电影液(外文文献)

Fifteen-Nanometer Ru Diffusion Barrier on NiSi/Si for a sub-45nm Cu Contact Plug

JIA-HUEI LIN,1JIING-HERNG LEE,1CHEN-SHENG HSU,1and JAU-SHIUNG FANG 1,2

1.—Department of Materials Science and Engineering,National Formosa University,Huwei 632,Taiwan,Republic of China.

2.—e-mail:jsfang@https://www.wendangku.net/doc/e610105243.html,.tw

A ruthenium ?lm on a NiSi/Si substrate was evaluated for barrier perfor-mance in Cu contact metallization.The ?lms were deposited by magnetron sputtering using Ni,Ru,and Cu targets.The low-resistivity NiSi ?lm was initially produced from an Ni/Si substrate,and Ru and Cu ?lms were sequentially deposited on the NiSi/Si substrate so that barrier performance could be studied.Barrier properties were elucidated by four-point probe measurement,x-ray diffractometry,scanning electron microscopy,Auger electron spectroscopy,and transmission electron microscopy.The stability temperatures of 600°C (Cu/NiSi/Si)and 650°C (Cu/Ru/NiSi/Si)were system-atically veri?ed and are discussed.Structural analysis indicated that the failure mechanism involved penetration of the Cu through the Ru/NiSi stacked ?lm at a speci?c temperature,which induced the accelerated dissociation of the NiSi.Interposition of an Ru layer between the Cu and the NiSi/Si effectively prevented intermixing and substantially improved the thermal stability in the Cu/NiSi/Si stack ?lms.

Key words:Copper contact plug,nickel silicide,ruthenium,diffusion

barrier,magnetron sputtering

INTRODUCTION

As the feature sizes in ultra-large scale integra-tion continue to be scaled down to 45nm technol-ogy,the resistivity of the contact plug has dominated the performance of multilevel intercon-nections.The typical tungsten contact plug there-fore faces issues,because of its high resistivity,and many authors have recently reported the use of copper (Cu)to replace traditional tungsten (W)as the plug material.1–3The bene?ts of Cu intercon-nection are widely appreciated,and the associated issues have been discussed extensively.However,Cu suffers from a serious diffusion issue in the contact plug application;if it is deposited directly on gate and source/drain silicides,the contact scheme is very likely to the Cu/Si stack.Rapid diffusion of Cu enables it to react with the silicide,induce the formation of detrimental Cu 3Si,and,eventually,

cause failure in the devices.4,5Hence,an effective diffusion barrier must be implemented between Cu and its contact material to prevent the penetration of Cu and to enhance adhesion with the underlying silicide.Nevertheless,the current tantalum/tantalum nitride (Ta/TaN)diffusion barrier used for Cu interconnects encounters scaling dif?culties beyond the 45nm node.However,an ultrathin and confor-mal Cu diffusion barrier is crucial for an advanced Cu interconnection.

Recent work 6,7has proposed barrier materials based on their oxidation tendencies,which allow direct Cu electrodeposition in a traditional plating bath.Ru is an air-stable transition metal with nearly half the electrical resistivity of Ta (the resistivity of Ru and Ta is 7.6l X cm and 13l X cm,respectively),and it shows negligible solubility in Cu,even at 900°C.8Ru is therefore a promising material for use as a diffusion barrier for Cu inter-connections beyond the 45nm node.

The performance of microelectronics becomes critical when the devices are scaled down.In

(Received February 27,2009;accepted July 11,2009;published online August 11,2009)

Journal of ELECTRONIC MATERIALS,Vol.38,No.11,2009Special Issue Paper

DOI:10.1007/s11664-009-0899-8ó2009TMS

2251

general,NiSi has been widely used as the gate and source/drain silicide for45nm technology,because of low resistivity,a line width-independent growth mechanism,and low Si consumption.9Current studies of interfacial reactions between Cu and NiSi are attracting a substantial amount of inter-est,and recent studies have evaluated the effects of TiN,10TiW,11and TaN12barriers in the Cu/ CoSi2/Si stacked?lm,and of Ta-based barriers3,13 for the Cu/NiSi/Si stacked?lm.Nevertheless, research efforts on the barrier between Cu and NiSi are still rare.As a result,this work was aimed to evaluate Ru?lm as a barrier on a NiSi/Si substrate for the Cu contact plug.Experimental results indicated that thermal stability and barrier performance can be improved by use of the Ru barrier in the Cu/NiSi/Si scheme.

EXPERIMENTAL PROCEDURE

A p-type(100)Si wafer was well cleaned by a standard Radio Corporation of America(RCA)pro-cedure before being loaded into the sputtering chamber.The base pressure of the sputtering chamber was evacuated to below2910à6Torr with a turbo-molecular pump backed by a rotary pump.Working pressure was maintained at 4910à3Torr with an argon?ow of20sccm[sccm denotes cubic centimeters per minute at standard temperature and pressure(STP)].An Ni?lm20nm thick was deposited on the Si substrate by magne-tron sputtering using an Ni target and a radio frequency power supply?xed at150W.The sample was then annealed at600°C for60s in an Ar+H2 (5%)ambient environment by rapid thermal annealing(RTA)to form the low-resistive NiSi?lm. Subsequently,the unreacted nickel was selectively removed with a solution of H2SO4:H2O2:H2O= 1:2:5.An Ru?lm15nm thick was deposited on the NiSi/Si substrate by magnetron sputtering from an Ru target(using a direct current(DC)power supply ?xed at100W),and a100nm-thick Cu?lm was then deposited on top of the Ru barrier without breaking vacuum.For evaluation of barrier perfor-mance,the Cu/NiSi/Si and Cu/Ru/NiSi/Si stacked ?lms were annealed at a temperature between 300°C and750°C for5min in an Ar+H2(5%) ambient atmosphere by RTA.

X-ray diffractometry(XRD)with Cu K a1radiation was introduced to identify the structure of the?lm. The sheet resistance of the?lm was measured?ve times per sample on a constant area of191cm2at room temperature with a standard four-point probe. Scanning electron microscopy(SEM)was employed to elucidate the surface morphology,and energy dispersed x-ray spectroscopy(EDS)was employed to detect the elemental composition.The interdiffusion between the layers was detected by Auger electron spectroscopy(AES),which yielded counts of the element distribution depth pro?le through the?lms. Transmission electron microscopy(TEM)was used to observe the cross-sectional microstructure of the stacked?lm.

RESULTS AND DISCUSSION Resistivity and Structural Changes

of the Films

Figure1shows changes in the sheet resistance of the Cu/NiSi/Si(curve a)and Cu/Ru/NiSi/Si(curve b) stacked?lms after RTA at a temperature between 300°C and750°C for5min.The change in sheet resistance may re?ect reaction or intermixing at interfaces of the stacked?lm.The sheet resistance of the?lm annealed at300–500°C is lower than that of the as-deposited state because of defect annihi-lation and grain growth of Cu.14The sheet resis-tance of the Cu/NiSi/Si stacked?lm increases sligh-tly upon annealing at500°C and650°C,and then an abrupt increase is seen at700°C.However,the sheet resistance of the Cu/Ru/NiSi/Si stacked?lm increases slightly at700°C,and,subsequently,an abrupt increase is observed at750°C.A signi?cant rise in the sheet resistance reveals reaction or intermixing at interfaces of the stacked?lm asso-ciated with the formation of intermetallic com-pounds,an observation which will be expanded by structural examination.

XRD results for the Cu/NiSi/Si and Cu/Ru/NiSi/Si stacked?lms are presented in Fig.2.Cu diffraction peaks in the Cu/NiSi/Si stacked?lm shift toward high diffraction angles as annealing temperature increases,as indicated in Fig.2a.The shifting of the Cu diffraction peaks is induced by the formation of CuNi,because the copper mixes with the nickel from the dissociated NiSi at an elevated tempera-ture.This observation in CuNi correlates well with that of Cu3Ti,Cu3Si,and Cu4Si in the Cu/TiSi2/Si stacked?lm.15Incorporation of Ni into the Cu?lm reduces the d-spacing of the Cu lattice,because nickel has a smaller atomic radius(1.246A?)

than Fig.1.Sheet resistance changes in the stacked?lm.

Lin,Lee,Hsu,and Fang

2252

that of copper (1.278A

?).The Cu diffraction peaks change into CuNi diffraction peaks completely [Joint Committee on Powder Diffraction Standards (JCPDS)65-9048]upon annealing at up to 650°C.The structural change thus induces a slight increase in the sheet resistance at a temperature between 500°C and 650°C,as presented in Fig.1(curve a).Tiny Cu 3Si diffraction peaks (JCPDS 51-0916)appear when the ?lm is annealed above 600°C,indicating that the reaction has occurred between Cu and the underlying NiSi/Si substrate.How-ever,the CuNi diffraction peaks also exist at a temperature above 600°C,suggesting that the for-mation of CuNi and Cu 3Si is triggered by dissocia-tion of the underlying NiSi/Si.The formation of CuNi is clearly seen here as having a retar-dant effect on the reaction between Cu and the

underlying Si;therefore,the diffraction peak of Cu 3Si remains low at 650°C.The failure of the ?lm closely correlates with the dissociation of NiSi,so as to provide Ni to form CuNi and to release Si to form Cu 3Si.This can also be seen in the Cu/PtSi/Si structure.16The intensity of Cu 3Si diffraction peaks obviously increases upon annealing at 700°C and,therefore,re?ects an abrupt increase in the sheet resistance.

Introduction of an Ru layer can prevent inter-mixing between Cu and NiSi,as seen from the observation that the Cu diffraction peak does not shift nor can a detectable CuNi peak be observed when the Cu/Ru/NiSi/Si stacked ?lm is annealed at and above 600°C,as depicted in Fig.2b.However,a tiny Cu 3Si diffraction peak is observed after annealing at 650°C.The grain size of Cu 3Si is very small,as seen from the broadened diffraction peak,so that the change in the sheet resistance is tiny for the 650°C-annealed Cu/Ru/NiSi/Si sample,as shown in Fig.1(curve b).The Cu 3Si diffraction peak of the ?lm becomes stronger after annealing at 700–750°C,implying that Cu has diffused consid-erably through the Ru layer to react with the underlying NiSi and/or the Si substrate,and the Cu diffraction peak disappears eventually at 750°C (NiSi 2is known to form at approximately 700°C).However,no NiSi 2diffraction peak can be identi?ed after annealing at up to 700°C in our study,sug-gesting that the Ru-capped NiSi/Si has an inhibitive effect on the transformation from NiSi to NiSi 2.This was also found for the Ti-capped Ni/Si thin ?lm.17The Cu diffraction peaks disappear completely,and the Ru 2Si 318diffraction peaks (JCPDS 71-0455)are detected at 750°C.This ?nding reveals that Ru has reacted with NiSi and/or the Si substrate by forming an Ru 2Si 3phase,and Cu has penetrated through the barrier to react with the underlying NiSi and/or the Si substrate to form Cu 3Si.The appearances of Ru 2Si 3and Cu 3Si strongly correlate with the abrupt increase in the sheet resistance of the ?lm,as shown in Fig.1(curve b).The intensity of CuNi is also high at 700°C for the Cu/NiSi/Si stacked ?lm,as observed from comparison with the Cu/Ru/NiSi/Si,revealing that the formation of CuNi has depleted the Ni content in the underlying NiSi in the case without the Ru barrier;however,this is undesirable for the use of NiSi on gates and source/drains to reduce contact resistance.Interposing the Ru layer between Cu and the NiSi/Si can thus pre-vent early dissociation of the NiSi and formation of the CuNi.

Surface Morphology and Interface of the Stacked Film

Figure 3a and b show the surface morphologies of the Cu/NiSi/Si stacked ?lm after annealing at 550°C and 600°C,respectively.There are tiny microvoids (0.10–0.30l m)and bright particles (0.16–0.48l m)observed on the surface when the ?lm is annealed

at

Fig.2.X-ray diffraction patterns of (a)Cu/NiSi/Si and (b)Cu/Ru/NiSi/Si stacked ?lms after annealing at elevated temperatures (arb.arbitrary).

Fifteen-Nanometer Ru Diffusion Barrier on NiSi/Si for a sub-45nm Cu Contact Plug 2253

550°C,as observed in Fig.3a.Existence of the microvoids and bright particles suggests that a reaction has occurred between the layers,thereby leading to an increase in the sheet resistance of the Cu/NiSi/Si stacked ?lm (Fig.1,curve a).The result might be attributable to the poor wettability of Cu on the NiSi/Si.3,13,19With further increase of the annealing temperature to 600°C (as shown in Fig.3b),the bright particles,identi?ed as Cu 3Si (EDS line scans on the ?lm are inserted in Fig.3b)become larger (0.40–1.50l m).

Figure 4a and b show the surface morphologies of the Cu/Ru/NiSi/Si stacked ?lm after annealing at 600°C and 650°C,respectively.The 600°C-annealed ?lm has a smooth surface,indicating that the Cu ?lm is free of microvoids and bright particles,as displayed in Fig.4a.This ?nding shows that the Ru layer has effectively inhibited the formation of microvoids at 600°C.However,several bright par-ticles (1.45–2.60l m)with surrounding microvoids (1.30–2.50l m)form as the annealing temperature increases up to 650°C,as presented in Fig.4b.The insert in Fig.4b shows the EDS line scans on the surface of the 650°C-annealed sample;this result shows that Cu dominates the bright particles,identi?ed as Cu 3Si and,therefore,results in the depletion of Cu in the surrounding microvoid.

Figure 5presents the AES depth pro?les of the Cu/NiSi/Si and Cu/Ru/NiSi/Si stacked ?lms annealed at 600°C.For the Cu/NiSi/Si stacked ?lm,as shown in Fig.5a,Cu still dominates on the sur-face;however,a noticeable amount of Ni can be detected in the Cu layer,implying that the under-lying NiSi has decomposed to provide Ni to mix with Cu to form CuNi.Additionally,the interface of the NiSi layer is unapparent,and the Cu-Si intermixing is also observed at the interface of Cu and NiSi/Si.Figure 5b shows that Cu dominates on the Cu/Ru/NiSi/Si ?lm surface except at the initial measuring points,which re?ects surface contamination.The surface of the ?lm was con-taminated by carbon,and it re?ects the high Ru content on the surface because the Auger electron energy of C is close to that of Ru.Cu has not noticeably diffused into the underlying NiSi upon annealing at 600°C,revealing that the Cu/Ru/NiSi/Si stacked ?lm retained intact.

Figure 6displays a cross-sectional TEM image of the stacked ?lm.As shown in Fig.6a,an imperfect interface between the layers and Cu 3Si pyramidal defects is observed upon annealing of the Cu/NiSi/Si stacked ?lm at 600°C.Delamination has occurred at the interface between Cu and Si,and no NiSi ?lm is observed.This image implies that the NiSi has dissociated before Cu penetration to react with the underlying Si substrate.Figure 6b shows a cross-sectional image of the as-deposited Cu/Ru/NiSi/Si stacked ?lm.A thin layer ($2nm)of the

residual

Fig.3.SEM images of the Cu/NiSi/Si stacked ?lm annealed at (a)550°C and (b)600°

C.Fig.4.SEM images of the Cu/Ru/NiSi/Si stacked ?lm annealed at (a)600°C and (b)650°C.

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nickel and/or the NiSi oxide can be found at the interface of Ru/NiSi.A cross-sectional TEM image of the Cu/Ru/NiSi/Si stacked ?lm annealed at 600°C is presented in Fig.6c.Interfaces of the 600°C-annealed ?lm become much clearer than that of the as-deposited state,indicating a lack of intermixing between the layers.However,a layer of the residual nickel and/or the NiSi oxide still exists,which might act as an extra barrier to retard diffusion between the layers.The layer becomes thick at 600°C.As is well known,residual oxygen in the ambient annealing environment might diffuse along the grain boundary in the Cu/Ru ?lm,reacting with the residual nickel and/or the NiSi to form an NiSi oxide between Ru and NiSi.Therefore,incorporation of oxygen to form NiSi oxide is possible.It suggests that the enlarged layer is caused by Cu that has diffused through the Ru layer to form CuNi,but no

CuNi peak is observed in the XRD result,implying that NiSi oxide is more probable in this study.However,the interfaces between Cu/Ru and NiSi/Si are intact,suggesting that neither Cu 3Si nor CuNi intermetallic compounds form.Interposition of a ruthenium ?lm is observed from a comparison with the Cu/NiSi/Si stacked ?lm (Fig.6a),which has a better barrier effect at the stacked ?lm.The results closely correlate with the ?nding from the XRD examination and the sheet resistance variation.However,the thermal stability of the Ru barrier is limited in retardation of Cu diffusion,since the failure temperature of Cu/Ru/NiSi/Si exceeds that of Cu/NiSi/Si by 50°C.Recently,researchers

have

Fig.5.AES depth pro?les for (a)Cu/NiSi/Si stacked ?lm annealed at 600°C and (b)Cu/Ru/NiSi/Si stacked ?lm annealed at 600°

C.

Fig.6.Cross-sectional TEM images of (a)the Cu/NiSi/Si stacked ?lm after being annealed at 600°C,(b)as-deposited Cu/Ru/NiSi/Si stacked ?lm,and (c)the Cu/Ru/NiSi/Si stacked ?lm after annealing at 600°C.

Fifteen-Nanometer Ru Diffusion Barrier on NiSi/Si for a sub-45nm Cu Contact Plug 2255

studied the barrier effect of Ru nitride and/or Ru-TaN on Si substrates with the goal of meeting the requirement of the International Technology Roadmap for Semiconductors(ITRS).20–22Never-theless,resistivity of the Ru nitride barrier needs improvement,and the effect on NiSi/Si requires further evaluation.

CONCLUSIONS

The effect of an Ru barrier on the prevention of Cu diffusion through an NiSi substrate was inves-tigated.The Cu/NiSi/Si and Cu/Ru/NiSi/Si stacked ?lms fail at temperatures of600°C and650°C, respectively.Decomposition of the NiSi at an ele-vated temperature causes the failure of Cu/NiSi/Si, in which Ni has mixed with Cu to form CuNi before it fails.After that,Cu reacts with the NiSi/Si to form Cu3Si.Introduction of the Ru barrier can prevent intermixing between Cu and the NiSi/Si,and hence it can improve the thermal stability of the stacked ?lm,which can be used as a diffusion barrier for seedless Cu contact plugs on the NiSi/Si substrate.

ACKNOWLEDGEMENTS

The authors are grateful to the National Science Council of the Republic of China,Taiwan,for ?nancial support of this research under grant no. NSC96-2221-E-150-034.

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Lin,Lee,Hsu,and Fang

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儿童保护视力10方法

儿童保护视力10方法 一光线须充足：光线要充足舒适，光线太弱而因字体看不清就会越看越近。 二反光要避免：书桌边应有灯光装置，其目的在减少反光以降低对眼睛的伤害。 三阅读时间勿太长：无论做功课或看电视，时间不可太长，以每三十分钟休息片刻为佳。 四坐姿要端正：不可弯腰驼背，越靠近或趴着做功课易造成睫状肌紧张过度，进而造成近视。 五看书距离应适中：书与眼睛之间的距离应以30公分为准，且桌椅的高度也应与体格相配 合，不可勉强将就。 六看电视距离勿太近：看电视时应保持与电视画面对角线六~八倍距离，每30分钟必须休息片刻 七睡眠不可太少，作息有规律：睡眠不足身体容易疲劳，易造成假性近视。 八多做户外运动：经常眺望远外放松眼肌，防止近视，向大自然多接触青山绿野，有益于眼睛的健康。 九营养摄取应无均衡：不可偏食，应特别注意维生素B类（胚芽米、麦片酵母）之摄取。 十定期做视力：凡视力不正常者应至合格眼镜公司或眼科医师处做进一步的检查。 如何保护儿童视力 孩子得了近视眼，埋怨父母，是有一定道理的。 长期以来，已有不少调查证实，近视眼的发生有一定家族性，父母亲均为近视，子女患近视的多，父母亲均无近视，子女患近视的少，父母一方有近视，子女患近视介于上述两者之间。所以儿童近视眼与父母关系十分密切。 预防近视眼，要注意以下几点： （1）不要看字迹太小或模糊的书报。 （2）教育儿童改正不合理的用眼习惯，不良习惯都会使眼睛过度疲劳，降低视力的敏锐度。 （3）加强体格锻炼，增强身体素质，可以减轻减慢近视眼的发生，尤其是室外体育运动。让孩子在空气新鲜、视野开阔的郊外进行远眺，极目欣赏祖国的山河大地，也是

世界文化遗产荟萃(外国部分).doc

世界文化遗产荟萃（外国部分） 一、课标要求考点链接：《世界遗产公约》产生的背景、主要内容及意义；文化遗产列入《世界遗产名录》的标准；世界文化遗产的价值和保护原则；古代埃及金字塔文明的杰出代表及其在世界文明产生和发展中的地位；金字塔建筑在科学技术方面的成就及意义；阿布辛拜勒神庙、小辛拜勒神庙、菲莱神庙的艺术特点、阿布辛拜勒神庙搬迁中人类体现的精神意识及意义；雅典城邦和雅典卫城、帕特农神庙的艺术特点、奥林匹亚遗址特点和文化价值、现代奥林匹克运动的兴起和精神；古罗马城的由来以及罗马大斗兽场、图拉真广场和纪功柱、万神殿、凯旋门的艺术特点和文化内涵；佛罗伦萨成为文艺复兴摇篮的原因；圣母玛利亚大教堂、乌菲齐美术馆、帕拉蒂纳美术馆的于是特点和历史意义；西斯廷小教堂及其壁画的艺术特点和价值；圣彼得大教堂及其广场建筑的艺术特点和历史价值；殖民主义的罪恶和戈雷岛的历史价值；德国法西斯在奥斯威辛集中营犯下的罪恶；奥斯威辛集中营作为世界文化遗产的警示作用。学法提示：本专题的内容较为琐碎，以识记性为主；但是它们跟历史发展的脉络联系紧密。“一定时期的文化是一定时期政治经济的反映”，学生在学习的同时要密切结合政治史、经济史的内容，融会贯通，深化记忆。同时，世界文化遗产是人类智慧的结晶，是我们的祖先留给子孙后代的文化瑰宝，但它们却面临很多危机，因此，学生在学

习的时候应该结合现实，充分认识世界文化遗产的历史价值。学习世界文化遗产知识内容的过程，也是充分认识其实质和精神的过程。学习的方法，主要是收集资料和进行探究式学习。了解世界文化遗产的内容，不可能都取实地考察的方法，主要是通过各种途径收集有关的图片影像资料及文字资料加以利用；探究式学习，也主要是对图片影像资料的观察、赏析，及对文字资料的研究，去认识问题、发现问题和解决问题。在学习中，既要探究文化遗产各自的性质特征、艺术风格和技术成就，又要从它们产生的社会历史背景、创造和形成的过程、对社会发展和文化演进的影响等方面来把握其深刻的内涵。应该得到这样的认识：世界上各地区各民族都创造有自己的文明成果，这才造就了世界文化的多元性，正是在这个意义上我们说“越是民族的，就越是世界的”。世界文化遗产绝不仅属于所在国家或地区，而是全世界人类的共同财富，这是通过学习应当充分理解的重要概念。 文化遗产和自然遗产面临的威胁、《世界遗产公约》的制定和主要内容《世界遗产名录》的公布、登陆标准和《保护非物质文化遗产公约》的制定中国丰富的世界文化遗产资源和数量二、知识梳理（一）知识体系34567891011131415161718 2019-06- 一、课标要求考点链接：《世界遗产公约》产生的背景、

保护视力,从我做起教案-共15页

“让心灵之窗更明亮”爱眼护眼主题班会教案 一、班会教学目的： 1、初步了解眼睛构造，知道视力对学习、生活的重要性。 2、培养科学用眼的意识，养成正确用眼、认真做眼操的好习惯。 3、学会爱护自己的眼睛，保护视力，同时爱护自己。 二、班会准备： 让学生分小组从家长及课外书中去查找一些关于眼睛的各方面的资料，做眼睛保健操的正确的动作，并获得一些有关眼睛保健方面的知识。 拍摄三位家长有关近视的录像，一位医生解说近视成因的录像 三、班会过程： 1、导入——观看有关家长视力不好的视频，谈感受： 敬爱的老师，亲爱的同学：大家好！今天的班会课由我们俩为大家主持。 先请大家观看几段录像。（a说说自己得近视的原因；b一位家长说说从小的理想是当一名飞行员，但因为近视无法实现自己的梦想；c在生活中近视给自己带来诸多的不便，如雨天，镜片遇雨水模糊。吃热腾腾的食物时，镜片也糊了等。）看了这几段录像，你有什么感受吗？生谈感受 预设：我觉得如果近视了，对我们的生活很有影响；我想我得好好爱护我的眼睛了。…… 主持人点评，小结：听了爸爸妈妈们的心声，我们更加明白了视力的重要。 2、宣布主题，班会开始： 同学们，我们之所以能看到如此五彩缤纷的世界，正是因为我们每个人都拥有一双明亮的眼睛。我们交流时，眼睛是表情达意的好帮手，因此它也被人称做是心灵之窗。可是，如果我们视力不好，就会看不清身边的一切，必须戴上眼镜，严重的还会失明，多可怕啊！所以今天我们一起来召开一个主题班会，说说心灵之窗——我们的眼睛。 《让心灵之窗更明亮》主题班会，现在开始！ 3、了解眼睛构造：

我们天天都用到眼睛，看到身边的一切，那眼睛到底是什么样子的？ 下面我们先来听听第一小组（4人）的介绍。他们介绍的是“眼睛的构造”点击出示眼睛结构图 A、这是眼睛的结构图，这是结膜、虹膜、角膜，这是房水、晶状体、视网膜、巩膜，这是视神经。眼睛是一个复杂器官，我们要掌握的三个重要概念是角膜，晶状体和视网膜。（分别点指） B、我来介绍角膜，角膜就像是相机的镜头，是位于眼球前壁的一层透明膜，它将光线传递并集中到眼睛里。 4、了解视力受损的严重性 原来我们的眼睛是个如此复杂的器官，要想清晰地看到事物，看到美好的大自然，还真要注意保护了。要是视力受损，，后果可真是不堪设想。刚才爸爸妈妈们已经谈了自己的感受，同学们，你们知道视力不好，有哪些后果吗？ 预设： 1、老师写在黑板上的板书看不见 2、我长大想当警察，要是视力不好，就不能当警察了 3、广告牌上的字都看不清…… 鼓励学生大胆表达所了解的视力受损的严重性，发散性；主持人要灵活地点评。 同学们刚才说得很好，但视力不好的后果还不止这些，瞧（点击出示六条危害）赶快自己读读吧。 请六位同学读，每人读一条。 5、了解视力受损的原因 视力不好，给我们的生活和学习带来很多的不便和麻烦，那么到底是什么原因造成了视力受损呢？让我们来听一听医生是怎么说的吧？（播放解说一般情况下视力受损的原因DV） 听了医生的解说，你知道了近视有哪些原因呢？随机点评。 同学们可以对照着改变一下自己用眼的坏习惯，对我们的眼睛肯定有帮助。听了专家的介绍，再来让我们听一听同学的心声吧。

世界遗产名录(资料)

世界遗产名录(资料) 世界遗产名录( 资料) 世界遗产标志 为了保护世界文化和 自然遗产，联合国教科文组织于1972年11月16日在第十七次大会上正式通过了《保护世界文化和自然遗产公约》（以下简称《公约》）。1976年，世界遗产委员会成立，并建立了《世界遗产名录》。中国于1985年12月12日加入《公约》，1999年10月29日当选为世界遗产委员会成员。 基本信息 被世界遗产委员会列入《世界遗产名录》的地方，将成为世界级的名胜，可接受“世界遗产基金”提供的援助，还可由有关单位组织游客进行游览。由于被列入《世界遗产名录》的地方能够得到世界的关注与保护，提高知名度并能产生可观的经济效益和社会效益，各国都积极申报“世界遗产”。 由于申报“世界遗产”的国家和所报的项目越来越多，已有37项。2002年4月28日召开的世界遗产委员会第26 次会议决定，今后审批世界遗产的条件将更加严格，一个国家一次最多申报两处遗产（其中至少包括一项自然遗产提

名），尚没有世界遗产景点的国家将享有优先权。世界遗产包括：“世界文化遗产”、“世界自然遗产”、“世界文化与自然双重遗产”、“世界文化景观”、“人类口头和非物质遗产代表作”五类。申报程序 现状 从遗产的提名到被列入世界遗产名录要经历若干程序 和相对漫长的时间。世界遗产委员会每年7月1日前，按照统一规定的严格格式和内容，将本国自认为条件已经完全成熟的预备项目正式申报文本（包括文字、图纸、幻灯、照片、录像或光盘等）送达世界遗产中心。世界遗产中心将把有关材料转达国际专业咨询机构，由相关的专业咨询机构从当年年底至下一年的三四月份进行考察和论证，并向世界遗产委员会提交评估报告。世界遗产委员会每年的6月底至7月初召开一次主席团（7个成员国）会议，初步审议与世界遗产工作相关的事项，包括新的（上一年）世界遗产申报项目，提出建议；再于每年的11月底至12月初召开主席团特别会议，补充审议第一次主席团会议未尽事宜，然后将包括审定新的世界遗产申报项目在内的相关大事提交紧随此次主席 团会后召开的世界遗产委员会全会通过。 办理申请的程序和时间表大体如下：7月1日，接受提名申请截止。9月15日，秘书处登记并索要所缺材料，材料完整的申请将被交给国际古迹遗址理事会或国际自然及自

世界遗产名录

截止2008年,全世界共有世界遗产878处,其中文化遗产679处,自然遗产174处,世界文化遗产与自然双重遗产25处，分布在145个国家。世界遗产名录 亚洲及太平洋地区 1柬埔寨★(CAMBODIA) 敖弟利 吴哥窟区Angkor1992 2孟加拉★( BANGLADESH) 班生兰 巴凯尔哈特清真寺历史名城Historic Mosque City of Bagerhat 1985 帕哈尔普尔的佛教毗诃罗遗址Ruins of the Buddhist Vihara at Paharpur 1 985 3老挝★( LAO PEOPLE'S DEMOCRATIC REPUBLIC) 陈舵 琅勃拉邦的古城Town of Luang Prabang 1995 占巴塞文化风景区Vat Phou and Associated Ancient Settlements within th e Champasak Cultural Landscape 2001 4越南★陈高海 顺化历史建筑群Complex of Hue Monuments 1993 圣子修道院My Son Sanctuary 1999 会安古镇Hoi An Ancient Town 1999 5阿富汗★（AFGHANISTAN）陈明花 查姆回教寺院尖塔和考古遗址Minaret and Archaeological Remains of Jam 2002 巴米扬谷文化景观和考古遗址Cultural Landscape and Archaeological Remai ns of the Bamiyan Valley 2003 6澳大利亚★{AUSTRALIA} 陈琼英 皇家展览馆和卡尔顿园林Royal Exhibition Building and Carlton Gardens 20 04 7日本★JAPAN 陈桃 法隆寺地区的佛教古迹Buddhist Monuments in the Horyu-ji Area 1993 姬路城Himeji-jo 1993 古京都历史古迹(京都、宇治和大津城)Historic Monuments of Ancient Kyoto (Kyoto, Uji and Otsu Cities) 1994 白川乡和五屹山历史村座Historic Villages of Shirakawa-go and Gokayama 1995

保护视力方法大全

保护视力方法大全 保护视力的运动 一、转眼法： 选一安静场所，或坐或站，全身放松，清除杂念，二目睁开，头颈不动，独转眼球。先将眼睛凝视正下方，缓慢转至左方，再转至凝视正上方，至右方，最后回到凝视正下方，这样，先顺时针转9圈。再让眼睛由凝视下方，转至右方，至上方，至左方，再回到下方，这样，再逆时针方向转6圈。总共做4次。每次转动，眼球都应尽可能地达到极限。这种转眼法可以锻炼眼肌，改善营养，使眼灵活自如，炯炯有神。（注意：头颈不动，极力，慢,转到后颈发酸时，立即按摩颈部，直至酸感消失。） 二、眼呼吸凝神法： 选空气清新处，或坐或立，全身放松，二目平视前方，徐徐将气吸足，眼睛随之睁大，稍停片刻，然后将气徐徐呼出，眼睛也随之慢慢微闭，连续做9次。 三、熨眼法： 此法最好坐着做，全身放松，闭上双眼，然后快速相互摩擦两掌，使之生热，趁热用双手捂住双眼，热散后两手猛然拿开，两眼也同时用劲一睁，如此3～5次，能促进眼睛血液循环，增进新陈代谢。 坚持天天做，保护好眼睛。 看不见不要眯眼看，那样最容易近视。 四、提倡望远训练。少年眼球处于生长发育阶段，调节力很强，每天可进行一定时间的望远训练。如清晨眺望远处的建筑物或树木，或在夜晚辨认天空的星斗，还可以在日常休息时对远处某一目标进行辨认，认真对待望远训练并持之以恒，对预防近视眼的发生和发展是很有收益的。 眼疲劳食疗验方 1.黑豆粉1匙，核桃仁泥1匙，牛奶1标，蜂蜜1匙。制法：黑豆500克，炒熟后待冷，磨成粉。核桃仁500克，炒微焦去衣，待冷后捣如泥。取以上两种食品各1匙，冲入煮沸过的牛奶1杯后加入蜂蜜1匙。吃法：早晨或早餐后服。或当早餐，另加早点。说明：黑豆含有丰富蛋白质与维生素B1等，营养价值高，又因黑色食物入肾，配合核桃仁，可增加补肾力量，再加上牛奶和蜂蜜，这些食物含有较多的维生素B1、钙、磷等，能增强眼内肌力、加强调节功能，改善眼疲劳的症状。 2.枸杞子10克，桑椹子10克，山药10克，红枣10个。制法：将上述四种药物水煎两次

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保护视力方法大全 保护视力的运动 一、转眼法： 选一安静场所，或坐或站，全身放松，清除杂念，二目睁开，头颈不动，独转眼球。先将眼睛凝视正下方，缓慢转至左方，再转至凝视正上方，至右方，最后回到凝视正下方，这样，先顺时针转9圈。再让眼睛由凝视下方，转至右方，至上方，至左方，再回到下方，这样，再逆时针方向转6圈。总共做4次。每次转动，眼球都应尽可能地达到极限。这种转眼法可以锻炼眼肌，改善营养，使眼灵活自如，炯炯有神。（注意：头颈不动，极力，慢,转到后颈发酸时，立即按摩颈部，直至酸感消失。） 二、眼呼吸凝神法： 选空气清新处，或坐或立，全身放松，二目平视前方，徐徐将气吸足，眼睛随之睁大，稍停片刻，然后将气徐徐呼出，眼睛也随之慢慢微闭，连续做9次。 三、熨眼法： 此法最好坐着做，全身放松，闭上双眼，然后快速相互摩擦两掌，使之生热，趁热用双手捂住双眼，热散后两手猛然拿开，两眼也同时用劲一睁，如此3～5次，能促进眼睛血液循环，增进新陈代谢。 坚持天天做，保护好眼睛。 看不见不要眯眼看，那样最容易近视。 四、提倡望远训练。少年眼球处于生长发育阶段，调节力很强，每天可进行一定时间的望远训练。如清晨眺望远处的建筑物或树木，或在夜晚辨认天空的星斗，还可以在日常休息时对远处某一目标进行辨认，认真对待望远训练并持之以恒，对预防近视眼的发生和发展是很有收益的。 眼疲劳食疗验方 1.黑豆粉1匙，核桃仁泥1匙，牛奶1标，蜂蜜1匙。制法：黑豆500克，炒熟后待冷，磨成粉。核桃仁500克，炒微焦去衣，待冷后捣如泥。取以上两种食品各1匙，冲入煮沸过的牛奶1杯后加入蜂蜜1匙。吃法：早晨或早餐后服。或当早餐，另加早点。说明：黑豆含有丰富蛋白质与维生素B1等，营养价值高，又因黑色食物入肾，配合核桃仁，可增加补肾力量，再加上牛奶和蜂蜜，这些食物含有较多的维生素B1、钙、磷等，能增强眼内肌力、加强调节功能，改善眼疲劳的症状。 2.枸杞子10克，桑椹子10克，山药10克，红枣10个。制法：将上述四种药物水煎两次（分头、二汁）。吃法：头、二汁相隔3-4小时服。说明：枸杞子、桑椹子能补肝肾、山药、红枣健脾胃。视力疲劳者如能较长时间服用，既能消除眼疲劳症状，又能增强体质。益于眼睛的食物－－如瘦肉、禽肉动物的内脏、鱼虾、奶类、蛋类、豆类等。维生素A的最好来源是各种动物的肝脏、鱼肝油、奶类和蛋类，植物性的食物，比如胡萝卜、苋菜、菠菜、韭菜、青椒、红心白薯以及水果中的桔子、杏子、柿子等栋身胡萝卜素。含有维生素C的食物对眼睛也有益。比如，各种新鲜蔬菜和水果，其中尤其以青椒、黄瓜、菜花、小白菜、鲜枣、生梨桔子等含量最高。丰富的钙粉对眼睛也是有好处的，钙具有消除眼睛紧张的作用。如豆类、绿叶蔬菜、虾皮含钙量都比较丰富。烧排骨汤、松鱼糖醋排骨等烹调方法可以增加钙的含量。 预防近视眼的食疗验方 1.鸡蛋1只，牛奶1杯，蜂蜜1匙。制法：鸡蛋充分打碎，冲入加热的牛奶内，用小火煮沸，鸡蛋熟后待温，再加蜂蜜。吃法：早餐后吃，或当早点，同时加服面包、馒头等。本方需常服。 2.枸杞子10克，陈皮3克，桂圆肉10个，蜂蜜1匙。制法：将枸杞子与陈皮放在用两层纱布做的袋内，然后与桂圆肉一起，放在锅中，加水适量，用火煮沸半小时后，取桂圆肉及汤，并加蜂蜜。吃法：下午当点心。本方亦需常服。

中国的世界遗产名录一览表

中国的世界遗产名录一览表

最新中国历史文化名称名单 直辖市：北京、天津、上海、重庆 河北：保定市、承德市、正定县、邯郸市 山西：平遥县、大同市、新绛县、代县、祁县 内蒙古：呼和浩特市 黑龙江：哈尔滨市 吉林：吉林市、集安市 辽宁：沈阳市 江苏：南京市、徐州市、淮安市、镇江市、常熟市、苏州市、扬州市 浙江：杭州市、绍兴市、宁波市、衢州市、临海市 福建：福州市、泉州市、漳州市、长汀县 江西：南昌市、赣州市、景德镇市 安徽：亳州市、歙县、寿县 山东：济南市、曲阜市、青岛市、聊城市、邹城市、淄博市 河南：郑州市、洛阳市、开封市、安阳市、南阳市、商丘市、浚县 湖北：武汉市、荆州市、襄樊市、随州市、钟祥市 湖南：长沙市、岳阳市、凤凰县 广东：广州市、潮州市、肇庆市、佛山市、梅州市、雷州市 广西：桂林市、柳州市 海南：琼山市 四川：成都市、自贡市、宜宾市、阆中市、乐山市、都江堰市、泸州市云南：昆明市、大理市、丽江县、建水县、巍山县 贵州：遵义市、镇远县 西藏：拉萨市、日喀则市、江孜县 陕西：西安市、延安市、韩城市、榆林市、咸阳市、汉中市 甘肃：张掖市、武威市、敦煌市、天水市 青海：同仁县 宁夏：银川市 新疆：喀什市 中国历史文化名城由国务院审批，目前已公布三批及10座增补城市，共计109座 第一批中国历史文化名城 第一批历史文化名城，1982年公布，24个： 北京、承德、大同、南京、苏州、扬州、杭州、绍兴、泉州、景德镇、曲阜、洛

阳、开封、江陵、长沙、广州、桂林、成都、遵义、昆明、大理、拉萨、西安、延安。 第二批中国历史文化名城 第二批历史文化名城,1986年公布，38个： 上海、天津、沈阳、武汉、南昌、重庆、保定、平遥、呼和浩特、镇江、常熟、徐州、淮安、宁波、歙县、寿县、毫州、福州、漳州、济南、安阳、南阳、商丘、襄樊、潮州、阆中、宜宾、自贡、镇远、丽江、日喀则、韩城、榆林、武威、张掖、敦煌、银川、喀什。 第三批中国历史文化名城 第三批历史文化名城,1994年公布，37个： 正定、邯郸、新绛、代县、祁县、哈尔滨、吉林、集安、衢州、临海、长汀、赣州、青岛、聊城、邹城、临淄、郑州、浚县、随州、钟祥、岳阳、肇庆、佛山、梅州、海康、柳州、琼山、乐山、都江堰、泸州、建水、巍山、江孜、咸阳、汉中、天水、同仁。 增补中国历史文化名城 增补城市10处(2001-2007)： 山海关区（秦皇岛）、凤凰县、濮阳、安庆、泰安、海口、金华、绩溪、吐鲁番、特克斯。

保护视力的4种锻炼方法和按摩护眼方法

保护视力的4种锻炼方法和按摩护眼方法 一、转眼法 选一安静场所，或坐或站，全身放松，清除杂念，二目睁开，头颈不动，独转眼球。先将眼睛凝视正下方，缓慢转至左方，再转至凝视正上方，至右方，最后回到 凝视正下方，这样，先顺时针转9圈。再让眼睛由凝视下方，转至右方，至上方，至左方，再回到下方，这样，再逆时针方向转6圈。总共做4次。每次转动，眼球 都应尽可能地达到极限。这种转眼法可以锻炼眼肌，改善营养，使眼灵活自如，炯炯有神。 二、眼呼吸凝神法 选空气清新处，或坐或立，全身放松，二目平视前方，徐徐将气吸足，眼睛随之睁大，稍停片刻，然后将气徐徐呼出，眼睛也随之慢慢微闭，连续做9次。 三、熨眼法 此法最好坐着做，全身放松，闭上双眼，然后快速相互摩擦两掌，使之生热，趁热用双手捂住双眼，热散后两手猛然拿开，两眼也同时用劲一睁，如此3～5次，能促进眼睛血液循环，增进新陈代谢。 四、洗眼法 先将脸盆消毒后，倒入温水，调节好水温，把脸放入水里，在水中睁开眼睛，使眼球上下左右各移动9次，然后再顺时针、逆时针旋转9次。刚开始，水进入眼 里，眼睛难受无比，但随着眼球的转动，眼睛会慢慢觉得非常舒服。在做这一动作时，若感到呼吸困难，不妨从脸盆中抬起脸来，在外深呼吸一下。此法，能洗去眼 中的有害物质和灰尘，还对轻度白内障有效，并能改善散光、远视、近视的屈光不正程度。 按摩护眼方法：

熨目法： 黎明起床，先将双手互相摩擦，待手搓热后一手掌熨贴双眼，反复三次以后，再以食、中指轻轻按压眼球，或按压眼球四周。 运目法： 两脚分开与肩宽，挺胸站立，头梢仰。瞪大双眼，尽量使眼球不停转动(头不动)，先从右向左转10次，从左向右转10次。然后停，放松肌肉，再重复上述运动，如此3遍。此法于早晨在花园内进行最好，能起到醒脑明目之功效 。 低头法： 身体取下蹲姿式，用双手分别攀住两脚五趾，并稍微用力地往上扳，用力时尽量朝下低头，这样便有助于使五脏六腑的精气精气上升至头部，从而起到营养耳目之作用。 吐气法： 腰背挺直坐位，以鼻子徐涂吸气，侍气吸到最大限度时，用右手捏住鼻孔，紧闭双眼，再用口慢慢地吐气。折指法： 每天坚持早晚各做1遍小指向内折弯，再向后搬的屈伸运动。每遍进行30-50次并在小指外侧的基部用拇指和食指揉捏50-100次。此法坐、立、卧皆可做，坚持经常做，不仅能养脑明目，对有白内障和其它眼病者也有一定疗效。 以上诸法可以单独做，也可任选1、2种合做，贵在持之有恒，日久定见成效。 护眼小秘方： (1)眼睛酸涩疲劳：可用牛奶洗眼。将纱布折叠成小片，在牛奶中完全浸透，覆盖在眼皮上20-30分钟，能增强眼部肌肉活力，解除疲劳。 (2)黑眼圈：可用喝剩的红茶包敷眼，每晚睡前使用，20-30分钟后取下，对后天性黑眼圈效果较好。

保护视力的四种锻炼方法

保护视力的四种锻炼方法 一、转眼法 选一安静场所，或坐或站，全身放松，清除杂念，二目睁开，头颈不动，独转眼球。先将眼睛凝视正下方，缓慢转至左方，再转至凝视正上方，至右方，最后回到凝视正下方，这样，先顺时针转9圈。再让眼睛由凝视下方，转至右方，至上方，至左方，再回到下方，这样，再逆时针方向转6圈。总共做4次。每次转动，眼球都应尽可能地达到极限。这种转眼法可以锻炼眼肌，改善营养，使眼灵活自如，炯炯有神。 二、眼呼吸凝神法 选空气清新处，或坐或立，全身放松，二目平视前方，徐徐将气吸足，眼睛随之睁大，稍停片刻，然后将气徐徐呼出，眼睛也随之慢慢微闭，连续做9次。 三、熨眼法 此法最好坐着做，全身放松，闭上双眼，然后快速相互摩擦两掌，使之生热，趁热用双手捂住双眼，热散后两手猛然拿开，两眼也同时用劲一睁，如此3～5次，能促进眼睛血液循环，增进新陈代谢。

四、洗眼法 先将脸盆消毒后，倒入温水，调节好水温，把脸放入水里，在水中睁开眼睛，使眼球上下左右各移动9次，然后再顺时针、逆时针旋转9次。刚开始，水进入眼里，眼睛难受无比，但随着眼球的转动，眼睛会慢慢觉得非常舒服。在做这一动作时，若感到呼吸困难，不妨从脸盆中抬起脸来，在外深呼吸一下。此法，能洗去眼中的有害物质和灰尘，还对轻度白内障有效，并能改善散光、远视、近视的屈光不正程度。 合：老师们，同学们，大家中午好！伴随着优美的音乐，校园广播站又与您见面了。 甲：2**年6月6日是第十七个“全国爱眼日”。今年全国爱眼日活动的主题确定为“情系白内障患者共享和谐新视界。 乙：1996年，国家卫生部、国家 __、团中央、中国残联等12个部委联合发出通知，将爱眼日活动列为国家节日之一，并重新确定每年6月6日为“全国爱眼日”。

中国世界遗产名录

中国世界遗产名录 世界遗产是指被联合国教科文组织和世界遗产委员会确认的人类罕见的、目前无法替代的财富，是全人类公认的具有突出意义和普遍价值的文物古迹及自然景观。狭义的世界遗产包括“世界文化遗产”、“世界自然遗产”、“世界文化与自然遗产”和“文化景观”四类。广义概念，根据形态和性质，世界遗产分为文化遗产、自然遗产、文化和自然双重遗产、记忆遗产、人类口述和非物质遗产（简称非物质文化遗产）、文化景观遗产。 截止2010年8月中国已有40处世界遗产。其中世界文化遗产26处，

世界自然遗产8处，文化和自然混合遗产4处，文化景观2处。在数量上高居世界第三位，仅次于意大利（45项）和西班牙（42项）。 【文化遗产】（26处） 1.周口店北京猿人遗址（北京，1987.12） 2.长城（北京，1987.12） 3.敦煌莫高窟（甘肃，1987.12） 4.明清皇宫（北京故宫（北京），1987.12 ；沈阳故宫（辽宁），2004.7） 5.秦始皇陵及兵马俑坑（陕西，1987.12） 6.承德避暑山庄及周围寺庙（河北，1994.12） 7.曲阜孔府、孔庙、孔林（山东，1994.12） 8.武当山古建筑群（湖北，1994.12） 9.布达拉宫（大昭寺、罗布林卡）（西藏，1994.12） 10.丽江古城（云南，1997.12） 11.平遥古城（山西，1997.12） 12.苏州古典园林（江苏，1997.12） 13.颐和园（北京，1998.11） 14.天坛（北京，1998.11） 15.大足石刻（重庆，1999.12 文化遗产） 16.明清皇家陵寝（明显陵（湖北）、清东陵（河北）、清西陵（河北），2000.11；明孝陵（江苏）、十三陵（北京），2003. 盛京三陵（辽宁），2004.7）17皖南古村落（西递、宏村）（安徽，2000.11） 18.龙门石窟（河南，2000.11） 19.都江堰—青城山（四川，2000.11） 20.云冈石窟（山西，2001.12） 21.中国高句丽王城、王陵及贵族墓葬（吉林，2004.7.1） 22.澳门历史城区（澳门，2005） 23.安阳殷墟（河南，2006.7.13） 24.开平碉楼与古村落（广东，2007.6.28） 25.福建土楼（福建，2008.7.7） 26.河南登封天地之中历史建筑群(河南,2010.8.1) 【自然遗产】（8处） 1.九寨沟（四川，199 2.12） 2.黄龙（四川，1992.12） 3.武陵源（湖南，1992.12） 4.三江并流（云南，2003.7） 5.大熊猫栖息地（四川，200 6.7） 6.中国南方喀斯特（石林（云南）、荔波（贵州）、武隆（重庆），200 7.6.27 ） 7.三清山（江西，2008.7.8）

儿童保护视力10方法(精)

儿童保护视力 10方法 一光线须充足:光线要充足舒适,光线太弱而因字体看不清就会越看越近。 二反光要避免:书桌边应有灯光装置,其目的在减少反光以降低对眼睛的伤害。 三阅读时间勿太长:无论做功课或看电视,时间不可太长,以每三十分钟休息片刻为佳。 四坐姿要端正:不可弯腰驼背,越靠近或趴着做功课易造成睫状肌紧张过度,进而造成近视。 五看书距离应适中:书与眼睛之间的距离应以 30公分为准, 且桌椅的高度也应与体格相配合,不可勉强将就。 六看电视距离勿太近:看电视时应保持与电视画面对角线六 ~八倍距离,每 30分钟必须休息片刻 七睡眠不可太少,作息有规律:睡眠不足身体容易疲劳,易造成假性近视。 八多做户外运动:经常眺望远外放松眼肌,防止近视,向大自然多接触青山绿野,有益于眼睛的健康。 九营养摄取应无均衡:不可偏食,应特别注意维生素 B 类(胚芽米、麦片酵母之摄取。 十定期做视力:凡视力不正常者应至合格眼镜公司或眼科医师处做进一步的检查。 如何保护儿童视力 孩子得了近视眼,埋怨父母,是有一定道理的。

长期以来, 已有不少调查证实, 近视眼的发生有一定家族性, 父母亲均为近视,子女患近视的多, 父母亲均无近视,子女患近视的少,父母一方有近视, 子女患近视介于上述两者之间。所以儿童近视眼与父母关系十分密切。 预防近视眼,要注意以下几点: (1不要看字迹太小或模糊的书报。 (2教育儿童改正不合理的用眼习惯,不良习惯都会使眼睛过度疲劳,降低视力的敏锐度。 (3 加强体格锻炼,增强身体素质,可以减轻减慢近视眼的发生,尤其是室外体育运动。让孩子在空气新鲜、视野开阔的郊外进行远眺,极目欣赏祖国的山河大地,也是眼睛最好的保健方法之一。 (4 注意营养补充,尤其是维生素B、矿物质的补充,因为它们是眼睛发育和功能进展所必需的。 (5 注意眼睛的保健。预防近视眼提倡一个早字,即应在学龄儿童时开始。 预防措施还应从以下几方面着手 ①防止用眼过度,即指不要使眼睛的内外肌肉过度疲劳或长期处于紧张状态。 ②加强视力训练和坚持眼睛保健操。 ③防止电视性近视。 一光线须充足:光线要充足舒适,光线太弱而因字体看不清就会越看越近。 二反光要避免:书桌边应有灯光装置,其目的在减少反光以降低对眼睛的伤害。 三阅读时间勿太长:无论做功课或看电视,时间不可太长,以每三十分钟休息片刻为佳。

中国的世界遗产概述9

中国的世界遗产简介(1987年至2010年批准项目) 石遐识

中国的世界遗产目录一．泰山 二．长城 三．明清皇宫 四．敦煌莫高窟 五．秦始皇陵与兵马俑坑 六．周口店“北京人”遗址

七．黄山 八．九寨沟 九．黄龙 十．武陵源 十一．承德避暑山庄及周围庙宇 十二．孔庙、孔墓和孔府 十三．武当山古建筑群 十四．布达拉宫、大昭寺和罗布林卡十五．庐山 十六．峨眉山——乐山大佛 十七．丽江古城 十八．平遥古城 十九．苏州古典园林 二十．颐和园 二十一．天坛 二十二．武夷山 二十三．大足石刻 二十四．青城山与都江堰 二十五．皖南古村落——西递和宏村二十六．龙门石窟 二十七．明清皇家陵寝 二十八．云冈石窟

二十九．三江并流保护区 三十．高句丽遗址 三十一．澳门历史城区 三十二．四川大熊猫栖息地——卧龙、四姑娘山、夹金山脉 三十三．殷墟 三十四．广东开平碉楼和村落 三十五．南方喀斯特地貌 三十六．福建土楼 三十七．三清山风景名胜区 三十八．五台山 三十九．登封“天地之中”历史建筑群 四十．中国丹霞 前言 世界遗产，特指被联合国教科文组织世界遗产委员会确认的，具有特殊意义和普遍价值的自然景观与文物古迹，是人类罕见的且目前无法代替的财产。 世界遗产分为文化遗产、自然遗产和文化与自然双重遗产、文化景观四大类别。文化遗产是指具有历史、美学、考古、科学、文化、人类学或具有人类学价值的古迹、建筑群和遗址；自然遗

产是指突出的自然、生态和地理结构，濒危动植物品种的生态环境以及具有科学、保存或美学价值的地区；文化与自然双重遗产则具有文化遗产与自然遗产的双重性；文化景观这一概念是1992年12月联合国教科文组织在美国圣菲召开的第16届世界遗产大会上提出并纳入的，它包括由人类有意设计和建筑的景观、有机进化的景观、关联性文化景观等内容。 1972年11月26日，在法国巴黎召开的联合国教科文组织第17届大会通过了《保护世界文化与自然遗产公约》。1977年6月27日第1届世界遗产大会在法国巴黎召开，以后每年召开一次，会议期间批准世界遗产名录。中国于1985年加入《保护世界文化与自然遗产公约》。1987年12月，中国的泰山、长城等6个项目批准列入世界遗产名录，至2010年8月，中国已有40项遗产被列入《世界遗产名录》，中国世界遗产数位居世界第三，仅次于西班牙和意大利。 笔者将中国40项世界遗产简介后，在北京方寸斋邮市的帮助下将中国、中国香港、中国澳门发行的中国世界遗产及相关邮品图目录列举出来，供邮友参考。此资料在编辑整理中，有错漏之处请赐教。

保护眼睛的22个方法

每小时离开办公桌和电脑几分钟. 如果没有条件离开座位，向后靠，闭上眼，放松一会儿. 搭配好工作任务，把长时间地电脑工作分割开. 伸几个懒腰快速缓解疲劳. 保证光线良好 从头顶或者显示器背后照射来地光线对眼睛不好，最好开两侧地台灯.显示器已经很亮了，不要再让别地光线直射你地眼睛. 资料个人收集整理，勿做商业用途 如果你离有阳光照射地窗户很近，拉上窗帘防止阳光直射显示屏. 不要在黑暗地屋子里工作.显示器会象一个大灯泡一样让你地眼睛难受.如果无法避免，尽量调低显示器地亮度. 花点钱买一个质量好地工作灯，不仅可以调亮度，还可以防止刺眼. 调节湿度：干燥地空气干涩地眼睛 种点植物可以增加湿度，还有其它地好处. 买一些人造泪水产品（市面上号称防止眼干地产品多是人造泪水）可以缓解眼干. 使用符合人体工程学地硬件 调节显示器地刷新频率，减少闪烁. 投资一个平板显示器.平面显示器，特别是液晶显示器，比起球面显示器来有辐射少、图像质量高、刷新频率更好等特点. 资料个人收集整理，勿做商业用途 买一个笔记本电脑. 调节显示器 根据办公环境，调节好显示器地亮度、对比度、刷新频率等. 调整字体大小.如果你总要前倾身体才能看轻屏幕上地字，调大点儿吧. 调节显示器地位置 比较理想地位置是在你眼前到厘米，正好是你伸直手臂从肩膀到指尖地距离.眼睛和上缘基本水平，也就是稍微低头看屏幕地姿势.眼界所至，字体清晰，图片犀利. 资料个人收集整理，勿做商业用途 安装过滤镜防止刺眼 可以考虑购买防刺眼屏幕过滤镜来减少对眼睛地刺激. 调整你地工作环境 如果你经常要录入文档，可以考虑购买一个文件支撑架，让文档保持和目光垂直，减少眼睛压力. 程序员应该尽量使用有语法高亮功能和字体友好地编辑器. 图像编辑工作者和设计师们应该尽量使用高分辨率显示器. 注意光线 在微暗地灯光下阅读，不会伤害眼睛，但若光线未提供足够地明暗对比，将使眼睛容易疲劳.使用能提供明暗对比地柔和灯光(不刺眼地光线).不要使用直接将光线反射入眼睛地电灯. 资料个人收集整理，勿做商业用途 中断你地工作 如果连续使用电脑小时，应每小时休息一次.喝杯咖啡、上个厕所、或只是让眼睛离开电脑分钟. 资料个人收集整理，勿做商业用途 减弱荧屏地光线 电脑屏幕上地字体及数字就像小灯泡，直接将光线打入你眼睛. 因此，你需要调降萤幕地亮度，并调整反差(明暗对比)使字体清晰.

保护视力的4种锻炼方法及恢复视力方法

保护视力的4种锻炼方法 一、转眼法 选一安静场所，或坐或站，全身放松，清除杂念，二目睁开，头颈不动，独转眼球。先将眼睛凝视正下方，缓慢转至左方，再转至凝视正上方，至右方，最后回到凝视正下方，这样，先顺时针转9圈。再让眼睛由凝视下方，转至右方，至上方，至左方，再回到下方，这样，再逆时针方向转6圈。总共做4次。每次转动，眼球都应尽可能地达到极限。这种转眼法可以锻炼眼肌，改善营养，使眼灵活自如，炯炯有神。 二、眼呼吸凝神法 选空气清新处，或坐或立，全身放松，二目平视前方，徐徐将气吸足，眼睛随之睁大，稍停片刻，然后将气徐徐呼出，眼睛也随之慢慢微闭，连续做9次。 三、熨眼法 此法最好坐着做，全身放松，闭上双眼，然后快速相互摩擦两掌，使之生热，趁热用双手捂住双眼，热散后两手猛然拿开，两眼也同时用劲一睁，如此3～5次，能促进眼睛血液循环，增进新陈代谢。 四、洗眼法 先将脸盆消毒后，倒入温水，调节好水温，把脸放入水里，在水中睁开眼睛，使眼球上下左右各移动9次，然后再顺时针、逆时针旋转9次。刚开始，水进入眼里，眼睛难受无比，但随着眼球的转动，眼睛会慢慢觉得非常舒服。在做这一动作时，若感到呼吸困难，不妨从脸盆中抬起脸来，在外深呼吸一下。此法，能洗去眼中的有害物质和灰尘，还对轻度白内障有效，并能改善散光、远视、近视的屈光不正程度。

恢复视力方法 1、远方凝视： 找一处10米以外的草地或绿树：绿色由于波长较短，成像在视网膜之前，促使眼部调节放松、眼睫状肌松弛，减轻眼疲劳。不要眯眼，也不要总眨眼，排除杂念、集中精力、全神贯注的凝视25秒，辨认草叶或树叶的轮廓。接着把左手掌略高于眼睛前方30厘米处，逐一从头到尾看清掌纹，大约5秒。看完掌纹后再凝视远方的草地或树叶25秒，然后再看掌纹。10分钟时间反复20次，一天做三回，视力下降厉害的要增加训练次数。 2、晶体操 ● 转眼：双手托腮，让眼球按上、下、左、右的顺序转动10次，接着再逆时针、顺时针各转动10次。 ● 找一幅3米外的景物（如：墙上的字画等），同时举起自己的左手距眼睛略高处伸直（约30厘米），看清手掌手纹后，再看清远物，尽量快速的在二者间移动目光，往返20次。 3、推拿操 采取坐式或仰卧式均可，将两眼自然闭合，然后依次按摩眼睛周围的穴位。要求取穴准确、手法轻缓，以局部有酸胀感为度。 1．揉天应穴：用双手大拇指轻轻揉按天应穴（眉头下面、眼眶外上角处）。2．挤按睛明穴：用一只手的大拇指轻轻揉按睛明穴（鼻根部紧挨两眼内眦处）先向下按，然后又向上挤

小学生保护眼睛的方法

小学生保护眼睛的方法 1．做到科学用眼 （1）读写姿势要正确：人在读书或写字时，眼与书本保持一尺左右为最佳距离。为此，桌和椅的凹凸要配套得当，高椅低桌或低椅高桌都不利于眼睛的康健。写字时不要歪头，不要在行走、坐车或乘船途中读书、看报。 （2）读写时间要合适：看书、写字、绘图等用眼时间过长，简易使眼肌困乏，导致近视。故每读写一小时左右，应到室外远眺或体育活动10分钟，这是消除眼肌困乏、防止发生近视的有用方法。 （3）光线要充塞：充塞的光线是保持正常视力的严重方面，不可在过暗的光线下读书写字，如黄昏、暗室等。夜间读写时，灯光不可过暗，亦不可晃动或刺眼。光线应来自左前方，避免阴影遮挡视线。不可在强光（如日光或眩耀刺目的灯光）下看书写字，不可在花影下阅览，以减少眼内晶状体和睫状体的调节负担。 （4）看电视时间不可过长：电视为动态画面，观看时间过长，最易导致眼肌困乏，引起近视。故看电视时间合宜过长，大凡要控制在2小时以内，且每看30分钟，至少休息5分钟，以使眼睛得到休息。看电视的距离要合适，大凡应在2米以外，角度倾斜合宜超过45度。在看电视的房间内，要有一定亮度的照明，可开一盏小灯，但光线不可直接照在荧光屏或眼睛上，最佳放在后方或旁边。电视调试时，电视屏上跳动的画面极为伤眼，要闭上眼睛，免受刺激。 2．坚持做眼睛保健操 做眼睛保健操是预防近视行之有用的方法，应每日坚持不懈。未曾学者，可轻轻按摩上、下眼险，或闭目养神，以有利于眼肌困乏的恢复。 方法: (1）光线充塞线要充塞舒畅，（光线太弱，字体看不清楚，就会越看越近视）。(2)反光要避免书桌应有边灯装置，其目的在减少反光，以降低对眼睛的损害。(3)阅读时间勿太长无论做功课或看电视，时间不可太长，每一小时左右休息片刻为佳。(4)坐姿要端正不可弯腰驼背，靠得很近或趴着做功课，这样易造成睫状肌吃紧过度而引起困乏，进而造成成近视。(5)看书距离应适中书

恢复视力的一些很有效的方法(绝对有用)

我们重新复习要注意用眼的坏习惯，并督己改之—— 1、眼睛与书本的距离，姿势与光线，不良的习惯都会对眼造成伤害。 2、凝视远方时忘记移动视点会有害处。 3、不养成滴眼药水的坏习惯。 4、目不转睛的习惯是视力恶化的最大原因。 5、红色对视力有害。 6、通宵玩麻将会使眼恶化。 7、患病时阅读最易伤眼 8、愤怒时也会使眼恶化哦。 9、斥责惊吓儿童会在无形中伤害到他们的眼睛和身心健康。 1 0、"胃肠疾病、便秘、牙痛也会使眼睛视力恶化。 1 1、"廉价品质差的太阳眼镜会使眼睛疲劳，散光…… 12、"镜面反射会腐蚀眼睛。 眼睛的反射带位于第二根脚趾和第三根脚趾的根部。这个部位用手指不易按摩，因此可用刺激棒仔细地按摩。 消除手腕、足踝的紧张感。患有近视的人，手腕和足踝大都呈紧张、硬化的状态，因此，必须全身放松、摇摆或弯曲手腕，或者做回转运动，就能消除这些症状。 按摩手指：

按摩食指和中指，并充分加压和揉搓，对于治疗假性近视有很大功效，如果和手腕、足踝的运动一起做，更能加速恢复正常的视力。 1．具有改善视力作用的食物 保护视力，防治眼部疾病，需要从多个方面着手，其中注意营养，对改善视力也有一定的帮助。在日常饮食中，具有改善视力作用的食物有： (1)富含维生素A的食物，维生素A与正常视觉有密切关系。如果维生素A 不足，则视紫红质的再生慢而且不完全，暗适应时间延长，严重时造成夜盲症。如果膳食中维生素A继续缺乏或不足将会出现干眼病，此病进一步发展则可成为角膜软化及角膜溃疡，还可出现角膜皱折和毕脱氏斑。维生素A最好的食物来源是各种动物肝脏、鱼肝油、鱼卵、禽蛋等；胡萝卜、菠菜、苋菜、苜蓿、红心甜薯、南瓜、青辣椒等蔬菜中所含的维生素A原能在体内转化为维生素A。 (2)富含维生素C的食品，维生素C可减弱光线与氧气对眼睛晶状体的损害，从而延缓白内障的发生。含维生素c的食物有柿子椒、西红柿、柠檬、猕猴桃、山楂等新鲜蔬菜和水果。 (3)钙，钙与眼球构成有关，缺钙会导致近视眼。青少年正处在生长高峰期，体内钙的需要量相对增加，若不注意钙的补充，不仅会影响骨骼发育，而且会使正在发育的眼球壁——巩膜的弹性降低，晶状体内压上升，致使眼球的前后径拉长而导致近视。含钙多的食物，主要有奶类及其制品、贝壳类(虾)、骨粉、豆及豆制品、蛋黄和深绿色蔬菜等。 (4)铬，缺铬易发生近视，铬能激活胰岛素，使胰岛发挥最大生物效应，如人体铬含量不足，就会使胰岛素调节血糖功能发生障碍，血浆渗透压增高，致使眼球晶状体、房水的渗透压增 高和屈光度增大，从而诱发近视。铬多存在于糙米、麦麸之中，动物的肝脏、葡萄汁、果仁含量也较为丰富。 (5)锌，锌缺乏可导致视力障碍，锌在体内主要分布在骨骼和血液中。眼角膜表皮、虹膜、视网膜及晶状体内亦含有锌，锌在眼内参与维生素A的代谓}与

我国世界文化遗产的资料

我国世界文化遗产的资料 1、长城列入《世界遗产名录》时间：1987年12月 中国的长城始建于二千多年前的春秋战国时期，秦朝统一中国后联成万里长城。汉、明两代又曾大规模修筑。长城是中华民族古老文化的丰碑和智慧结晶，象征着中华民族的血脉相承和民族精神。 长城位于中国北部，东起山海关，西到嘉峪关，全长约6700公里，通称万里长城。从公元前7世纪楚国筑“方城”开始，至明代（1368～1644年）共有20多个诸侯国和封建王朝持续了两千多年修筑过长城，今天所见到的主要是明长城。 长城大都建在山岭最高处，沿着山脊把蜿蜒无尽的山势勾画出清晰的轮廓。在万里城墙上，分布着百座雄关、隘口，成千上万座敌台、烽火台，使高低起伏的地形更显得雄奇险峻，充满巨大的艺术魅力。 2、西藏布达拉宫列入《世界遗产名录》时间:1994年12月布达拉宫在中国西藏拉萨西北的玛布日山上，海拔3700多米，始建于公元7世纪，是历世达赖喇嘛的冬宫，也是过去西藏地方统治者政教合一的统治中心。依山而建的布达拉宫是著名的宫堡式建筑群，现占地41万平方米，建筑面积13万平方米，宫体主楼13层，高115米,全部为石木结构，5座宫顶覆盖镏金铜瓦，金光灿烂，气势雄伟，体现了藏族古建筑迷人的特色。 宫殿的设计和建造根据高原地区阳光照射的规律，墙基宽而坚固，墙基下面有四通八达的地道和通风口。屋内有柱、斗拱、雀替、梁、椽木等，组成撑架。铺地和盖屋顶用的是叫“阿尔嘎”的硬土，各大厅和寝室的顶部都有天窗，便于采光，调节空气。宫内的柱梁上有各种雕刻，墙壁上的彩色壁画面积有2500多平方米。宫内还收藏了西藏特有的、在棉布绸缎上彩绘的唐卡以及历代文物。 3、周口店北京猿人遗址列入《世界遗产名录》时间:1987年12月 周口店北京人遗址位于北京市房山区周口店龙骨山，距北京城约50公里。1929年中国古生物学家裴文中在此发现原始人类牙齿、骨骼和一块完整的头盖骨，并找到了“北京人”生活、狩猎及使用火的遗迹，以后陆续在龙骨山上发现一些猿人