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材料分析方法课后答案周玉

材料分析方法课后答案周玉

【篇一:材料分析方法考试重点】

纹衍射的图样,条纹间距随小孔尺寸的变大,衍射的图样的中心有

最大的亮斑,称为埃利斑。

2、差热分析是在程序的控制条件下,测量在升温、降温或恒温过

程中样品和参比物之间的温差。 3、差示扫描量热法(dsc)是在

程序控制条件下,直接测量样品在升温、降温或恒温过程中所吸收

的或放出的热量。

4、倒易点阵是由晶体点阵按照一定的对应关系建立的空间点阵,

此对应关系可称为倒易变换。

5、干涉指数在(hkl)晶面组(其晶面间距记为dhkl)同一空间

方位,设若有晶面间距为dhkl/n(n为任意整数)的晶面组(nh,nk,nl)即(h,k,l)记为干涉指数。

6、干涉面简化布拉格方程所引入的反射面(不需加工且要参与计

算的面)。

7、景深当像平面固定时(像距不变)能在像清晰地范围内,允许

物体平面沿透镜轴移动的最大距离。

8、焦长固定样品的条件下,像平面沿透镜主轴移动时能保持物象

清晰的距离范围。 9、晶带晶体中,与某一晶向【uvw】平行的所

有(hkl)晶面属于同一晶带,称为晶带

11、数值孔径子午光线能进入或离开纤芯(光学系统或挂光学器件)的最大圆锥的半顶角之余弦,乘以圆锥顶所在介质的折射率。

12、透镜分辨率用物理学方法(如光学仪器)能分清两个密切相邻物

体的程度 13 衍射衬度由样品各处衍射束强度的差异形成的衬度成

为衍射衬度。

15质厚衬度由于样品不同区间存在原子序数或厚度的差异而形成

的非晶体样品投射电子显微图像衬度,即质量衬度,简称质厚衬度。制造水平。(√)

二、填空题

6)按入射电子能量的大小,电子衍射可分为(高能电子衍射)、

(低能电子衍射)及(反射式高能电子衍射)。 18)阿贝成像原理

可以简单地描述为两次(干涉):平行光束受到有周期性特征物体

的衍射作用形成(衍射波),各级衍射波通过(物镜)重新在像平

面上形成反映物的特征的像。

12)按照出射信号的不同,成分分析手段可以分为两类:x光谱和

电子能谱),出射信号分别是(x射线,电子)。 11)表面形貌分

析技术经历了(光学显微分析)、(透射电镜分析)、(扫描探针

显微镜分析)的发展过程。4材料性能主要决定于其(化学成分)、(物相组成)、(微观组织)。 7)常用的热分析法有(差热分析法)、(差热扫描量热法)、(热重法)及动态热机械法和热机械

分析法。 13)电子能谱包括(光电子能谱)(俄歇电子能谱)(电子能量损失能谱),(离子中和谱)。 17)光谱分析方法包括各种(吸收光谱分析)和(发射光谱分析)以及(散射光谱分析) 9)

光谱分析仪器主要由(光源)、(光谱仪)及(检测器)。 22)材

料分析的三个基本方面:(成分分析)、(结构分析)和(形貌分析)。 23)光学透镜的像差包括(球差)、(色差)及(像散)。

1 光学光学系统包括(目镜)、(物镜)、光源及(聚光器)。14)获取衍射花样的三种基本方法是(劳埃法)(周转晶体法)(粉末法)

20)利用电磁线圈激磁的电磁透镜,通过调节(磁电流)可以很方

便地调节(磁场强度),从而调节(透镜焦距和放大倍数)。

5)德拜相机底片安装方法包括(正装法)、(反装法)、(偏装法)。 16)入射x射线可使样品产生(相干散射)和(非相干散射)。(相干散射)是x射线衍射分析方法的技术基础。 21)热电

偶实际上是一种(测温元件),它将热能转换为(热电流),利用

所产生的(热电势)测量温度。 2)通常有三种抛光的方法,即(机

械抛光)、(电解抛光)、(化学抛光)。 3通常透射电镜由(成

像系统)、电源系统、(记录系统)、循环冷却系统和(真空系统)组成

15)依据差热分析曲线特征,可定性分析物质的(物理或化学)变

化过程,还可依据峰面积半定量的测定反应热)。 19)衍射波的两

个基本特征—衍射线在空间分布的(方位)和(强度),与晶体内

原子(分布规律)密切相关。 8)质谱分析可用于测定化合物的(相

对分子质量),推测(分子式)和(结构式)。 10)主要的物相分

析手段有三种:( x射线衍射)、(电子衍射)、(种子衍射)

三、简答题

1)说明倒易点阵与正空间点阵的关系。

1.正点阵晶面族(hkl)可以用倒易矢量(uvw)来唯一地表征

2.倒

易点阵完全保留了正空间点阵的周期性信息

3.正空间点阵中的一个晶带的特点可以用一个过倒易点阵原点且垂

直于该晶带轴的倒易矢量来唯一表征

2)试述获取衍射花样的三种基本方法及其用途?

获取衍射花样的三种基本方法是劳埃法、旋转晶体法和粉末法。劳

埃法主要用于分析晶体的对称性和进行晶体定向;

旋转晶体法主要用于研究晶体结构;粉末法主要用于物相分析

3)光学显微镜的成像原理是什么,从成像原理看,如何才能获得清

晰的物像?

(一)折射和衍射光线通过不同密度介质的透明物体时,则发生折

射现象,这是由于光在不同介质的传播速度不同造成的。当与透明

物面不垂直的光线由空气射入透明物体(如玻璃)时,光线在其介面改

变了方向,并和法线构成折射角。

(二)凸透镜成像原理,显微镜有两组镜头,物镜成倒立放大的实像,目镜则将物镜成的像

再次成像,只不过成的是放大的虚像,因此经过两次成像后,显微

镜下看到的物象是倒立放大的虚像。

由于透镜常产生像差:球差,像场弯曲,像散,色差(1)选择更

短的波长

(2)为提高数值孔径, 用折射率很高的材料(3)采用功能性的目

镜如惠更斯目镜

4)实验中选择阳极靶和滤波片原则是什么?已知一个以cu为主要

成分的样品,试选择合适的阳极靶和滤波片?sn ni

选靶原则:靶材产生的特征x射线尽可能少地激发样品的荧光辐射,以降低衍射花样背底,使图像清晰。

滤波片原则:选择材料,使其k吸收限(波长k滤)处于入射的ka

射线与kb射线波长之间,则kb射线因激发滤片的荧光辐射而被滤

片吸收。滤片原子序数与z靶满足下述条件时,波长kb小于波长k

滤小于波长ka靶;当z靶小于40时,z滤=z靶-1:当z靶大于40时,z滤=z靶-2 5)简述电子衍射和x射线衍射共同点和不同点。

相同点:1、电子衍射的原理和x射线衍射相似,是以满足(或基本满足)布拉格方程作为产生衍射的必要条件。

2、两种衍射技术得到的衍射花样在几何特征上也大致相似:多晶体

的电子衍射花样是一系列不同半径的同心圆环,单晶衍射花样由排

列得十分整齐的许多斑点所组成,而非晶体物质的衍射花样只有一

个漫散的中心斑点

4、原子对电子的散射能力远高于它对x射线的散射能力(约高出四个数量级),故电子衍射束的强度较大,摄取衍射花样时曝光时间

仅需数秒钟。 5、电子衍射适合对表层或薄膜样品的分析。

6)推导布拉格方程,并说明布拉格方程式有何用途?

8)透射电镜中有哪些主要光阑? 分别安装在什么位置? 其作用如何?主要有三种光阑:①聚光镜光阑。在双聚光镜系统中, 该光阑装在

第二聚光镜下方。作用: 限制照明孔径角。

②物镜光阑。安装在物镜后焦面。作用:提高像衬度;减小孔径角,

从而减小像

差;进行暗场成像。

③选区光阑: 放在物镜的像平面位置。作用:对样品进行微区衍射分析。

10)磁透镜的像差是怎样产生的? 如何来消除和减少像差?

球差是磁透镜中心区和边沿区对电子的折射能力不同引起的. 增大透

镜的激磁电流可减小球差。

像散是由于电磁透镜的周向磁场不非旋转对称引起的.可以通过引入

一强度和方位都可以调节的矫正磁场来进行补偿。

色差是电子波的波长或能量发生一定幅度的改变而造成的. 稳定加速

电压和透镜电流可减小色差。

14)什么是双光束衍射?电子衍衬分析时,为什么要求在近似双光

束条件下进行?

双光束衍射:倾转样品,使晶体中只有一个晶面满足bragg条件,从而产生衍射,其它晶面均远离bragg位置,衍射花样中几乎只存在

大的透射斑点和一个强衍射斑点。

原因:在近似双光束条件下,产生强衍射,有利于对样品的分析15)简要说明多晶(纳米晶体)、单晶及非晶衍射花样的特征多晶体的

电子衍射花样是一系列不同半径的同心圆环。多晶取向完全混乱,

可看作是一个单晶体围绕一点在三维空间内旋转,故其倒易点是以

倒易原点为圆心,(hkl)晶面间距的倒数为半径的倒易球,与反射

球相截为一个圆。所有能产生衍射的半点都扩展为一个圆环,故为

一系列同心圆环。单晶体的电子衍射花样由排列的十分整齐的许多

斑点组成。倒易原点附近的球面可近似看作是一个平面,故与反射

球相截的是而为倒易平面,在这平面上的倒易点阵都坐落在反射球

面上,相应的晶面都满足bragg方程,因此,单电子的衍射谱是而

为倒易点阵的投影,也就是某一特征平行四边形平移的花样。非晶

态物质的电子衍射花样只有一个漫散的中心斑点。非晶没有整齐的

晶格结构

【篇二:内蒙古科技大学材料分析课后答案】

t>第十四章

1、波谱仪和能谱仪各有什么优缺点?

优点:1)能谱仪探测x射线的效率高。

2)在同一时间对分析点内所有元素x射线光子的能量进行测定和计数,在几分钟内可得到定性分析结果,而波谱仪只能逐个测量每种

元素特征波长。

3)结构简单,稳定性和重现性都很好

4)不必聚焦,对样品表面无特殊要求,适于粗糙表面分析。

缺点:1)分辨率低。

2)能谱仪只能分析原子序数大于11的元素;而波谱仪可测定原子

序数从4到92间的所有元素。

3)能谱仪的si(li)探头必须保持在低温态,因此必须时时用液氮冷却。

分析钢中碳化物成分可用能谱仪;分析基体中碳含量可用波谱仪。

2、举例说明电子探针的三种工作方式(点、线、面)在显微成分分

析中的应用。

答:(1)、定点分析:将电子束固定在要分析的微区上用波谱仪分析时,改变分光晶体和探测器的位置,即可得到分析点的x射线谱线;用能谱仪分析时,几分钟内即可直接从荧光屏(或计算机)上得到

微区内全部元素的谱线。

(2)、线分析:将谱仪(波、能)固定在所要测量的某一元素特征x

射线信号(波长或能量)的位置把电子束沿着指定的方向作直线轨

迹扫描,便可得到这一元素沿直线的浓度分布情况。改变位置可得

到另一元素的浓度分布情况。

(3)、面分析:电子束在样品表面作光栅扫描,将谱仪(波、能)固

定在所要测量的某一元素特征x射线信号(波长或能量)的位置,

此时,在荧光屏上得到该元素的面分布图像。改变位置可得到另一

元素的浓度分布情况。也是用x射线调制图像的方法。

3、要在观察断口形貌的同时,分析断口上粒状夹杂物的化学成分,

选用什么仪器?用怎样的操作方式进行具体分析?

答:(1)若观察断口形貌,用扫描电子显微镜来观察:而要分析夹

杂物的化学成分,得选用能谱仪来分析其化学成分。

(2)a、用扫描电镜的断口分析观察其断口形貌:

a、沿晶断口分析:靠近二次电子检测器的断裂面亮度大,背面则暗,故短裤呈冰糖块状或呈石块状。沿晶断口属于脆性断裂,断口上午

塑性变形迹象。

b、韧窝断口分析:韧窝的边缘类似尖棱,故亮度较大,韧窝底部比较平坦,图像亮度较低。韧窝断口是一种韧性断裂断口,无论是从

试样的宏观变形行为上,还是从断口的微观区域上都能看出明显的

塑性变形。韧窝断口是穿晶韧性断口。

c、解理断口分析:由于相邻晶粒的位相不一样,因此解理断裂纹从

一个晶粒扩展到相邻晶粒内部时,在晶界处开始形成河流花样即解

理台阶。解理断裂是脆性断裂,是沿着某特定的晶体学晶面产生的

穿晶断裂。

d、纤维增强复合材料断口分析:断口上有很多纤维拔出。由于纤维断裂的位置不都是在基体主裂纹平面上,一些纤维与基体脱粘后断

裂位置在基体中,所以断口山更大量露出的拔出纤维,同时还可看

到纤维拔出后留下的孔洞。

b、用能谱仪定性分析方法进行其化学成分的分析。定点分析: 对样

品选定区进行定性分析.线分析: 测定某特定元素的直线分布. 面分析: 测定某特定元素的面分布

a、定点分析方法:电子束照射分析区,波谱仪分析时,改变分光晶体

和探测器位置.或用能谱仪,获取、e—i谱线,根据谱线中各峰对应的

特征波长值或特征能量值,确定照射区的元素??? i

组成;

b、线分析方法:将谱仪固定在要测元素的特征x射线波长值或特

征能量值,使电子束沿着图像指定直线轨迹扫描.常用于测晶界、相界

元素分布.常将元素分布谱与该微区组织形貌结合起来分析;

c、面分析方法:将谱仪固定在要测元素的特征x射线波长值或特征能量值, 使电子束在在样品微区作光栅扫描,此时在荧光屏上便得到该

元素的微区分布,含量高则亮。

4、扫描电子显微镜是由电子光学系统,信号收集处理、图像显示和

记录系统,真空系统三个基本部分组成。

(1)、电子光学系统(镜筒)

1)电子枪:提供稳定的电子束,阴阳极加速电压

2)电磁透镜:第一、二透镜为强磁透镜,第三为弱磁透镜,聚集能

力小,目的是增大镜筒空间

3)扫描线圈:使电子束在试样表面作规则扫描,同时控制电子束在样品上扫描与显像管上电子束扫描同步进行。扫描方式有光栅扫描(面扫)和角光栅(线)扫描

4)样品室及信号探测: 放置样品,安装信号探测器;各种信号的收集和相应的探测器的位置有很大关系。样品台本身是复杂而精密的组件,能进行平移、倾斜和转动等运动。

(2)信号收集和图像显示系统

电子束照射试样微区,产生信号量----荧光屏对应区光强度。因试样各点状态不同(形貌、成分差异),在荧光屏上反映图像亮度不同,从而形成光强度差(图像)。

(3)真空系统

防止样品污染,灯丝氧化;气体电离,使

由表可看出二次电子和俄歇电子的分辨率高,而特征x射线调制成显微图像的分辨率最低。

6、二次电子成像原理及应用

(1)成像原理为:二次电子产额对微区表面的几何形状十分敏感。随入射束与试样表面法线夹角增大,二次电子产额增大。因为电子束穿入样品激发二次电子的有效深度增加了,使表面

5-10 nm作用体积内逸出表面的二次电子数量增多。

(2)应用:a、断口分析 1)沿晶断口; 2)韧窝断口; 3)解理断口;

4)纤维增强复合材料断口。

b、样品表面形貌特征 1)烧结样品的自然表面分析 2)金相表面

c、材料形变和断裂过程的动态分析 1) 双相钢 2) 复合材料

7、背散射电子衬度原理及应用

(1)z?,ib?.不同成分---?b不同---电子强度差----衬度----图像。背散射电子像中不同的区域衬度差别,实际上反映了样品相应不同区域平均原子序数的差别,据此可以定性分析样品的化学成分分布。对于光滑样品,原子序数衬度反映了表面组织形貌,同时也定性反映了样品成分分布;而对于形貌、成分差样品,则采用双检测器,消除形貌衬度、原子序数衬度的相互干扰。

第十三章

1、电子束入射固体样品表面会激发哪些信号?他们有哪些特点和用途?

答:1)背散射电子:能量高;来自样品表面几百nm深度范围;其产

额随原子序数增大而增多。用作形貌分析、成分分析以及结构分析。

2)二次电子:能量较低;来自表层5—10nm深度范围;对样品表面

化状态十分敏感。不能进行成分分析,主要用于分析样品表面形貌。

3)吸收电子:其衬度恰好和se或be信号调制图像衬度相反;与背散

射电子的衬度互补。吸收电子能产生原子序数衬度,即可用来进行

定性的微区成分分析。

4)透射电子:透射电子信号由微区的厚度、成分和晶体结构决定。

可进行微区成分分析。

5)特征x射线: 用特征值进行成分分析,来自样品较深的区域

6)俄歇电子:各元素的俄歇电子能量值很低;来自样品表面1—2nm

范围。它适合做表面分析。

2、当电子束入射重元素和轻元素时,其作用体积有何不同?各自产生的信号的分辨率有何特点?

当电子束进入轻元素样品表面后悔造成滴状作用体积。入射电子束

进入浅层表面时,尚未向横向扩展开来,因此二次电子和俄歇电子

的分辨率就相当于束斑的直径。入射电子束进入样品较深部位时,

向横向扩展的范围变大,则背散射电子的分辨率较低,而特征x射

线的分辨率最低。当电子束射入重元素样品中时,作用体积呈半球状。电子书进入表面后立即向横向扩展,因此在分析重元素时,即

使电子束的束斑很细小,也能达到较高的分辨率,此时二次电子的

分辨率和背散射电子的分辨率之间的差距明显变小。

第十一章

1、薄膜样品的制备方法(工艺过程)

1)、从实物或大块试样上切割厚度为0。3~0。5mm厚的薄片。电火花县切割法是目前用得最广泛的方法,它是用一根往返运动的金

属丝做切割工具,只能用于导电样品。

设薄膜有a、b两晶粒。b内的某(hkl)晶面严格满足bragg条件,

或b晶粒内满足“双光束条件”,则通过(hkl)衍射使入射强度i0分解

为ihkl和io-ihkl两部分。a晶粒内所有晶面与bragg角相差较大,

不能产生衍射。

在物镜背焦面上的物镜光阑,将衍射束挡掉,只让透射束通过光阑

孔进行成像(明场),此时,像平面上a和b晶粒的光强度或亮度

不同,分别为

ia ? i0 ib ? i0 - ihkl

b晶粒相对a晶粒的像衬度为(?i

i)b?ia?ibia?ihkli0

明场成像:只让中心透射束穿过物镜光栏形成的衍衬像称为明场镜。暗场成像:只让某一衍射束通过物镜光栏形成的衍衬像称为暗场像。中心暗场像:入射电子束相对衍射晶面倾斜角,此时衍射斑将移到

透镜的中心位置,该衍射束通过物镜光栏形成的衍衬像称为中心暗

场成像。

3、什么是消光距离? 影响晶体消光距离的主要物性参数和外界条件

是什么?

答:(1)消光距离:由于透射波和衍射波强烈的动力学相互作用结果,使i0和ig在晶体深度方向上发生周期性的振荡,此振荡的深度

周期叫消光距离。

(2)影响因素:晶胞体积,结构因子,bragg角,电子波长。

4、双光束近似:假定电子束透过薄晶体试样成像时,除了透射束外

只存在一束较强的衍射束,而其他衍射束却大大偏离布拉格条件,

它们的强度均可视为零。

柱体近似是把成像单元缩小到和一个晶胞相当的尺度。试样下表面

某点所产生的衍射束强度近似为以该点为中心的一个小柱体衍射束

的强度,柱体与柱体间互不干扰。

等厚条纹:等厚条纹:当s ≡ c时

显然,当t = n/s(n为整数)时,ig = 0

当 t = (n + 1/2)/s 时,

用ig随t周期性振荡这一运动学结果,定性解释以下两种衍衬现象。晶体样品契形边缘处出现的厚度消光条纹,也叫等厚消光条纹。

等倾条纹:当t ≡ c时,

?g?r?0 5、什么是缺陷不可见判据? 如何用不可见判据来确定位错

的布氏矢量? ?

6、如果将作为位错消光的有效判据,那么,在进行位错burgers

矢量测定时,只,请分析为什么?要找到产生该位错消光的两个操

作反射g1和g2,即可确定

7、位错线像总是出现在它的实际位置的一侧或另一侧,说明其衬度

本质上三关和由位错附近的点阵畸变所发生的,叫做“应变场衬度”。而且,由于附加的偏差s`,随离开位错中心的距离而逐渐变化,使

位错线的像总是有一定的宽度(一般为3~10mm左右)

第十章

1、分析电子衍射与x 射线衍射有何异同?

(1)电子衍射的原理和x射线衍射相似,是以满足(或基本满足)布拉格方程作为产生衍射的必要条件。而且他们所得到的衍射花样

在几何特征上也大致相似。

(2)电子衍射和x 射线衍射相比较时具有下列不同之处:

b、物质对电子散射主要是核散射,因此散射强,约为x射线一万倍,曝光时间短。

c、电子衍射能在同一试样上将形貌观察与结构分析结合起来。

d、电子衍射操作时采用薄晶样品,增加了倒易阵点和爱瓦尔德球相交截的机会,结果是略为偏离布拉格条件的电子束也内发生衍射。

电子衍射与x射线衍射相比具有下列特点:

(1)电子波的波长比x射线短得多,因此,在同样满足布拉格条件时,它的衍射角度很小,10-2 rad,而x射线最大衍射角可达?/2。(2)电子衍射产生斑点大致分布在一个二维倒易截面内,晶体产生

的衍射花样能比较直观地反映晶体内各晶面的位向。因为电子波长短,用ewald图解时,反射球半径很大,在衍射角很小时的范围内,反射球的球面可近似为平面。

(3)电子衍射用薄晶体样品,其倒易点沿样品厚度方向扩展为倒易杆,增加了倒易点和ewald球相交截面机会,结果使略偏离布拉格

条件的电子束也能发生衍射。

(4)电子衍射束的强度较大,拍摄衍射花样时间短。因为原子对电

子的散射能力远大于对x射线的散射能力。

2、倒易点阵与正点阵之间关系如何?倒易点阵与晶体的电子衍射斑

点之间有何对应关系?答:(1)倒易点阵与正点阵的关系:倒易点阵与正点阵互为倒易。

1)、两个点阵的基矢之间:

3)、两个电子元宝体积之间的关系是

4)、正点阵晶面族(hkl)与倒易点阵格矢ghkl;相互垂直(2)

倒易点阵与晶体的电子衍射斑点之间的关系:电子衍射斑点就是与

晶体相对应的倒易点阵中某一截面上阵点排列的像。在0附近的低

指数倒易阵点附近范围,反射球面十分接近一个平面,且衍射角度

非常小 1,这样反射球与倒易阵点相截是一个二维倒易平面。这些低

指数倒易阵点落在反射球面上,产生相应的衍射束。因此,电子衍

射图是二维倒易截面在平面上的投影。 3、何谓零层倒易截面和晶带定理?说明同一晶带中各晶面及其倒易矢量与晶带轴之间的关系。

答:晶体中,与某一晶向[uvw]平行的所有晶面(hkl)属于同一晶带,称为[uvw]晶带,该晶向[uvw]称为此晶带的晶带轴,它们之间

存在这样的关系:hiu?kiv?liw?0 取某点o*为倒易原点,则该晶带

所有晶面对应的倒易矢(倒易点)将处于同一倒易平面中,这个倒

易平面与z垂直。由正、倒空间的对应关系,与z垂直的倒易面为(uvw)*,即 [uvw]⊥(uvw)*,因此,由同晶带的晶面构成的倒易

面就可以用(uvw)*表示,且因为过原点o*,则称为0层倒易截面(uvw)*。 4、透射电镜的主要特点是可以进行组织形貌与晶体结

构同位分析。使中间镜物平面与物镜向平面重合(成像操作),在

观察屏上得到的是反映样品组织形态的形貌图像;而使中间镜的物

平面与物镜背焦面重合(衍射操作),在观察屏上得到的则是反映

样品晶体结构的衍射斑点。

5、说明多晶、单晶及非晶衍射花样的特征及形成原理。

(1)单晶花样是一个零层二维倒易截面,其倒易点规则排列,具有

明显对称性,且处于二维

网络的格点上。因此表达花样对称性的基本单元为平行四边形。单

晶电子衍射花样就是(uvw)0零层倒易截面的放大像。

(2)多晶面的衍射花样为:各衍射圆锥与垂直入射束方向的荧光屏

或照相底片的相交线,为一系列同心圆环。每一族衍射晶面对应的

倒易点分布集合而成一半径为1/d的倒易球面,与ewald球的相惯

线为园环,因此,样品各晶粒{hkl}晶面族晶面的衍射线轨迹形成以

入射电子束为轴、2?为半锥角的衍射圆锥,不同晶面族衍射圆锥2?

不同,但各衍射圆锥共顶、共轴。(3)非晶的衍射花样为一个圆斑。

6、薄片晶体的倒易阵点拉长为倒易“杆”,棒状晶体

【篇三:材料分析测试技术部分课后答案】

=txt>太原理工大学材料物理0901 除夕月

1-2 计算当管电压为50kv时,电子在与靶碰撞时的速度与动能以及

所发射的连续谱的短波限和光子的最大动能.

e=ev=1.602*10-19*50*103=8.01*10-15 j

v=(2ev/m)1/2=(2*8.01*10-15/9.1*10-31)1/2=1.32*108m/s

1-3分析下列荧光辐射产生的可能性,为什么?

答:根据经典原子模型,原子内的电子分布在一系列量子化的壳层上,在稳定状态下,每个壳层有一定数量的电子,他们有一定的能量。最内层能量最低,向外能量依次增加。

根据能量关系,m、k层之间的能量差大于l、k成之间的能量差,k、l层之间的能量差大于m、l层能量差。由于释放的特征谱线的能量

等于壳层间的能量差,所以k?的能量大于ka的能量,ka能量大于

la的能量。

因此在不考虑能量损失的情况下:

cuka能激发cuka荧光辐射;(能量相同)

cuk?能激发cuka荧光辐射;(k?ka)

cuka能激发cula荧光辐射;(kala)

解:查表得

以铅为吸收体即z=82

mo 0.714 0.364 200698 122.8

rh 0.615 0.233 128469 84.13

ag 0.567 0.182 100349 66.14

解:设滤波片的厚度为t

m=k333

1-8试计算cu的k系激发电压。

v=144.87*10-17/1.602*10-19=8984 v

2-2.将下面几个干涉面(属立方晶系)按面间距的大小排列。(123)、(100)、(200)、(311)、(121)、(210)、(110)、(221)、(030)、(130)答:由d?a

h?k22?l2计算得:

即(100)(110)(200)(210) (121)(221)=(030) (130) (311)(123)

2-4.证实(110)、(121)、(312)属于[111]晶带。

解:由晶带定律:hu?kv?lw?0

1?1?(?1)?1?0?1?0;

(?2)?1?1?1?0;有:1?1?

(?3)?1?1?1?2?1?0;

即(110)、(121)、(312)属于[111]晶带。

2.5 晶面(110)、(311)、(132)是否属于同一晶带晶带轴是什么再指出属于这个。。。其他几个晶面。。(看上面的)

2-7.当x射线在原子上发生散射时,相邻原子散射线在某个方向上

的波程差若不为波长的整数倍,则此方向上必然不存在反射,为什么?

答:因为x射线在原子上发射的强度非常弱,需通过波程差为波长

的整数倍而产生干涉加强后才可能有反射线存在,而干涉加强的条

件之一必须存在波程差,且波程差需等于其波长的整数倍,不为波

长的整数倍方向上必然不存在反射。

2-9准备摄照下面3种晶体粉末相,试预测出最初3根线条(2为最

小的3根)的2和hkl,并按角度增大的顺序列出

解:的波长为0.15418nm。

(1)由简单立方,所以利用公式

当2取最小值时取最小值,即可知:取得最小值。

即:(hkl)分别为:(0 0 1),(0 1 1),(1 1 1)。

将(hkl)分别代入公式

分别为:29.780 ,42.619 ,52.857 。中可得2

(2)由简单正方,所以利用公式可知:

当2取最小值时取最小值,即取得最小值。

即:(hkl)分别为:(0 0 1),(0 1 0),(1 0 1)。

将(hkl)分别代入公式

分别为:29.780 ,45.343 ,55.194 。中可得2

(3)由简单正方,所以利用公式可知:

当2取最小值时取最小值,即取得最小值。

即:(hkl)分别为:(1 0 0),(0 0 1),(1 1 0)。

将(hkl)分别代入公式

分别为:29.780 ,45.343 ,42.619 。

按角度增大的顺序排列为:

29.780 , 42.619 , 45.343 。

(1 0 0),(1 1 0),(0 0 1)。

试样形状:衍射仪法为平板状,德拜法为细圆柱状。

试样吸收:衍射仪法吸收时间短,德拜法吸收时间长,约为10~20h。 4--8在德拜图形上获得某简单立方物质的如下四条谱线;所给出的

射的结果。以均有cu衍为外推函数,请用柯亨法计算晶格常数,精确到四位有效数字解: ,+=1,

可得下表:

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