渐升高的状况,电位停滞段越长,表示其含铬量越高。 涂油量检测用类似于测定涂膜量的脱膜方法,即在3%的Na2CO3的溶液里,以3~6V直流电源的负极接于金属薄板表面。如果金属薄板表面含油量超标,被H2推入溶液中的油会显而易见。 金属薄板和涂料的选择及配合 涂料施工在印铁操作中是重要的一环,关系到印铁产品的基础是否扎实。印铁涂料一般可以分成油(打底涂料)、白色涂料(又叫白可丁)、罩光涂料(光油)、内壁涂料以及特种涂料共五大类组成。涂料不同,稀释剂也各异,要求互相匹配,在稀释时要求稠稀相宜,否则不利于施工质量和涂膜质量。一般情况下,打底涂料要求涂料调配时稀薄一些,涂层也较薄。其主要功能是连接金属薄板和上面的涂膜、墨膜。由于施工要求因涂料而异,操作人员必须认真按施工单上的具体指令进行施工,严格控制涂膜的厚度、车速以及烘炉的实际温度,确保产品质量的稳定性。 施工方式影响印涂膜的附着能力 此外,施工方式也直接影响到印涂膜的附着能力。通常要求印铁涂料的粘度尽可能低,同时确保涂膜在施工完成之后具有基本厚度。在涂料施工时,还要求施工现场保持适当温、湿度,目的是使涂料保持合适的粘度和厚度。在涂膜完工,印件进入隧道式烘炉后,升温速度不宜太快,使涂层的干燥结膜有一定缓冲的过程,这样对涂层表面的流平性有益。

电缆探测仪的文献综述

东海科学技术学院 毕业论文(设计)文献综述 题目:电缆探测仪器 系: 学生姓名: 专业: 班级: 指导教师: 起止日期:

金属探测仪器 本次设计的主要任务是设计金属探测仪,金属都有个共同特性,即导电性。由于此性质,在当高频电磁波辐射到金属后,引起涡流效应[3],从而使辐射体的参数变化,如阻抗、等效电感量[9]等变化,再将这些参数的变化转化成电压、电流[11]、音调的变化效果作为输出指示地下电缆探测仪是电缆维护、电缆施工者的必备工具,地下电缆探测仪,它具备电缆探测中的四大功能,地埋电缆探测仪全面满足各项地下电缆探测的全面需求。带电电缆的路径查找及寻踪、运行电缆的路径查找及寻踪、运行电缆的识别和判断、施工过程中的电缆检测、直埋电缆的故障查找、多种方法电缆深度的准确判读。多年来我们通过全国范围的调研、创新型的研发,用最新的方法、独特的技术研制出了地埋电缆探测仪。光/电缆路[8]由探测仪的研制成功填补了我国在电力电缆探测仪方面的空白,地下电缆路由探测仪使电缆探测技术达到了崭新的高度[3]。 使用地下电缆路径仪(地下电缆探测仪)可以轻松解决了带电电缆路径查找的问题.地埋线探测仪还可直接查找50Hz运行电缆的路径。带电的电缆的路径查找是该带电电缆路径仪的一大特点,该地下电力电缆探测仪器可探测各种高压电缆、低压电缆、光缆的路径。将测量耦合夹钳夹住待测的电缆,通过耦合夹钳在目标电缆上直接产生感应信号。此时沿电缆路径即可接收到信号。此种工作方式可以探测电缆深度不小于3.5米,探测电缆长度不小于3公里。 运行电缆路径仪接收机[8]能够探测运行电缆的50Hz频率。这种工作方式对于区分地下带电电缆及带电电缆、不带电的电缆和金属管探测有很实用的用处。将便携式电缆寻踪仪接收机的工作频率选择为50Hz频率。由于这种工作方式快捷而有效,因此十分的实用。在这种方式中,不需要使用发射器。 在道路施工和建筑施工中,对地面进行开挖是经常的事情。但施工方往往不能及时准确地掌握开挖地区内地下管线及电力电缆的位置和深度等相关资料。目前,由于盲目开挖而导致的各种事故屡见不鲜,供水管路的被挖破、电力电缆、光缆被挖断等等,不但给社会生活造成了很大的影响,同时也给施工方造成很多不必要的损失。开挖前对工作区域内地下管线和电缆的探查已经成为一项必不可少的而且非常有价值的工作。电缆路由探测仪是专门针对“开挖前的电缆、光缆、金属管道探测”这一目的而研发。"这里能不能进行开挖?" 作为施工单位,会经常面对这样的问题? 地下电缆探测仪操作简单,地下电缆探测仪可快速探明开挖区域内地下管线的状况,避免盲目开挖带来的不必要的损失.此种工作方式可探测电缆深度不小于2米[15]。 在建设房子和房屋装修,对于电缆的排布也要清楚它的电缆走向,在装修过程中,如果对电缆走向不明确,很容易出现施工过程中电缆被意外切断,造成意外事故。本次设计中就设计一个电缆探测仪,来检查墙壁中的电缆走向,在开关断的电缆接线头输入一个高频,通过一个信号接收器在电缆周围来回移动,接收到的信号强弱来判断电缆的位子,接近电缆信号强,远离电缆则信号弱。 金属探测器有很多种型号,双线圈金属探测器[14],能耗型金属探测器[7],频差式金属探测器等本次毕业设计通过对粗略的一些方案进行预测,最后确定一个具体方安,即就是要做的设计,对一个通有高频信号的导线用金属探测器[7]来检测,通过探测电路的信号F1和检测电路信号F2的频差经过放大输出得到一个让人能听到的声音,用耳机接听来判断电缆的位置。。本次设计用到两个振荡电路,即探测电路的电压反馈振荡电路和固定频率信号的方

自控力调查报告

精心整理关于青少年自控力研究的调查报告 姓名:刘晓霞、黎亚文、张容榕、 杜雅玲、钟彩凤、何林兰 二、文献综述............................. 错误!未指定书签。 (一)青少年自控力相关概念的研究..... 错误!未指定书签。 (二)青少年自控力表现的研究......... 错误!未指定书签。 (三)青少年自控力影响因素的研究..... 错误!未指定书签。 (四)青少年自控力影响的研究......... 错误!未指定书签。

(五)提高青少年自控力对策的研究..... 错误!未指定书签。 三、调查结果分析......................... 错误!未指定书签。 (一)青少年自控力表现............... 错误!未指定书签。 (二)青少年自控力的影响因素......... 错误!未指定书签。 (三)提高青少年自控力对策........... 错误!未指定书签。 意志 自控力,对于人的一生都是非常重要的尤其是青少年。在媒体报纸上,经常可以看到青少年走自杀、青少年变成混混、青少年吸毒等等不良现象,在学校,也可以经常听到“某某同学上课打瞌睡”、“某某同学逃课上网吧”等话语,这说明当代青少年的自控力较弱,没有控制自己、青少年自控力低下现象已经引起家长、学校和社会的广泛关注。 通过对中学生(包括初中、高中生)自控力偏弱的相关表现、影响因素以及相应的对策的调查研究,进一步了解当代青少年(主要是中学生)自控力的现状,并为提升青少年自控力提出可借鉴的策略。 通过对中学生自控力的研究,一方面,可以警醒父母提升对孩子的关注度和责任感,提高家庭

探测器暗电流综述报告

暗电流形成及其稳定性分析 综述报告 目录 光电探测器基本原理 (2) 1.1 PIN光探测器的工作原理 (2) 1.2雪崩光电二极管工作原理 (3) 暗电流的形成及其影响因素 (4) 2.1暗电流掺杂浓度的影响 (4) 2.1.2复合电流特性 (5) 2.1.3表面复合电流特性 (5) 2.1.4欧姆电流特性 (5) 2.1.5隧道电流特性 (6) 2.2结面积和压焊区尺寸对探测器暗电流的影响 (8) 2.3腐蚀速率和表面钝化工艺对探测器暗电流的影响 (10) 2.4温度特性对暗电流影响 (11) 暗电流稳定性分析小结 (12) 参考文献 (13)

光探测器芯片处于反向偏置时,在没有光照的条件下也会有微弱的光电流,被称为暗电流,产生暗电流的机制有很多,主要包括表面漏电流、反向扩散电流、产生复合电流、隧穿电流和欧姆电流。。本文就将介绍光电探测器暗电流形成及其稳定性分析,并介绍了一些提高稳定性的方案,讨论它们的优势与存在的问题。 光电探测器基本原理 光电检测是将检测的物理信息用光辐射信号承载,检测光信号的变化,通过信号处理变换,得到检测信息。光学检测主要应用在高分辨率测量、非破坏性分析、高速检测、精密分析等领域,在非接触式、非破坏、高速、精密检测方面具有其他方法无比拟的。因此,光电检测技术是现代检测技术最重要的手段和方法之一,是计量检测技术的一个重要发展方向。 1.1 PIN光探测器的工作原理 在PD的PN结间加入一层本征(或轻掺杂)半导体材料(I区),就可增大耗尽区的宽度,减小扩散作用的影响,提高响应速度。由于I区的材料近似为本征半导体,因此这种结构称为PIN光探测器。图(a)给出了PIN光探测器的结构和反向偏压时的场分布图。I区的材料具有高阻抗特性,使电压基本落在该区,从而在PIN 光探测器内部存在一个高电场区,即将耗尽层扩展到了整个I区控制 I 区的宽度可以控制耗尽层的宽度。 PIN光探测器通过加入中间层,减小了扩散分量对其响应速度的影响,但过大的耗尽区宽度将使载流子通过耗尽区的漂移时间过长,导致响应速度变慢,因此要根据实际情况折中选取I层的材料厚度。

红外探测器

红外探测器 红外探测器(Infrared Detector)是将入射的红外辐射信号转变成电信号输出的器件。红外辐射是波长介于可见光与微波之间的电磁波,人眼察觉不到。要察觉这种辐射的存在并测量其强弱,必须把它转变成可以察觉和测量的其他物理量。一般说来,红外辐射照射物体所引起的任何效应,只要效果可以测量而且足够灵敏,均可用来度量红外辐射的强弱。现代红外探测器所利用的主要是红外热效应和光电效应。这些效应的输出大都是电量,或者可用适当的方法转变成电量。 20 世纪,红外探测技术首先受到军事部门的关注,它实现了黑暗中的目标探测、保密通讯等。 最初的红外探测采用点源探测技术,该方法将目标看作一个热点源,以此来探测、锁定并追踪目标。由于获得的特征信息量十分有限,且非常容易受到各类红外、激光等干扰,因此单元探测基本不具备目标识别的能力。第一代红外导弹采用非致冷的硫化铅探测器进行点源探测,工作波段为 1 ~ 3 μm,探测飞机发动机喷口的红外辐射,因此仅可进行尾追攻击,攻击角度小,作用距离近,且受红外诱饵、背景和气象条件影响严重。第二代红外导弹采用了致冷技术,硫化铅或者碲化铟探测器工作波段为 3 ~ 5 μm,并且使导引头有了更大的视角和跟踪加速度,但是抗干扰能力和作战性能表现平平。 随着计算机技术、光电子技术等发展,光电对抗越来越强烈,简单的点源式探测技术面临重大挑战,逐渐发展为多元探测技术,可以获取较丰富的目标信息。第三代红外导弹采用致冷碲化铟探测器,多为圆锥扫描和玫瑰线扫描,探测范围大,跟踪角速度高,具备一定程度的全向攻击能力及抗干扰能力。 20 世纪 80 年代研发的多元红外探测器面阵凝视成像系统探测元数量达到 10^3~ 10^6量级,可以直接置于红外物镜的焦平面上,实现所谓的大角度“凝视”,电子脉冲代替了光学机械扫描体制。系统灵敏度可提高两个量级且可同时处理多个目标,体积缩小、重量减轻、响应更快、可靠性提高,在军事上有更突出的适用性。第四代红外导弹,如美国的 AIM-9X 采用了凝视焦平面阵列成像,导引头具有更高的抗干扰能力和真正意义上的全向攻击能力,实现了发射后不管。 目前,红外探测技术正朝着中波红外、长波红外双波段甚至多波

自动控制原理课程设计报告

成绩: 自动控制原理 课程设计报告 学生姓名:黄国盛 班级:工化144 学号:201421714406 指导老师:刘芹 设计时间:2016.11.28-2016.12.2

目录 1.设计任务与要求 (1) 2.设计方法及步骤 (1) 2.1系统的开环增益 (1) 2.2校正前的系统 (1) 2.2.1校正前系统的Bode图和阶跃响应曲线 (1) 2.2.2MATLAB程序 (2) 3.3校正方案选择和设计 (3) 3.3.1校正方案选择及结构图 (3) 3.3.2校正装置参数计算 (3) 3.3.3MATLAB程序 (4) 3.4校正后的系统 (4) 3.4.1校正后系统的Bode图和阶跃响应曲线 (4) 3.4.2MATLAB程序 (6) 3.5系统模拟电路图 (6) 3.5.1未校正系统模拟电路图 (6) 3.5.2校正后系统模拟电路图 (7) 3.5.3校正前、后系统阶跃响应曲线 (8) 4.课程设计小结和心得 (9) 5.参考文献 (10)

1.设计任务与要求 题目2:已知单位负反馈系统被控制对象的开环传递函数 ()() 00.51K G s s s =+用串联校正的频率域方法对系统进行串联校正设计。 任务:用串联校正的频率域方法对系统进行串联校正设计,使系统满足如下动态及静态性能 指标: (1)在单位斜坡信号作用下,系统的稳态误差0.05ss e rad <; (2)系统校正后,相位裕量45γ> 。 (3)截止频率6/c rad s ω>。 2.设计方法及步骤 2.1系统的开环增益 由稳态误差要求得:20≥K ,取20=K ;得s G 1s 5.0201)s(0.5s 20)s (20+=+=2.2校正前的系统 2.2.1校正前系统的Bode 图和阶跃响应曲线 图2.2.1-1校正前系统的Bode 图

金属表面涂装附着力解决方案

相信大家在使用涂料对金属产品进行喷涂的时候都有遇到过大部分涂料对金属产品的附着力都不是特别理想的,今天在这里,源雅化工就和大家来谈谈这个问题,到底怎么样才能使涂料对金属附着力提升? 很多金属如锌合金、镁合金、不锈钢等在表喷涂的时候附着力都是不理想,如需在金属表面获得良好附着力,一般需要对金属表面打底处理,可以起到承上启下的作用,使其铰链上底材和UV,达到附着。金属表面附着力促进剂是以特殊树脂为基础经过改性后的最新产品,专门用于提高五金、镁合金、锌合金、金属水电镀、真空电镀等基材的附着力,并且具有优良的物理性能及耐化学性和耐热性,如耐盐雾,耐人工汗液等;它对各类光固化面漆体系都具有优良的附着力。 物理性质: 1、外观:微黄色浑浊液体 2、固含: 25% 3、软化温度:80℃左右 4、分子量:60000-90000 施工工艺: 1、涂装工艺流程五金件(PVD)镀膜表面的清洁→喷涂金属处理水→风干3-5分钟→喷涂UV面漆→IR流平(60±10℃×4~6min)→UV固化(700±100mj/cm2)→检验,下一工序。 2、施工粘度:8±1秒(岩田2#杯) 3、施工气压:3-4Kg/cm2 4、喷涂膜厚:喷涂五金处理剂的膜厚一般控制在3-5μm之间效果最佳,UV面漆的膜厚为10-15μm 尼龙处理剂解决尼龙表面附着力差 来源:源雅化工 产品用途: 尼龙处理剂应用于尼龙塑胶表面加工时增进上涂料时对底材的附着性的特殊助剂。尼龙素材的表面物理性能差、极性低,常常附着力差,需要进行特殊处理后,才能有效的附着。尼龙处理剂专门为这些而产生,具有优异的附着力,可以在处理过的尼龙底材上喷涂任何涂料(包括手感油、UV光油等)。尼龙处理剂广泛应用于家用电器、小商品、高级玩具等许多方面,操作方便、可通过各种测试。 物理性质: 1、化学组成:高分子界面聚合物。 2、密度(g/cm3):0.90。 3、闪点:约12℃。 4、外观:淡黄透明液体。 使用方法: 1.将要处理的尼龙素材擦拭干净,去除表面残留油脂或脱模剂等。

量子阱红外探测器(QWIP)调研报告

量子阱红外探测器(QWIP)调研报告 信息战略中心(2007.07.12) 引言 (2) 1、量子阱红外探测器的原理 (3) 1.1量子阱红外探测器基本原理简介 (3) 1.2QWIP的几种跃迁模式 (4) 1.3量子阱结构的选择 (6) 1.4QWIP的材料选择 (7) 1.5入射光的耦合 (9) 1.6QWIP的性能参数 (11) 1.7 量子阱周期数对器件性能的影响[9] (12) 1.8QWIP的抗辐射机理与方法 (13) 参考文献: (17) 2、量子阱红外探测器的制备方法 (19) 2.1直接混杂法制备红外探测器焦平面阵列像元 (19) 3、量子阱红外探测器的国内外主要应用 (22) 3.1红外探测器分类 (22) 3.2红外探测器发展历程 (23) 3.3红外探测器基本性能参数 (23) 3.4各种焦平面阵列(FPA S)的性能比较 (25) 3.5红外成像系统的完整结构 (26) 3.5.1 焦平面结构 (27) 3.5.2 读出电路 (27) 3.6QWIP探测器实例分析 (29) 3.7QWIP的应用领域及前景分析 (31) 参考文献: (33)

引言 半导体量子阱(Qw)、超晶格(SL)材料是当今材料科学研究的前沿课题,被比喻为实验中的建筑学,即以原子为最小砌块的微观建筑学。它所产生的人工晶体,其性质可人为改变控制,它比通常意义上的晶体材料具有巨大的优越性和发展前景。它的一个极有前途、极为重要的应用领域是新型红外探测器,即第三代红外焦平面量子阱探测器。量子阱新材料是发展新型红外探测器的先导。 红外焦平面探测器是从单元和线阵基础上发展起来的第三代红外探测器,它标志着热像技术已从“光机扫描”跃进到“凝视”这个高台阶,从而使热像系统的灵敏度、可靠性、功能容量及实时性等都获得无以伦比的瞩目进步。众所周知,探测器是决定红外系统属性的主要矛盾,基于红外焦平面探测器的问世,它与信号读出处理电路一体化的成功,以及长寿命闭环斯特林致冷器的实用化,使红外焦平面探测器在以下重要领域得到重要应用或正在考虑其应用: ①空间制导武器。如用焦平面探测器导引头拦截卫星; ②红外预警卫星及机载红外预警系统; ③巡航导弹、地地导弹、空地导弹、防空导弹、海防导弹及反舰导弹的红外制导系统的基本组成; ④地基(包括舰艇平台)红外制导站及红外搜索,跟踪系统; ⑤小型导弹制导及夜间瞄准; ④坦克、飞机、舰艇等运载工具的夜间观测、目标瞄准、自动跟踪等。 红外焦平面探测器早期实用的是Pbs,现在的重点是碲镉汞,Si:Pt及半导体量子阱焦平面探测器。其中半导体量子阱焦平面探测器,在五年内接近走完了碲镉汞(MCT)探测器30年的历程,现在虽然在探测度指标上还不如MCT,但经过进一步的攀登,这种完全靠科学家、计算机的,由MBE或MOCND技术制造的新一代焦平面器件可能成为现代国防的复眼。无疑,今后哪个国家能抢占这个高地,这将在各国国防力量的对比方面产生重要的影响。

自动控制原理 典型系统分析报告

222010322072023 付珣利自动化01班位置随动系统: 控制系统原理图 (作业一) 1.1系统方块图 放大器K1 测速转换 测速电机 TG 电机SM 功放K3 放大器K2u -uo δu ui n 1.2控制方案 若电网电压受到波动,ui↑则δu↑u↑n↑uo↑ 所以δu↓u↓n↓从而使n达到稳定。 (作业二) 2.1由原理可知:

Θe (s )=Θi (s )—Θ0(s ) US (s )=K0Θe (s ) Us (s )=Raia(s)+LaSia+Eb (s ) M(s)=C m ia(s) JS 2θ0(S)+fs θ0(S)= M(s)-Mc (s) Eb(s)=Kb θ0(S) 2.2系统传递函数 ) ()(0s s i θθ=() ))((1) )((1)(1))((3 2103 210f JS R S L S K C f JS R S L S C K K K K f JS R S L S K C f JS R S L S C K K K K a a b m a a m a a b m a a m +++ ++++++ ++= m b m a a m C K K K K K C f JS R S L S C K K K K 32103210))((++++ 2.3动态结构图 设定参数:f=20N,J=20K ·m 2,a R =20 Ω,La=1H,Ko=40,k1k2k3=100,Cm=1,Kb=0 (因为暂取Kb=0,测速反馈通道相当于没加进)

K=101/(0.05S+1)1/S(S+1)δU n Ui -u 图.动态结构图 则开环传递函数为:G(s)= ) 105.0)(1(10 ++s s s 闭环传递函数:Ψ(s )=10 )105.0)(1(10 +++s s s 2.4信号流图 1/(0.05s+1)1/s(s+1) 10 -1 (作业三)系统性能 3.1系统响应及动态性能指标 单位阶跃响应曲线: 由阶跃响应曲线可得知:系统是稳定的,但震荡次数较多。由闭环主导极点

影响ITO薄膜附着力的因素及对策

影响ITO薄膜附着力 的因素及对策 霍锦辉 2011/4/16

附着机理 ?薄膜附着力的产生来源于膜/基片界面之间的相互作用,可分为物理吸附和化学吸附两种。 ?物理吸附的有力学锁合作用和由单分子层间接触所引起的附着力。这两种力主要是: (1)范德华力;(2)偶极子效应、诱起效应和劳伦兹力三种力的总和。 ?化学吸附可分为以下几种类型: (1)由两相邻材料之间发生了化学反应所引起的附着力; (2)由于扩散所引起的附着力; (3)“类扩散”所引起的附着力。

影响附着力因素-本底真空度 ?高的本底真空意味着真空腔体内杂质少,本底真空的提高可以减少在基片上形成薄膜的过程中,空气分子作为杂质混入膜内或在薄膜中形成的化合物。?本底真空度越高,镀膜时引入的杂质就越少。

影响附着力因素-基体表面状态 ?基体的表面状态对附着力有很大影响,.薄膜之所以能附着在基体上,是范德瓦尔力,扩散附着,机械锁合,静电引力,化学键力等的综合作用.基体表面的不清洁将使薄膜不能和基体直接接触,范德瓦尔力大大减弱,扩散附着也不可能,会使附着性能极差.由于表面的吸附(在10-3Pa压力1min即可吸附一个单分子层)作用会使其表面的化学键达到饱和。使沉积物不能与基片形成适当的化学键,这也会降低膜的附着力。

影响附着力因素-基体表面温度 ?在沉积薄膜时,提高基片温度,不但可以去掉基片表面残留的气体及各种水汽、溶剂,还利于薄膜和基片原子的相互扩散,并且会加速化学反应,从而有利于形成扩散附着和通过中间层的附着,这样,包含在微结晶中的晶格缺陷就会减少,而且粒子形状易于长成为纤维状的结构,有利于形成致密的膜层,降低膜/基片界面处的孔隙度,附着力就会增大。低温沉积时,原子活性低,形核密度低,界面存在孔隙;高温沉积时,原子活性增大,形核密度高,界面孔隙少,界面结合较强,附着力高。但基体温度过高会使薄膜晶粒粗大,增加膜中热应力,从而影响薄膜的其他性能。

光电探测器特性测量实验报告

实验1 光电探测器光谱响应特性实验 实验目的 1. 加深对光谱响应概念的理解; 2. 掌握光谱响应的测试方法; 3. 熟悉热释电探测器和硅光电二极管的使用。 实验内容 1. 用热释电探测器测量钨丝灯的光谱特性曲线; 2. 用比较法测量硅光电二极管的光谱响应曲线。 实验原理 光谱响应度是光电探测器对单色入射辐射的响应能力。电压光谱响应度 ()v R λ定义为在波长为λ的单位入射辐射功率的照射下,光电探测器输出的信号 电压,用公式表示,则为 () ()() v V R P λλλ= (1-1) 而光电探测器在波长为λ的单位入射辐射功率的作用下,其所输出的光电流叫做探测器的电流光谱响应度,用下式表示 () ()() i I R P λλλ= (1-2) 式中,()P λ为波长为λ时的入射光功率;()V λ为光电探测器在入射光功率 ()P λ作用下的输出信号电压;()I λ则为输出用电流表示的输出信号电流。为简 写起见,()v R λ和()i R λ均可以用()R λ表示。但在具体计算时应区分()v R λ和()i R λ,显然,二者具有不同的单位。 通常,测量光电探测器的光谱响应多用单色仪对辐射源的辐射功率进行分光来得到不同波长的单色辐射,然后测量在各种波长的辐射照射下光电探测器输出的电信号()V λ。然而由于实际光源的辐射功率是波长的函数,因此在相对测量中要确定单色辐射功率()P λ需要利用参考探测器(基准探测器)。即使用一个光

谱响应度为()f R λ的探测器为基准,用同一波长的单色辐射分别照射待测探测器和基准探测器。由参考探测器的电信号输出(例如为电压信号)()f V λ可得单色辐射功率()=()()f P V R λλλ,再通过(1-1)式计算即可得到待测探测器的光谱响应度。 本实验采用单色仪对钨丝灯辐射进行分光,得到单色光功率()P λ ,这里用响应度和波长无关的热释电探测器作参考探测器,测得()P λ入射时的输出电压为()f V λ。若用f R 表示热释电探测器的响应度,则显然有 ()()f f f V P R K λλ= (1-3) 这里f K 为热释电探测器前放和主放放大倍数的乘织,即总的放大倍数。在本实验中=100300f K ?,f R 为热释电探测器的响应度,实验中在所用的25Hz 调制频率下,=900/f R V W 。 然后在相同的光功率()P λ下,用硅光电二极管测量相应的单色光,得到输出电压()b V λ,从而得到光电二极管的光谱相应度 ()() ()()()b b f f f V K V R P V R K λλλλλ= = (1-4) 式中b K 为硅光电二极管测量时总的放大倍数,这里=150300b K ?。 实验仪器 单色仪、热释电探测器组件、光电二极管探测器组件、选频放大器、光源。

锌合金表面涂装涂层附着力不良的原因

锌合金表面涂装涂层附着力不良的主要原因 (本方案由东莞炅盛附着力促进剂整理发布) 在腐蚀环境恶劣的情况下,需要对某些产品或工程设备采取更好的防腐措施,镀锌层加涂装涂层被认为是一种比较好的方法。 镀锌层一般分为电镀锌和热镀锌,在涂层完好的情况下,热浸镀锌层比电镀锌层防腐性能要好。当在产品或零部件的镀锌层上进行涂装时, 最常见的质量事故就是涂装涂层的附着力不良,造成短期内涂层脱落。在涂装和使用现场的表现形式是涂装涂层的附着力时好时坏,质量不稳定。 造成镀锌层与涂装涂层附着力不良的主要原因: 1.镀锌层本身与基体金属的附着力不好,导致镀锌层开裂和脱落(与镀液成分和镀层厚度有关)。 2.锌镀层内混入气体,在涂装涂层烘烤时发生膨胀,造成涂层脱落。 3.热镀锌板镀层较厚、镀层晶粒较粗,以致成型后表面粗糙度过大及零件表面黏附过多锌粉,干扰了磷化膜的正常形成。 4.因为镀锌板镀层中Al的溶解,以致Al3+在磷化槽中积聚,使磷化膜结晶粗大。 5.钝化膜表面太光滑或有油污、水渍影响附着力。 6.金属锌的活性强,富有反应性,使得涂层的黏度下降。 7.锌的二次生成物(碱式复盐)易溶于水,多数显示碱性,使用过程中,透过涂层的水与基板上的盐类发生溶解,破坏涂装涂层的附着力。 8.锌因为各种原因(如微电池作用)产生的锈蚀产物(白锈Zn(OH)255%·ZnCO340%·H2O5%)使体积膨胀(增加几十倍),影响涂装涂层的附着力。 9.锌在pH为9~11之内是比较稳定的,透过涂装涂层的水或水溶液的pH如果不在此范围内,锌则会溶解析出,从而影响涂装涂层的附着力。 10.锌与存在于涂料(某类油性涂料)中或涂层中的 脂肪酸发生反应,可生成溶解于水的金属皂(树脂金属盐),常常成为涂装涂层脆化甚至剥离的原因。原子灰直接刮涂在镀锌板上附着力极差,其原因是由于镀锌层与不饱和聚酯相互反应生成金属盐,产生锈蚀、小泡,进而造成原子灰大面积脱落。镀锌板需经特殊处理(如钝化、专用钣金腻子或采用致密的底漆层隔离等)才能与原子灰配套使用。

专用烟雾探测器探测电路综述

专用烟雾探测器探测电路综述 聂纪平,杜 虹 (上海贝岭股份有限公司,上海 200233) 摘 要:烟雾探测器控制专用电路是一种应用于火灾报警系统的大规模专用集成电路,该电路可以满足当前火灾报警系统的工业级需求。上海贝岭公司通过对国外同类电路的研究和吸收,对于光电型和离子型两种探测电路在集成电路制造工艺和产品设计上取得进展,实现了该类电路的国产化,并且在产品应用上取得了多项突破,满足了客户的具体使用和调试需求,同时针对该产品和客户的高可靠性要求,该系列产品通过UL 标准的检测,获得了美国的UL 认证。关键词:烟雾探测;UL 认证;离子型探测电路;光电型探测电路 中图分类号:TN492 文献标识码:A 文章编号:1681-1070(2012)06-0039-03 Smoke Detector Control ASIC Review NIE Ji-ping, DU Hong (Shanghai belling Corp ., Ltd , Shanghai 200233,China ) Abstract: Smoke detector control IC is used for fire alarm system. The chip could achieve the industry class level for fire alarm system. Shanghai belling research the international same chip, get process and design knowhow of photoelectric and ionization smoke detector. Belling’s chips have many application innovations and get the customer application and adjustment requirement. And for the high reliability of the chip, Belling passes the UL spec for the chip, and gets UL certificate. Key words: smoke detector; UL audit; photoelectric smoke detector IC; ionization smoke detector IC 收稿日期:2012-03-08 1 烟雾报警器控制电路简介 1.1 烟雾报警器电路基本功能 火灾探测器的一般工作原理是:传感元件检测火灾产生物或火灾发生时的特性值,将探测元件传来的原始信号转换为脉冲量,送入火灾自动报警控制器中,控制器对接收到的信号加以计算分析,并判定是否有火灾正在发生,发出报警信号。当前主要有两种探测器工作原理[1]。1.2 光电式烟雾探测器电路 光电式感烟探测器有一个迷宫式烟雾探测室, 里面设有一个光源和一个感光元件。由于是迷宫式设计,光源的光线一般不能照射到感光元件上,如图1(a );但是当有烟雾进入后,光线在烟雾中产生散射,从而有部分光线射到感光元件上,如图1(b )。烟雾越浓,散射到感光元件上的光线就越多,感光元件再把光信号通过专用电路转换为电信号进行输出。 1.3 离子式烟雾探测器 离子式烟雾探测器由一个放射源(如Am241)、外置的采样室和内置的离子参考样本室

量子阱红外探测器QWIP调研报告.doc

量子阱红外探测器( QWIP )调研报告 信息战略中心() 引言 ............................................................................................... 错误 ! 未定义书签。 1、量子阱红外探测器的原理 ..................................................... 错误 ! 未定义书签。 量子阱红外探测器基本原理简介 .......................................... 错误 ! 未定义书签。QWIP 的几种跃迁模式 ........................................................... 错误 ! 未定义书签。量子阱结构的选择 .................................................................. 错误 ! 未定义书签。QWIP 的材料选择 ................................................................... 错误 ! 未定义书签。 入射光的耦合 ......................................................................... 错误 ! 未定义书签。QWIP 的性能参数 ................................................................... 错误 ! 未定义书签。 量子阱周期数对器件性能的影响 [9] ................................. 错误 ! 未定义书签。 QWIP 的抗辐射机理与方法 .................................................. 错误 ! 未定义书签。参考文献: ................................................................................ 错误 ! 未定义书签。 2、量子阱红外探测器的制备方法 ............................................. 错误 ! 未定义书签。 直接混杂法制备红外探测器焦平面阵列像元 ...................... 错误 ! 未定义书签。 3、量子阱红外探测器的国内外主要应用 ................................. 错误 ! 未定义书签。 红外探测器分类 ...................................................................... 错误 ! 未定义书签。 红外探测器发展历程 .............................................................. 错误 ! 未定义书签。 红外探测器基本性能参数 ..................................................... 错误 ! 未定义书签。 各种焦平面阵列( FPA )的性能比较 .................................. 错误 ! 未定义书签。 S 红外成像系统的完整结构 ...................................................... 错误 ! 未定义书签。 焦平面结构 ........................................................................... 错误 ! 未定义书签。 读出电路 ............................................................................... 错误 ! 未定义书签。QWIP 探测器实例分析 ........................................................... 错误 ! 未定义书签。 QWIP 的应用领域及前景分析 .............................................. 错误 ! 未定义书签。参考文献: ................................................................................ 错误 ! 未定义书签。

相关文档
相关文档 最新文档