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第三章材料合成与制备中的主要环境参量

第三章材料合成与制备中的主要环境参量

材料合成与制备是在一定环境中进行的。环境参量,如温度、压强、气氛、重力等,关于材料合成与制备有着巨大的甚至是决定性的影响。认识这些影响,同时人为地调控各类环境参数,是材料合成与制备的重要环节,也是材料合成与制备科学的要紧研究对象之一。

本篇针对一些要紧环境参数及其调控作简要介绍。

3.1 温度

温度表征物体的冷热程度。根据热力学,关于理想气体

⎪⎪⎭

⎫ ⎝⎛=2322

v m k T (1) 其中:T 为温度,k 为玻尔兹曼常数,2v m 为理想气体分子的平均动能。因此,温度也是分子平均动能的度量。

从熔体制备晶体或者玻璃的过程中,温度是最为关键的可调控参量。晶体熔化过程中,从有序的晶格出发,原子的挪动不仅使晶格坐位上的原子发生重新排列,而且导致了晶格的完全瓦解。高温下的晶体,尽管存在不规则的热运动,但原子仍停留在晶格的坐位邻近。转变为液态,晶格已经不复存在,原子的位置分布是无规的,表达了位置无序性,而且原子并不定局域于某个特定的位置上。F.A.Lindemann 提出了晶体熔化的判据:当原子热振动的均方根位移与原子间距之比值超过一定限度δ后,晶体即产生熔化,即

()δ>>

u 12 δ值因晶体结构与材料类型而有差异。关于体心立方金属Li 、Na 、K 等,δ≈ 0.11;关于面心立方金属Cu 、Ag 、Au 、A1等,,δ≈ 0.07。在固相到液相的相变过程中,原子体积(也能够说密度)有一跳跃式的变化,基本上不存在过热状态,但在降温时,当液体冷却到熔点T m 时,并不可能立即凝固或者结晶,而是先以过冷液体的形式存在于熔点之下。新的晶相形成,首先要通过成核阶段,即在局部形成小块晶核。由于晶核尺寸很小,表面能将占很大的比例,因而将形成能量的壁垒。因此,在熔点之上,成核是不可能实现的。只有当温度下降至熔点下列,即存在一定的过冷度T T T m -=∆时,成核的几率才大于零。晶核形成后,晶核的长大就要紧依靠原子的扩散过程。因此,结晶的速率既与成核的几率有关,又与长大的速率有关。前者取决于过冷度的大小,后者则取决于温度

的高低。假如从液相冷却下来的速率足够快的话,过冷液相就将避免结晶而形成玻璃态。结晶与形成玻璃态,均取决于温度与降温速率。

固相反应开始温度常远低于反应物的熔点或者系统的低共熔点。这一温度与反应物内部开始明显扩散作用的温度是相一致的,常称之泰曼温度或者烧结温度。不一致物质的泰曼温度与其熔点T m 间存在一定的关系。比如关于金属为0.3~0.5T m ;硅酸盐类的泰曼温度则分别为0.8~0.9T m 。不管是反应操纵的固相反应还是扩散操纵的固相反应,反应速率常数、扩散系数与温度间均存在着阿伦纽斯形式的关系:

⎪⎭

⎫ ⎝⎛-=RT G exp K K ∆0 (2) 其中,K 0为常数,∆G 为活化能,R 为气体常数(R =8.314 J ⋅K -1⋅mol -1)。

温度关于材料中的相变、烧结等材料合成与制备中的关键过程不管在热力学还是动力学上都产生强烈的影响。因此,务必对温度及温度的调控有充分的认识。

3.1.1 化学合成中常用的加热方法

当化合物发生反应时,通常情况下升高温度则反应速度加快。大体上温度每升高l0︒C ,反应速度就要增加一倍。因此,为了增加反应速度,往往需要在加热下进行反应。此外,化学实验的许多基本操作都要用到加热。

化学实验室中常用的热源有煤气灯、酒精灯与电炉等。务必注意,玻璃仪器通常不能用火焰直接加热。由于剧烈的温度变化与加热不均匀会造成玻璃仪器的损坏。同时,由于局部过热,还可能引起有机化合物的部分分解。为了避免直接加热可能带来的问题,实验室中常常根据具体情况应用不一致的间接加热方式。

最简便的是通过石棉网进行加热。但这种加热仍很不均匀,故在减压蒸馏或者回流低沸点易燃物等操作中就不能应用。在化学实验室中,为了保证加热均匀,经常选用下列热浴来进行间接加热(热浴的液面高度皆应略高于容器中的液面)。

(1)水浴:当需要的加热温度在80︒C 下列时,可将容器浸入水浴中(注意:勿使容器触及水浴底部),小心加热以保持所需的温度。但是若要长时间加热,水浴中的水总难免气化外逸,在这种情况下,可使用附加自动添水装置的水浴。若需要加热到100︒C 时,能够用沸水浴或者水蒸汽浴。

(2)油浴:在100~250︒C 范围内加热,能够用油浴。油浴所能达到的最高温度取决于所用油的种类。若在植物油中加入1%的对苯二酚,便可增加它们在受热时的稳固性。透明石蜡油可加热到220︒C ,温度过高并不分解,但易燃烧。甘油与邻苯二甲酸二正丁酯适用于加热到140~150︒C ,温度过高则易分解。硅油与真空泵油在250︒C 邻近仍较稳固。应当指出,用油浴加热时,油浴中应放温度计,以便及时调节灯焰,防止温度过高。此外,蜡或者石蜡也可用作油浴的浴液,能够加热到220︒C 。它的优点是在室温时是固体,便于贮藏,但是加热完毕后,在它们冷凝成固体前,应先取出浸于其中的容器。

(3)砂浴:加热温度务必达到数百度以上时往往使用砂浴。将清洁而又干燥的细砂平铺在铁盘上,盛有液体的容器埋入砂中,在铁盘下加热,液体就间同意热。由于砂对热的传导能力较差而散热却快,因此容器底部与砂浴接触处的砂层要薄些,使易受热;

容器周围与砂接触的部分,可用较厚的砂层,使其不易散热。但砂浴由于散热太快,温度上升较慢,且不易操纵而使用不广。

(4)空气浴:沸点在80︒C以上的液体原则上均可使用空气浴加热。最简便的空气浴可用下法制作:取空的铁罐一只,罐口边缘剪光后,在罐的底层打数行小孔,另将圆形石棉片(直径略小于罐的直径,厚约2~3mm)放入罐中,使其盖在小孔上,罐的四周用石棉布包裹。另取直径略大于罐口的石棉板(厚约2~4 mm)一块,在其中挖一个洞(洞的直径接近于蒸馏瓶或者其他容器颈部的直径),然后对切为二,加热时用以盖住罐口。使用时将此空气浴放置在铁三脚架上,用灯焰加热即可。注意蒸馏瓶或者其他容器在罐中切勿触及罐底。

此外,当物质在高温加热时,也能够使用熔融的盐,如等重量的硝酸钠与硝酸钾混合物在218︒C熔化,在700︒C下列是稳固的。含有40%亚硝酸钠、7%硝酸钠与53%硝酸钾的混合物在142︒C熔化,使用范围150~500︒C。务必注意若熔融的盐触及皮肤,会引起严重的烧伤。因此在使用时,应当倍加小心,并尽可能防止溢出或者飞溅。

3.1.2 高温的获得与测量方法

通常称获得高温的设备为高温炉。高温炉就用途不一致可分为工业炉与实验用炉。工业炉又分为冶金用炉、硅酸盐窑炉等。高温炉的炉体是由各类耐火材料砌成,能源可使用固体、气体、液体、电,现工业生产上多用火焰窑炉,但电炉与火焰炉相比有许多优点,如清洁环保、热效率高,炉温调控精确、便于实验工艺操纵等,因此实验使用的高温炉基本上都是电炉。根据加热方式的不一致,电炉可大致分为下列几类。

(1)电阻炉:当电流流过导体时,由于导体存在电阻,因此产生焦耳热,就成为电阻炉的热源。通常供发热用的导体的电阻值是比较稳固的,假如在稳固电源作用下,同时具备稳固的散热条件,则电阻炉的温度是容易操纵的。电阻炉设备简单、易于制作、温度性能好,故在实验室中用得最多。

(2)感应炉:在线圈中放一导体,当线圈中通以交流电时,在导体中便被感应出电流,借助于导体的电阻而发热。若试料为绝缘体时,则务必通过发热体(导体)间接加热。感应加热时无电极接触,便于被加热体系密封与气氛操纵,故实验室中也有较多使用。感应炉按其工作电源频率的不一致有中频与高频之分,前者多用于工业熔炼,实验室多用高频炉,其电源频率为10-100kHz。供高频炉加热用的感应圈是中空铜管制成,管内通水冷却。

(3)电弧炉与等离子炉:电弧炉是利用电弧弧光为热源加热物体的,它广泛用于工业熔炼炉。在实验室中,为了熔化高熔点金属,常使用小型电弧炉。等离子炉是利用气体分子在电弧区高温(5000K)作用下,离解为阳离子与自由电子而达到极高的温度(10000K)。

(4)电子束炉:电子束在强电场作用下射向阳极,由于电子束冲击的巨大能量,使阳极产生很高的温度。此种高温炉多用来在真空中熔化难熔材料。在直流高压下,电子冲击会产生X光辐射,对人体有害,故通常不希望使用过高的电子加速电压。常用的加速电压为数千伏,电流为数百毫安。可通过改变灯丝电流而调整功率输出,故电子束

炉比电弧炉的温度容易操纵,但它仅适于局部加热与在真空条件下使用。

(5)利用热辐射的加热设备:通常的高温炉,发热体与试料间的热传导是通过辐射与对流达到的。辐射加热方式的特点是使发热体与试料远离,便于在加热过程中对试料进行各类操作。由于热辐射的速度很快,又无通常炉体的热惰性,故辐射炉有利于试料的迅速加热与冷却。

无机材料合成中应用的高温炉,应当具有下列特点:能达到足够高的温度,有合适的温度分布;炉温易于测量与操纵;炉体结构简单灵活,便于制作;炉膛易于密封与气氛调整。

各类高温炉及其能达到的温度见表3.l 。

表3.1 各类高温炉及其能达到的温度

电热体是电阻炉的发热元件,合理选用电热体是电阻炉设计的重要内容。

(1)Ni-Cr 与Fe-Cr-A1合金电热体:是在1000~1300︒C 高温范围内,在空气中使用最多的发热元件。这是由于,它们具有抗氧化、价格便宜、易加工、电阻大与电阻温度系数小等特点。Ni-Cr 与Fe-Cr-Al 合金有较好的抗氧化性,在高温下由于空气的氧化能生成CrO 或者NiCrO 4致密的氧化膜,能阻止空气对合金的进一步氧化。为了不使保护膜破坏,此种发热体不能在还原气氛中使用,此外还应尽量避免与碳、硫酸盐、水玻璃、石棉与有色金属及其氧化物接触。发热体不应急剧地升降温,因它会使致密的氧化膜产生裂纹以致脱落,起不到应有的保护作用。

Ni-Cr 合金常用牌号有Cr20Ni80与Cr15Ni60。经高温使用后,只要没有过烧,仍然比较柔软。Ni-Cr 合金具有较好的抗氮气能力,常用于含氮气氛的电阻炉。Fe-Cr-Al 合金丝经高温使用后,因晶粒长大而变脆。温度越高、时间越长,脆化越严重。因此,高温用过的Fe-Cr-A1丝,不要拉伸与弯折,修理时要认真,需要弯折时,可用喷灯加热至暗红色后再进行操作。

实验室用的Ni-Cr 或者Fe-Cr-A1发热体,大部分制成直径为0.5~3.0mm 的丝状。电热丝通常绕在耐火炉管外侧,有的绕在特制炉膛的沟槽中。

(2)Pt 与Pt-Rh 电热体:铂的化学性能与电性能都很稳固,且易于加工,使用温度高,故在某些特殊场合下被用作电热体。铂的熔点为1769︒C ,高于1500︒C 时软化。铂在低于熔点温度的高温下,与氧可形成中间的铂氧化物相,使铂丝细化缺失。因此,通常建议在空气中铂的最高使用温度为1500︒C ,长时间安全使用温度低于1400︒C ,不能在2O p ≥0.1MPa 下使用。

在高温下,铂与所有的金属与非金属(P 、S 等)都能形成合金或者化合物,故应避免

接触。当有能被还原的化合物与还原性气氛共同存在时,对铂也是有害的。比如,SiO2与还原气氛共存时,在高温下形成气相SiO2。因此,即使SiO2与Pt无直接接触,也有可能生成Pt-Si化合物而使Pt遭到破坏。,通常绕在炉管外侧的Pt丝要用A12O3粉覆盖。要求Al2O3粉不含Si与Fe的氧化物杂质。Pt丝长时间在高温下使用,会因晶粒长大而脆断,此外,Pt在高温下切忌与含H或者C的气氛接触,否则会使其中毒而导致使用寿命大为缩短。

Pt-Rh合金与Pt比较,具有更高的熔点与更高的使用温度(见表3.2)。随着Rh含量增加,合金最高使用温度也增高。但与此同时,合金的加工性能急剧恶化。

表3.2 Pt-Rh合金电热体性能

Pt与Pt-Rh合金的电阻率随温度的变化较Ni-Cr、较Fe-Cr-A1合金更为显著,Pt-Rh 合金的使用条件与Pt基本一致,但在高温下,晶粒长大较Pt迟缓。Pt-Rh合金在高温下长时间使用,丝径会因Rh的挥发而变细,挥发金属附着于炉体较冷部位。Pt、Rh均为贵金属,使用后应回收。

(3)Mo、W、Ta电热体:为了获得更高的温度,在真空或者适当气氛下。往往使用高熔点金属(Mo、W、Ta等)为电热体。钨是金属中熔点最高的,很早就用于电光源做发光灯丝材料。钨的冷加工性能不太好,但还可制成细丝与薄片。钨在常温下很稳固,但在空气中加热便氧化成WO3,它能与碱性氧化物生成钨酸盐,钨能同卤族元素直接化合。钨与碳、硅、硼在高温下共热,可生成相应的化合物。在空气或者氧化剂存在时,钨溶解于熔碱中生成钨酸盐,并为热的碱性水溶液腐蚀。钨与酸起轻微作用,但在氧氟酸与硝酸混合物中加热溶解很快。

为了获得2000︒C以上的高温,常使用钨丝或者钨棒为电热元件,使用气氛应为真空或者经脱氧的氢气与惰性气体。

与钨比较,钼的密度小,价格便宜,加工性能好,广泛用作获得1600-1700︒C高温的电热元件。钼有较高的蒸气压,故在高温下长时间使用,会因基体挥发而缩短电热元件的寿命。钼在高温下极易氧化生成MoO3而挥发。因此,气氛中的氧应尽量去除。对钼丝炉通常使用经除氧后的H2或者H2+N2为保护气氛,后者应用较多,由于它比较安全,且在实验室中容易获得。

实验室中的钼丝炉,是将钼丝直接绕在刚玉(A12O3)炉管上的,由于,刚玉管高于1900︒C会软化,故钼丝炉所能达到的最高温度受炉管限制。钼丝炉通常要求有足够缓慢的升降温速度,这要紧是为了保护刚玉炉管不被炸裂,因其抗急冷急热性差。

钽不能在氢气中使用,由于它能汲取氢而使性能变坏。钽比钼熔点高,比钨加工性能好,在真空或者惰性气氛中稳固。因此作为获得高温的电热体也得到一定的应用,但

价格较贵是其不足之处。

(4)碳化硅(SiC)电热体:是由SiC粉加黏结剂成形后烧结而成。质量优良的碳化硅电热体在空气中可使用到1600︒C,通常使用到1450︒C左右,它是一种比较理想的高温电热材料。碳化硅电热体通常制成棒状与管状,故也叫硅碳棒与硅碳管。

硅碳棒有不一致规格,它能够灵活地布置在炉膛内需要的位置上,它的两个接线端露于炉外。使用硅碳棒的缺点是,炉内温度场不够均匀,同时各支硅碳棒电阻匹配困难。

硅碳管是直接把SiC制成管状发热体,故温度场比较均匀。目前国产硅碳管最大直径为100mm。硅碳管有无螺纹、单螺纹与双螺纹之分。为了减少SiC电热体接线电阻,在接线端喷镀一层金属铝,电极卡头用镍或者不锈钢片制成。在安装SiC电热体时,切忌使发热部位与其他物体相接触,以免高温下互相作用。SiC电热体有良好的耐急冷急热性能。在800︒C左右,SiC电热体电阻率出现最低点,说明SiC在低温区呈半导体特性,而在高温区呈金属特性。

因此,高温时炉温操纵不困难,由于随炉温升高而元件电阻增大,具有自动限流作用。室温时元件电阻很大,需要较高的启动电压才行。但应注意,启动通电后由于炉温升高(800︒C前元件电阻下降),电流有自动增加的趋势。

SiC电热体在使用过程中,电阻率缓慢增大的现象叫“老化”。这种老化现象在高温时尤为严重。SiC的老化是电热体氧化的结果,在空气中使用温度过高,或者空气中水汽含量很多时,都可使SiC老化加速。但在CO气氛中,SiC发热体能使用到1800︒C。SiC发热体不能在真空下与氢气氛中使用。老化后的SiC发热体仍可勉强使用,但应提升工作电压并注意安全。通常认为,SiC发热体有效寿命结束在其常温下电阻值为初始值两倍的时候。

(5)碳质电热体:石墨或者碳质电热体具有良好的耐急冷急热性,至少在2500︒C往常,其机械强度随温度升高而增大。它的电阻率随温度变化不大,加工性能良好,使用温度极高。故常用作获得高温的电热材料,将石墨加工成筒形发热体的高温炉称之碳管炉。由于碳质材料的电阻率很小(10-3Ω·cm),因此常在筒形发热体上作螺旋或者横向切口以增大发热体的电阻值。尽管如此,使用碳质发热体时仍需用大电流变压器供电。

以碳质发热体为热源的高温炉,最高使用温度可达3600︒C,常用温度为1800︒C ~2000︒C。碳在常温下十分稳固,当加热到高温时,碳的化学活性迅速增加,如今它容易与氧化合,为了防止碳质电热体高温氧化而烧毁,应在真空、还原性气氛或者中性气氛中使用。

(6)二硅化钼(MoSi2)电热体:在高温下使用具有良好的抗氧化性,这是由于在高温下,发热体表面生成MoO3而挥发,因此形成一层很致密的SiO2保护膜,阻止了MoSi2进一步氧化。MoSi2发热体在空气中可安全使用到1700︒C,但在氮与惰性气体中,最高使用温度将要下降,它也不能在氢气或者真空中使用。MoSi2电热体不宜在低温下(500-700︒C)的空气中使用,如今Mo被大量氧化而又不能形成SiO2保护膜。故通常认为,MoSi2不宜在低于1000︒C下长时间使用。

MoSi2在空气中长时间使用,其电阻率保持不变,无所谓产生“老化”现象,这是MoSi2所特有的优点,为其他电热体所不及。为了使SiO2保护膜不被破坏,应防止电热体与可能生成硅酸盐的材料相接触。当然,电热体表面温度不宜过高,以免SiO2膜熔

融下流。

MoSi2电阻率较SiC小,因此供电需配用大电流变压器。MoSi2电热体长时间使用,其力学强度逐步下降,以致最终破坏,但总的使用寿命比SiC长。

MoSi2发热体通常做成棒状或者U形两种,大多在垂直状态下使用。由于MoSi2发热体在高于1350︒C时会变软,有延展性,若水平使用,务必用耐火材料支持发热体,但最高使用温度不超过1500︒C。MoSi2在常温下很脆,安装使用时应特别小心,以免折断,并要留有一定的伸缩余地。

(7)氧化物电热体:ZrO2、ThO2等氧化物能够作为电热体在空气中使用到1800︒C上。ZrO2、ThO2具有负的电阻温度系数,属半导体类型材料。它们在常温下具有很大的电阻值,以致无法直接通电加热。实际上,在氧化物发热体通电之前,先使用其他电热体如Pt-Rh、MoSi2、SiC等)把它加热到1000︒C以上,使其电阻大为下降,如今才能对氧化物通电加热升温。因此,使用氧化物电热体的高温炉需要配置两套供电系统。

铬酸镧是以LaCrO3为主成分的可在氧化性气氛中使用的高温电炉发热体,是利用LaCrO3的电子导电性的氧化物发热体。其特点是:热效率高,单位面积发热量大;发热体表面温度可长时间保持在1900︒C,炉内有效温度可达1850︒C;在大气、氧化性气氛中能够稳固使用;使用方法简单,电极安全可靠;较容易得到较宽的均热带,易于实现高精度的温度操纵。通常LaCrO3发热体是棒状的,适于制作管式炉。两端的电极部与中间的发热部结合成一体,电极部涂以银浆,用银丝做电极引线。各类电热体的最高工作温度见表3.3。

表3.3 各类发热体的最高工作温度

温度是表征物体冷热程度的物理量。它是物理化学过程中应用最普遍、最重要的工艺参数。多种工业产品的产量、质量、能耗等都直接与温度有关。因此,准确地测量温度具有十分重要的意义。只能借助于冷热不一致的物体之间的热交换与物体的某些物理性质随冷热程度不一致而变化的特性来加以间接的测量。希望用于测量物体的物理性质,要连续单值地随着温度而变化,而且重复性要好,以便于精确测量。但实际上并没有一种物体的物理性质能完全符合上述要求。因此,物理性质的选择便是一种复杂而又困难的工作。目前比较常用的物理性质有热膨胀、电阻变化、热电效应、热辐射等。

随着科学技术的进展,又应用了一些新的测温原理,如射流测温、涡流测温、激光测温与利用卫星测温等。

温度的高低务必用数字来说明,温标就是温度的数值表示方法。各类温度计的数值都是由温标决定的。为了统一国际间的温度量值,目前各国使用的是 (1990年国际温标)。国际温标是以一些纯物质的相平衡点(即定义固定点)为基础建立起来的。这些点的温度数值是给定的。国际温标就是以这些固定点的温度给定值与在这些固定点上分度过的标准仪器与插补公式来复现热力学温标的。固定点间的温度数值,是用插补公式确定的。到目前为止,还不可能用一种温度计复现整个温标。

1990年国际温标(1TS 一90),仍以热力学温度作为基本温度,为了区别往常的温标,用“T 90。”代表新温标的热力学温度,单位为K 。与此并用的摄氏温度记为t 90,单位为︒C ,T 90与t 90的关系为

152739090.T t -=

ITS 一90国际温标的固定点总数较1968年国际有用温标IPTS 一68(75)增加4个,而且,其数值几乎全改了,变得更准确;取消了水沸点、氧沸点等,新增加氖、汞等三相点及镓等熔点及凝固点;低温下限延伸至0.65K ;高温范围的铂铑10-铂热电偶,作为温标的标准仪器已被取消,代之为铂电阻温度计。

华氏(Fahrenheit )与摄氏(Celsius )温标之间,有如下关系:

()⎪⎩

⎪⎨⎧+=-=32593295c f f c t t t t 其中,下标f ,c 分别相应于华氏与摄氏温度。比如,0︒C=32︒F ,100︒C=212︒F 。 温度测量方法通常分为接触式与非接触式两种。接触式测温就是测温元件要与被测物体有良好的热接触,使两者处于相同温度,由测温元件感知被测物体温度的方法。非接触式与接触式相反,测温元件不与被测物体接触,而是利用物体的热辐射或者电磁性质来测定物体的温度。两种测温方式的特点见表3.5。

表3.5 接触法与非接触法的特点

3.1.3 低温获得

据统计,在各类温度传感器中,低温温度传感器约占5%。低温领域的特殊性与有关技术的复杂性,增加了人们对低温温度的获得与准确测量的难度。近年来,随着近代物理学与电子技术的进展,低温温度传感器作为一门新兴技术,不仅得到发达国家的普遍重视,也一直是各进展中国家竞相进行研究开发的热点,许多国家通过研究各类物理效应,探索新的低温测量方法,使用近代技术开发新产品,扩大测温范围,提高测量精度,占领世界市场,并取得了新进展。

通常获得低温的途径有相变制冷、热电制冷、等焓与等熵绝热膨胀等,表3.6列出了一些要紧的制冷方法。

表3.6 一些要紧的制冷方法

一些常见的低温源如下:

(1)冰盐共熔体系:将冰块与盐尽量弄细并充分混合(通常用冰磨将其磨细)能够达到比较低的温度,比如,下面一些冰盐混合物可达到不一致的温度

3份冰+1份NaCl(-2l︒C);

3份冰+3份CaCl2(-40︒C);

2份冰+1份浓HNO3(-56︒C)。

(2)干冰浴:这也是经常用的一种低温浴,它的升华温度-78.3︒C,用经常加一些惰性溶剂,如丙酮、醇、氯仿等,以使它的导热更好一些。

(3)液氮:N2液化的温度是-195.8︒C,它是在合成反应与物化性能试验中经常用的一种低温浴,当用于冷浴时,使用温度最低可达-205︒C(减压过冷液氮浴)。

(4)相变制冷浴:这种低温浴能够恒定温度。如CS2可达-111.6︒C,这个温度是标准气压下二硫化碳的固液平衡点。经常用的固定相变冷浴温度见表3.7。

表3.7 一些常用低温浴的相变冷浴温度

低温的温度测量有其特殊测量方法。不仅所选用的温度计与测量常温时的是完全不一致的,而且不一致低温温区也有相对应的测温温度计。这些低温温度计的测温原理是根据物质的物理参量与温度之间存在的一定关系,通过测定这些物质的某些物理参量就能够得到欲知的温度值。常用的低温温度计如下。

(1)低温热电偶是用来测量低温的常用传感器,其结构原则没有太大改变。热电偶的测温范围为2~300K。表3.8示出了各类热电偶的测温范围。

表3.8 各类热电偶的测温范围

低温热电偶与高温热电偶除了在选材方面不相同外,在使用时还应考虑选择丝径更细的线材,以满足低温下漏热少的要求。另外热电偶接点的焊接方法也不相同,这里要求焊接点能承受低温而不易脱离。比如,铜-康铜热电偶可使用电弧碰焊。国外要紧

变化是为习惯市场需要,进展了大量的各类结构的变型品种。以美国为代表的一些发达国家生产的热电偶有如下特点。

(2)电阻温度计:是利用感温元件的电阻与温度之间存在一定的关系而制成的。制作电阻温度计时,应选用电阻比较大、性能稳固、物理及金属复制性能好的材料,最好选用电阻与温度间具有线性关系的材料。常用的有铂电阻温度计、锗电阻温度计、碳电阻温度计、铑铁电阻温度计等。

用低温热电偶与电阻温度计测量中的要紧要求是精度、可靠性、重复性与实际温度标定。选择温度计时应考虑测温范围、要求精度、稳固性、热循环的重复性与对磁场的敏感性,同时还要考虑到布线与读出设备等的费用,最好是用某种温度计测量它本身的最佳适用温度。由于几乎所有的温度计都务必提供一个恒定的电流,这就需要考虑寄生热负载的影响(如,沿着导线的热传递与在读出期间的焦耳热)。充分考虑这些影响后选择的温度计,就应是很好的低温温度计了。表3.9列出了一些低温温度计的特性。

表3.9 一些低温温度计的特性

(3)红外辐射温度计:辐射式温度计是根据物体辐射的能量来测量其温度的传感器。它属于非接触式,具有测温范围宽、反应迅速、热惰性小等优点。这种传感器适用于腐蚀性场合、运动状态物体的温度测量。由于它的感温部分不与测温介质直接接触。因此,其测温精度不如热电偶温度计高,测量误差较大,由于低温时辐射能量大大减小,而且是发射波长较长的红外线。因此,在低温场合用来测量的机会相对比较少。随着辐射检测元件的进展,美国正努力将检测元件安装在极低温的全辐射温度计上,将温度延伸到低温范围并可望进行温度的绝对测定。

(4)新型低温温度传感器:俄罗斯利用声速在气体中与温度的关系,研制了电声气体温度计,在2~273K温度范围内测定热力学温度的误差约为0.01~C,并可得到0.00l 一0.0005K的复现性,研制的石英晶体音叉温度传感器,测量范围4.2 K ~+250︒C,分辨力0.0001K,精度0.02-0.2K;英国的低温气体温度计在2~20K温度范围内可达0.0005K 的精度;澳大利亚定容气体温度计在2~16K温度范围内准确度达±0.003K。

低温操纵有两种,一是恒温冷浴,二是低温恒温器。除了冰水浴外,其他泥浴(相变制冷浴)的制备都是在通风橱里慢慢地加液氮到杜瓦瓶里,杜瓦瓶内预先放上装有调制泥浴的某种液体的容器并搅拌,当泥浴液相成一种稠的牛奶状时,就说明已成了液-固平衡物了。注意不要加过量的液氮。干冰浴也是经常使用的恒温冷浴。低温恒温器通常是指这样的实验装置,它利用低温流体或者其他方法,使试样处在恒定的或者按所需

方式变化的低温温度下,并能对试样进行某种化学反应或者某种物理量的测量。

大多数低温实验工作是在盛有低温液体的实验杜瓦容器中进行的。低温恒温器是实验杜瓦容器与容器内部装置的总称。

低温恒温器大体能够分成两大类,第一类是所需温度范围可用浸泡试样或者使实验装置在低温液体中的方法来实现。改变液体上方蒸气的压强即能够改变温度,如减压降温恒温器。第二类是所需温度包含液体正常沸点以上的温度范围,比如,4.2~77K,77~300K等,通常称做中间温度。能够用两种办法获得中间温度,一种是使试样或者装置与液池完全绝热或者部分绝热,然后用电加热来升高温度;另一种是用冷气流、制冷机或者其他制冷方法(比如,活性炭吸附等)操纵供冷速率,以得到所需的温度。

实验工作中,经常要使试样或者实验装置在所要求的温度上稳固一定的时间,进行工作后再改变到另一温度。在减压降温恒温器中,要用恒压的方法稳固温度;在连续流恒温器中,则要用调节冷剂的流量来稳固温度。最简单的一种液体浴低温恒温器如图3.1所示。

它能够用于保持-70︒C下列的温度。它制冷是通过一根铜棒来进行的,铜棒作为冷源,它的一端同液氮接触,可借铜棒浸入液氮的深度来调节温度,目的是使冷浴温度比我们所要求的温度低5︒C左右,另外有一个操纵加热器的开关,经冷热调节可使温度保持恒定(±0.1︒C)。由于大量气态、挥发性或者对水、氧、热等敏感的无机化合物(包含金属有机化合物与配合物、簇合物等)的合成、分离与提纯与有关的反应往往在低温条件下进行。

3.1液体浴低温恒温器

3.2 高压

高压作为一种特殊的研究手段,在物理、化学及材料合成方面具有特殊的重要性。这是由于高压作为一种典型的极端物理条件能够有效地改变物质的原子间距与原子壳层状态,因而经常被用作一种原子间距调制、信息探针与其它特殊的应用手段,几乎渗透到绝大多数的前沿课题的研究中。利用高压手段不仅能够帮助人们从更深的层次去熟

悉常压条件下的物理现象与性质,而且能够发现常规条件下难以产生而只在高压环境才能出现的新现象、新规律、新物质、新性能、新材料。

高压合成,就是利用外加的高压力,使物质产生多型相转变或者发生不一致物质间的化合,而得到新相、新化合物或者新材料。众所周知,由于施加在物质上的高压卸掉以后,大多数物质的结构与行为产生可逆的变化,失去高压状态的结构与性质。因此,通常的高压合成都使用高压与高温两种条件交加的高压高温合成法,目的是寻求经卸压降温以后的高压高温合成产物能够在常压常温下保持其高压高温状态的特殊结构与性

能的新材料。

Bridgman P W以毕生的精力进展了高压技术,开创了高压下物质的相变与物理性质的研究领域。1946年,当他获得诺贝尔奖以后,引起了人们对高压合成新物质、新材料的关注。然而直到1955年,Bundy F P等人首次利用高压手段人工地合成出只有地球内部条件下才能形成的、具有重大应用价值的金刚石以后,新物质的高压合成工作才进展成研究热潮。接着,Wentorf Jr R H借助高压方法又合成出自然界中未曾发现的、与碳具有等电子结构的、硬度仅次于金刚石的立方氮化硼。高压合成,从此引起了人们的格外重视。

通常,需要高压手段进行合成的有下列几种情况:

①在大气压(0.1 MPa)条件下不能生长出满意的晶体;

②要求有特殊的晶型结构;

③晶体生长需要有高的蒸气压;

④生长或者合成的物质在大气压下或者在熔点下列会发生分解;

⑤在常压条件下不能发生,而只有在高压条件下才能发生化学反应;

⑥要求有某些高压条件下才能出现的高价态(或者低价态)与其它的特殊的电子态;

⑦要求某些高压条件下才能出现的特殊性能等情况。

针对不一致的情况能够使用不一致的压力范围进行合成。目前通常所使用的高压固态反应合成范围通常从1-10MPa的低压力合成到几十个GPa(1 GPa 1万大气压)的高压力合成。通常所指的高压合成为1GPa以上的合成。

3.2.1 高压的产生与测量

利用外界机械加载方式,通过缓慢逐步施加负荷挤压所研究的物体或者试样,当其体积缩小时,就在物体或者试样内部产生高压强。由于外界施加载荷的速度缓慢(通常不可能伴随着物体的升温),所产生的高压力称之静态高压。

常见的静高压产生装置有两类。

①利用油压机作为动力,推动高压装置中的高压构件,挤压试样,产生高压。这类高压装置,最常见的有六面顶(高压构件由六个顶锤构成)高压装置与年轮式两面顶(高压构件由一对顶锤与一个压缸构成)高压装置。年轮式两面顶高压构件如图4-1所示。

②利用天然金刚石作顶锤(压砧),制成的微型金刚石对顶砧高压装置(diamond anvil cell,简称DAC)。这种装置能够产生几十GPa到三百多GPa的高压,还能够与同步辐射光源、X射线衍射、Raman散射等测试设备联用,开展高压条件下的物质相变、高压

合成的原位测试。但是若以合成材料作为研究目的,微型金刚石对顶砧的腔体太小(约10-3mm3),难于取出试样来进行产物的各类表征及作其它性能的测试。通常,以产物合成为研究目的的高压装置都使用具有大腔体(10-1cm3,甚至数百cm3)的大型高压装置(如两面顶与六面顶压机等)。其中还有一种压腔较小(但比金刚石对顶砧大很多)的装置,压强可达30GPa,它也能够与同步辐射及其它测试装置联用,进行些原位测试。进行工业生产使用的工业装置,压腔通常比较大,压强能够达到8 GPa。

图3.2 两面顶高压构件示意图

利用爆炸(核爆炸,火药爆炸等)、强放电等产生的冲击波,在 s~ps的瞬间以很高的速度作用到物体上,可使物体内部压力达到几十GPa以上,甚至上千GPa,同时伴随着骤然升温。这种高压力,就称之动态高压。它也可用来开展新材料的合成研究,但因受条件的限制,动高压材料合成的研究工作,开展得还不多。

当炸药爆炸时所产生冲击波,是一种以超音速在物体中传播的波,冲击波的中心处于强烈的压缩状态。这种压缩状态称之为“冲击压缩”。当炸药爆炸时伴有化学反应的冲击波,则称之为“爆轰波”,“冲击压缩”是冲击波到达的瞬间产生的,不可能使热传导出去,因此它是一种绝热现象。当固体物质受冲击波扫过时,就会急剧地向冲击波方向压缩,当这种压缩超过某一压力极限时,构成固体的粒子(原子群)就像流体一样飞舞起来。若如今用X光观察“冲击压缩”中的原子排列,则会发现结晶是一种分成几百纳米下列的微结晶,且呈镶嵌状排列。当固体粉末受到冲击波冲击压缩时,伴随粉末粒

子间的移动摩擦,与粉末间气体压缩产生的超高温,使粉末表面得到加热,并在其内部瞬间产生局部的高温分布,此现象在多孔质物体中亦会发生。通常把这种“冲击压缩”产生的瞬态高温高压用于人工合成超硬材料,或者用于固化粉状物的技术,均称之动高压合成技术。

高压合成要测量的物理量首先是作用在试样单位面积上的压力,也就是压强。在高压研究的文献中,通常都习惯地把压强称之压力,它不等于外加的负载。在实验室与工业生产中,经常使用物质相变点定标测压法。利用国际公认的某些物质的相变压力作为定标点,把一些定标点与与之对应的外加负荷联系起来,给出压力定标曲线,就能够对高压腔内试样所受到的压力进行定标。现在通用的是利用纯金属Bi(I -Ⅱ)(2.5 GPa)、T1(I -Ⅱ)(3.67 GPa)、Cs(Ⅱ-Ⅲ)(4.2GPa)、Ba(I -Ⅱ)(5.3 GPa)、Bi(Ⅲ-Ⅳ)(7.4GPa)等相变时电阻发生跃变的压力值作为定标点。有的时候也试用一维有机金属络合物Pt(DMG)2(6.9 GPa)与聚苯胺;有机高分子PAn-H +(3.5GPa)材料的电阻-压力极小值作为定标,效果也不错。

关于微型金刚石对顶砧高压装置,常使用红宝石的荧光R 线随压力红移的效应进行定标测压,也有利用NaCl 的晶格常数随压力变化来定标的。

3.2.2 高压合成方法

从高压高温合成产物的状态变化看,合成产物有两类。一是某种物质通过高压高温作用后其产物的构成(成分)保持不变,但发生了晶体结构的多型相转变,形成新相物质。二是某种物质体系,通过高压高温作用后,发生了元素间或者不一致物质间的化合,形成新化合物、新物质。人们能够利用多种高压高温合成方法来获得新相物质、新化合物与新材料。

高压高温合成,根据高压高温的不一致产生方式与使用的设备而划分成许多合成方法。

一、动态高压合成法

动高压合成技术可分成两大类。第一类为爆轰产物法,它是在瞬时的高温高压下伴随化学反应,生成物料不一致的另一种物质。第二类为冲击波瞬态高压高温法,它是利用冲击压力产生新的结晶结构。

动高压合成技术的爆炸冲击方法:为进行有效的冲击压缩,获得人工合成超硬材料所必要的高温高压与平面性良好的冲击波,可使用炸药透镜来满足这一要求。炸药透镜是如图3.3所示的一个锥状高爆速炸药锥形罩,内侧装有低爆速炸药。当外侧的高爆速炸药的爆速为V 1,内侧低爆速炸药的爆速为V 2时,炸药锥型罩的顶角α满足下式关系

1

22V V =αcos 锥顶端装有电雷管,起爆以后的爆轰波阵面呈平面状,镜还能够作为原子弹的起爆装置。这种炸药透镜还能够作为原子弹的起爆装置。使用炸药透镜进行动高压合成的典型处理装置是美国沙恩迪研究所研制的,如图3.4所示。

图3.3 炸药透镜示意图

图3.4 合成处理装置示意图

铜质密封盒内以50%密度装上冲击压缩物(粉末),主爆药为TNT/硝酸钡,对粉末的最大压力为11GPa。另一种方法是把冲击压缩物装入圆筒状的密封容器内,容器周围装上炸药并使之爆炸冲击,大部分固化金属、固化陶瓷都使用这种方法。但由于达不到足够的高压,而需要在密封容器中心插一根芯棒,用来反射冲击波而对入射波产生干扰,使压力增大。

利用爆炸等方法产生的冲击波,在物质中引起瞬间的高压高温来合成新材料的动态高压合成法,也称之冲击波合成法或者爆炸合成法。至今,利用这种方法,已合成出人造金刚石与闪锌矿型氮化硼(c-BN)与纤锌矿型氮化硼(w-BN)微粉,还有一些其它的新相、新化合物。

二、静高压高温合成法

1.超高压激光加热合成法

利用微型金刚石对顶砧高压装置,配合激光直接加热方法,压力可达100 GPa以上,温度可达(2~5) 103K以上。合成温度与压力范围很宽,加上DAC可同时与多种测试装置联用,进行原位测试,对新物质合成的研究与探索,有重要的作用,值得重视。

2.静高压高温(大腔体)合成法

实验室与工业生产中常用的静高压高温合成,是利用具有较大尺寸的高压腔体与试样的两面顶与六面顶高压设备来进行的。按照合成路线与合成组装的不一致,这类方法还可细分成许多种。

①如静高压高温直接转变合成法,在合成中,除了所需的合成起始材料外,不加其它催化剂,而让起始材料在高压高温作用下直接转变(或者化合)成新物质。

②静高压高温催化剂合成法,在起始材料中加入催化剂,这样,由于催化剂的作用,能够大大降低合成的压力、温度与缩短合成时间。

③非晶晶化合成法,以非晶材料为起始材料,在高压高温作用下,使之晶化成结晶

良好的新材料。与此相反,也可将结晶良好的起始材料,经高压高温作用,压致转变成为非晶材料。

④前驱物高压转变合成法,对一些不易转变或者不适于转变成所需的合成物质,能够通过其它方法,将起始材料预先制成前驱物,然后进行高压高温合成,这种方法,十分有效。

⑤与此类似,经常看到,将起始材料进行预处理,如常压高温处理,其它的极端条件处理,包含高压条件,然后再进行高压高温合成的混合型合成法。

⑥高压熔态淬火方法,将起始材料施加高压,然后加高温,直至全部熔化,保温保压,最后在固定压力下,实行淬火,迅速冻结高压高温状态的结构。这种方法,能够获得准晶、非晶、纳米晶,特别是能够截获各类中间亚稳相,是研究与获取中间亚稳相的行之有效的方法。

为了实际应用,有的时候经常需把粉末状物质压制成具有一定机械强度与不一致形状的大尺寸块状材料,这时也利用高压高温手段,进行粉末材料的高压高温成型制备。

3.2.3 高压合成实例

1、金刚石与立方氮化硼的合成

1962年,人们将具有六角晶体结构的质地柔软的层状石墨作起始材料,不加催化剂,在约12.5GPa、3000K的高压高温条件下,使石墨直接转变成具有立方结构的金刚石。金刚石是至今自然界已知的最硬的材料。由于石墨与金刚石都是由碳元素构成的,高压高温作用使它发生了同素异型相转变,金刚石是石墨的高压高温新相物质。合成时没有外加催化剂的参与,这是一种静高压高温直接合成法。假如起始石墨材料添加金属催化剂,则在较低的压力(5~6)GPa与温度1300~2000K条件下,就能够实现由石墨到金刚石的转变。这是静高压高温催化剂合成法成功的一个典型例子。

1957年,Wentorf Jr等人将类似于石墨结构的六角氮化硼作起始材料,添加金属催化剂(Mg等)在6.2GPa与1650K的高压高温条件下,合成出与碳具有等电子结构的立方氮化硼。它是一种由静高压高温催化剂合成法合成出来的与金刚石有相同结构的新相物质。不用催化剂的直接转变,需11.5GPa,2000K的条件。

2、柯石英与斯石英的合成

另一个典型的高压高温多型相转变的例子,是1953年Coes L以α-SiO2为原料,在矿化剂参与下,利用3.5GPa与2050K,15h的高压高温条件,使它转变成具有更高密度的柯石英(Coesite)。以后Stishov等人又使柯石英在16.0GPa与1500~1700K的条件下转变成密度更高的斯石英(Stishovite)。

3、复合双稀土氧化物的合成

以两种倍半稀土氧化物混合料为起始材料,不加催化剂,高压腔高压组装件如图3.5所示在2.0~6.0GPa,1100-1750 K温压条件下,可直接合成出高压高温复合双稀土氧化物LnLn'O3(Ln=RE)新相物质。

图3.5 高压腔高压组装件

1、叶腊石柱;

2、钼片;

3、石墨坩锅;

4、氮化硼坩锅;

5、试样;

6、叶腊石;

7、钢圈。

关于La2O3+Er2O3系统,在常压、1550K下保温192h后,要紧获得的仍是C-(La,Er)O1..5固溶体,只含有少量的LaErO3;而在2.9GPa,小于1550K条件下,仅用30min 就可获得纯的LaErO3。

有的在常压高温(1950K)下经上百小时加热也不反应,但在高压高温条件下可迅速合成,如NdYbO3。关于La2O3+Lu2O3,在高压高温下,甚至只需5~10 min即可合成。高压高温条件,可使常压高温条件难合成的双稀土氧化物变成容易合成的氧化物。高压高温合成还发现与获得常压高温等常规条件未能合成的、自然界尚未发现的新物质,如EuTbO3,PrTbO3,PrTmO3等;还能够合成出LnEuO3(Ln=轻稀土)、EuLnO3(Ln=重稀土)的系列单相产物。

4、高价态与低价态氧化物的合成

高压高温合成中,在试样室周围造成高氧压环境,则可使产物变成高价态的化合物。CuO+La2O3在常压高温(1300K)先合成La2CuO4,然后再将它与CuO混合作起始材料,周围放置氧化剂CrO3,中间用氧化锆片隔开,整体装入Cu锅中,加压加温(1200 K),可造成约5.0一6.0 GPa的高氧压,合成后可得具有高价态Cu3+的LaCuO3化合物。同样地,以La2-x Sr x CuO4为起始材料,放置氧化剂,造成 2.0~3.0GPa高氧压与高温(1100-1200K)环境中,可合成出具有部分高价态Cu3+的产物。利用高氧压(2.0GPa,1300K)获得了具有高价Fe4+与其它高价金属M4+的CaFe4+O3,BaM4+O3(M=Mn,Co,Ni)。从总的趋势看,高压可使物质(包含惰性气体、绝缘体化合物,半导体化合物等)趋于金属化,在极高压力的作用下,物质中的元素可处于高度离化态中。

然而,世界的事物是复杂的。假如使用如图3.5的高压组装,试样周围被h-BN所包围,在高压密封的情况下,却可使试样处于还原环境中,在一定的条件下,高压能够具有还原作用,从而可合成出低价态的稀土氧化物(合成过程中无需添加还原剂)。在C-Eu2O3十F-Tb4O7构成的体系中,Tb含有Tb4+与Tb3+,在2.6GPa与1590K左右的条件作用下,C-Eu2O3转变成B-Eu2O3,而F-Tb407逐步转变成B-Tb2O3,中间B-Eu2O3+B-Tb2O3逐步固溶合成B-EuTbO3,这些是由Tb4+逐步转变成Tb3+而实现的。高压高温合成过程中,有Tb的变价(转变成低价态)最后导致新物质的形成。关于F-CeO2+F-Tb4O7体系,在高压(0.5~4.0GPa)高温(900~1300K)作用下,可合成出仍为萤石结构的F-CeTbO3高压高温新相物质,推测它是通过Tb4+转变为Tb3+形成的。在高压高

温的还原作用下,使Tb4+转变成Tb3+,由此产生的氧缺位,促使本来比较稳固的Ce4+部分转变成Ge3+,从而形成由具有混合价态的Ce4,3+与Tb3+构成的F-CeTbO3+δ。

在钙钛矿氧化物(Sr,Ba)1-x Eu x TiO3中观察到压致稀土元素从Eu3+到Eu2+的变价与混合价的存在。关于较难变价的Ti,也在Sr1-x La x TiO3与La1-x Na x TiO3化合物中发现了压致过渡元素从Ti4+到Ti3+的变价。

5、高Tc稀土氧化物超导体的合成

有的时候所需的合成起始材料难于用常规条件合成,这时,能够先使用高压方法制备出所需要的起始原料,然后再用高压方法,进一步按设计方案进行二次高压合成。通常要使214型互生层状结构的含铜氧化物变成超导体的关键,在于通过A位元素的置换来调整Cu-O键长与氧配位。然而在无限层结构中可调范围有限,如Ca0.86Sr0.14CuO2的晶格参数仅为0.3861 nm,不同意加入电子(n-型)。如能增加母体SrCuO2的晶格参数(从而增加Cu-O键长),则有希望获得新超导体。利用高压高温技术,先合成晶格参数大得多的SrCuO2(a=0.3925 nm)作母体,然后掺Nd或者Pr,实行硝化处理、分解后获得不具有无限层结构的多相混合物,以此作起始材料,在高压(2.5GPa)高温(1300K,0.5 h)下合成,可得近单相的Sr0.86Nd0.14CuO2与Sr0.86Pr0.14CuO2n-型超导样品,其Tconset分别为40 K与39 K。

用各类方法制备出所需的前驱物,利用它的介稳性或者与所设计的产物的相似性等特点,与高压高温极端条件相结合,能够获得许多有意义的新化合物。

6、翡翠宝石的合成

以非晶物质作为起始材料,经高压高温作用,晶化成有用材料的高压晶化法,也是常用的一种高压合成法。以Na2CO3,Al2O3,SiO2按一定比例混合均匀,在1650~1850 K灼烧后淬火,得到具有翡翠成分NaAlSi2O6的透明非晶玻璃,以此作起始材料,经2.0~4.5 GPa,1200~1750K下保温30 min以上,可完成由非晶态到晶态的转变,最后获得具有良好编织结构的、尺寸达到φ(6⨯3)~(12⨯5)mm的宝石级翡翠宝石。在非晶材料中掺人Eu2O3、Dy2O3与CeO2后,经3.5~5.5 GPa,1100~1600K晶化,首次获得可分别发射红、黄、紫可见荧光的宝石级翡翠宝石。

与非晶态的高压晶化过程相反,在常温高压作用下,许多物质能够出现压致非晶化现象,这是目前国际上十分关心的一个新问题。冰-I相,在1.0 GPa,77 K作用下;SiO2在25~35GPa下;发生压致非晶化现象。至今已发现20多种物质有此现象。对具有正交结构SrB2O4:Eu2+晶体施加3.0~7.0GP高压后,试样可出现由μm级晶粒尺寸变成10nm 的压致晶粒碎化与压致非晶化两种现象。压致非晶化来自SrB2O4的长程序的破坏,包含沿[001]的(BO2)∞无穷链在压力作用下受到的破坏。

7、高硼氧化物B7O的合成

以ZnO作为氧化剂与纯硼混合作起始材料,在3.0~3.5GPa,1500K下合成30min,产物用盐酸除去金属Zn与过量氧化锌后可得单相性很好的B7O。初步表征,它是以由12个硼原子构成的正二十面体硼笼为基本结构单元,靠O-B-O键相连接构成的。文献[Nature,1998(391):376~378]从实验上在高压合成B6O中观察到以正20面体硼笼基本结构单元为中心通过许多单元的“Mackay packing"构成一个外形为20面体的宏观(40μm)粒子,但它不是准晶,而是由许多20面体单元挛晶构筑起来的。

8、准晶等中间介稳相的高压熔态淬火截获

获取准晶的最有代表性的方法,是将熔融样品滴落到高速旋转的飞轮上,样品以106-8K/s的速度急冷,可获得准晶,即所谓急冷甩带法。1986年初,苏文辉研究组首先建立了一种静高压熔态淬火方法,在1.0~5.0 GPa的高压作用下,只需要102K/s的冷却速度,(比甩带法速度低104_6K/s),就能够获得甩带法发现的准晶I相与T相。假如将压力提高到7.0 GPa,温度提高到2000K,关于掺有稀土元素Tb的A170Co15Ni10Tb5等合金,经高压熔态淬火,发现了九种新的十次准晶有关相。其中六种是其它合金系中未曾发现过的,其中两种是目前已发现的有关相中具有最大晶胞参数的有关相。对其中的几个,给出了二维点阵模型与原子结构模型,揭示了十次准晶与有关相之间的密切的结构联系,讨论了十次与五次准晶的Penrosetiling模型的关系。此外,在其它合金中,也发现了十二次准晶与其它介稳相、非晶、纳米晶等。

利用静高压熔态淬火方法的优点,以全硅ZSM-5为起始材料,还可使本来只有在高于846K以上才能稳固的β-石英,在室温下稳固存在;使Coesite柯石英在4.0 GPa与1600K,20min条件下即可合成(通常需 3.5GPa,2050K,15h才能合成)。文献[J.Mater..Res,1996(11):2685~2689]利用高压熔态淬火方法,获得了Cu-Ti纳米晶合金,还获得了块状纳米合金[Nanostructured Mater,1993,40(3):323~328]。

9、FeMoSiB的高压晶化合成

利用非晶(Fe0.09Mo0.01)78Si9B13合金条带作原料,在600~900 K,1.0~7.0 GPa温度压力范围内,研究了非晶晶化现象。结果说明与高温晶化相比,高压没有改变晶化产物类型与转化模式,但是对非晶晶化温度,Fe3B的析出温度及Fe3B到Fe2B的相转变温度有重要影响。给出不稳固Fe3B向稳固Fe2B转变的p-T相图。

有Al参与界面扩散反应的非晶FeMoSiB合金条带的晶化压力效应。关于没有Al 参与反应的FeMoSiB,在压力作用下,晶化产物为α-Fe(Si)固溶体,Fe3B或者Fe2B。关于有A1参加扩散反应的非晶晶化产物,在3~5 GPa范围,为α-Fe(A1)固溶体,而在3~5GPa以外范围为α-Fe(Si),Fe3B或者Fe2B。在4 GPa,780~900 K等温退火30 min,靠Al区域出现了一种晶格参数为0.432nm的A1Fe(Mo,Si,B)的以Fe-Al为基的玻璃合金新相。

10、若干材料的冷压合成

冷压,即只加压不加温(室温下),也可进行材料的合成。如对He-N2系统,利用DAC,于7.7GPa、室温下,可合成出固态的具有化学整数比的van der Waals化合物He(N2)11,但只有在高压状态下才能稳固,压力卸去后,是可逆的。

另外,在一个具有比较复杂的全硅分子筛ZSM-5的系统中,利用大压机,在4.0 GPa、室温下,可直接转变成ZSM-11全硅分子筛,产物在常压室温下可稳固存在。这里提供了一个具有不可逆的、冷压实现固相直接转变的典型例子。

11、新材料的超高压超高温合成

碳与氮化硼的高压高温多形体立方相,是已知的仅次于金刚石与立方氮化硼的最硬固体。KnittleE等人[Phys.Rev.B,1995-II(51):12149-12156]利用Nd:YAG激光直接加热放置于DAC样品室中的C x(BN)1-x,温度达1500-2000K,压力为30~50GPa,结果合成出立方闪锌矿结构的C x(BN)1-x固溶体。当x=0.33时,其体模量为335(±19)GPa。

无机材料合成与制备

第一章:经典合成方法 1实验室常用的加热炉为:高温电阻炉 2电炉分为:电阻炉,感应炉,电弧炉,电子束炉 3电阻发热材料的最高工作温度:硅碳棒1400℃、 硅化钼棒1700℃、 钨丝1700℃真空、ZrO 2 2400℃、石墨棒 2500℃真空 4用石墨作为电阻发热材料,在真空下可以达到相当高的温度,但需注意使用的条件,如在氧化或者还原的气氛之下,则很难去除石墨上吸附的气体,而使真空度不易提高,并且石墨可以与周围的气体形成挥发性物质,使需要加热的物体受到污染,而石墨本身在使用的过程中逐渐损耗。 5氧化物发热体:是在氧化气氛中,氧化物发热体是最为理想的加热材料。 6测温仪表分为接触式和非接触式,接触式的有热膨胀,热电阻,热电偶。非接触式的有辐射高温计,光学高温计和比色高温计。 7热电偶的特点:①体积小,重量轻,结构简单,易于装配维护,使用方便。②主要作用点是由两根线连成的很小的热接点,两根线较细,所以热惰性很小,有良好的热感度。③能直接与被测物体相接触,不受环境介质如烟雾、尘埃、水蒸气等的影响而产生误差。具有较高的准确度,可保证在预期的误差之内。④测温范围较广,一般可在室温至2000℃左右之间应用,某些情况可达3000℃⑤测量讯号可远距离传送,并有仪表迅速显示或自动记录,便于集中管理。 8影响固相反应的因素:(1)反应物化学组成与结构,反应物结构状态 (2)反应物颗粒尺寸及分布影响。 9化学转移反应:把所需要的沉积物质作为反应源物质,用适当的气体介质与之反应,形成一种气态化合物,这种气态化合物通过载气输运到与源区温度不同的沉积区,再发生逆反应,使反应源物质重新沉积出来,这样的反应过程称为化学转移反应。 10 源区温度为T2,沉积区温度为T1:如果反应是吸热反应,则θ m r H ?为正,当T2>T1 时,温度越高,平衡常数越大,即从左往右反应的平衡常数增大,反应容易进行,物质由热端向冷端转移,即源区温度应大于沉积区温度,物质由源区转移至沉积区。如果反应为放热反应,θm r H ?为负, 则应控制源区温度T2小于沉积区温度T1,这样才能实现物质由源区向沉积区得转移。如果θ m r H ?近似为0,则不能用改变温度的方法来进行化学转移。 11低温合成中,低温的控制主要有两种方法:①恒温冷浴②低温恒温器 12高压合成:就是利用外加的高压力,使物质产生多型相转变或发生不同物质间的化合,从而得到新相,新化合物或新材料。 第二章:软化学合成方法 1软化学合成方法:通过化学反应克服固相反应过程中的反应势垒,在温和的反应条件下和缓慢的反应进程中,以可控制的步骤逐步地进行化学反应,实现制备新材料的方法。 2软化学法的原理:在温度相对较低的条件下通过化学反应使“硬”结构拼块与“软”溶剂或者有机分子连接起来,该过程产生由“硬”的单元与“软”的大分子组成的前驱体产物,一些硬的拼块在软的溶剂中,形成具有软特性的流体。该流体中含有作为硬核的多核阳离子的复合物,这种复合物是通过在适当的溶剂中溶解前驱体并控制反应参数来聚集纳米级的结构拼块值得的。 3软化学法分类:溶胶——凝胶法,前驱物法,水热/非水溶剂热合成法,沉淀法,支撑接枝工艺法,微乳液法,微波辐射法,超声波法,淬火法,自组装技术,电化学法等等。

(环境管理) 材料合成与制备中的主要环境参量

第三章 材料合成与制备中的主要环境参量 材料合成与制备是在一定环境中进行的。环境参量,如温度、压强、气氛、重力等,对于材料合成与制备有着巨大的甚至是决定性的影响。认识这些影响,并且人为地调控各种环境参数,是材料合成与制备的重要环节,也是材料合成与制备科学的主要研究对象之一。 本篇针对一些主要环境参数及其调控作简要介绍。 3.1 温度 温度表征物体的冷热程度。根据热力学,对于理想气体 ??? ? ??=2322v m k T (1) 其中:T 为温度,k 为玻尔兹曼常数,2v m 为理想气体分子的平均动能。因此,温度也是分子平均动能的度量。 从熔体制备晶体或玻璃的过程中,温度是最为关键的可调控参量。晶体熔化过程中,从有序的晶格出发,原子的挪动不仅使晶格坐位上的原子发生重新排列,而且导致了晶格的彻底瓦解。高温下的晶体,虽然存在不规则的热运动,但原子仍停留在晶格的坐位附近。转变为液态,晶格已经不复存在,原子的位置分布是无规的,体现了位置无序性,而且原子并不定局域于某个特定的位置上。F.A.Lindemann 提出了晶体熔化的判据:当原子热振动的均方根位移与原子间距之比值超过一定限度δ后,晶体即产生熔化,即 ()δ>>

材料合成制备

1.材料合成:指把各种原子、分子结合起来制成材料所采用的各种化学方法和物理方法,一般不含工程方面的问题。 2.材料制备:制备一词不仅包含了合成的基本内涵,而且包含了把比原子、分子更高一级聚集状态结合起来制成材料所采用的化学方法和物理方法。 3.材料加工:是指对原子、分子以及更高一级聚集状态进行控制而获得所需要的性能和形状尺寸(以性能为主)所采用的方法(以物理方法为主)。 材料设计:对材料的组成、结构及制备、加工工艺进行设计,使按“设计”制成的材料具有预期的性能。 新材料特点:品种多、式样多,更新换代快,性能要求越来越功能化、极限化、复合化、精细化。 新型无机材料与传统的硅酸盐材料主要区别: 1材料组成已远超出硅酸盐的范围 2用途上由原来主要利用材料所固有的静态物理状态发展到各种物理效应、微观现象的功能、以及能在极端条件下使用 3制备方法有重大革新 4制品形态上有很大变化 新材料主要发展趋势:1结构材料的复合化2信息材料的多功能集成化3低维材料迅速发展新材料的研究模式逐渐被人们归纳为“成分组织—制备和加工—性能—设计制造—服役—失效—综合表现”七者之间的辩证关系 正在发展的几类新材料:高温超导材料中间化合物功能陶瓷材料高温结构陶瓷材料新型能源材料高分子功能材料高分子结构材料 单晶体的基本性质:(1)均匀性(2)各向异性(3)自限性(4)对称性(5)最小内能和最大稳定性 固相—固相平衡的晶体生长:优点:生长温度低;晶体形状可预先固定。 缺点:难以控制成核以形成大晶粒。 液相-固相平衡的晶体生长: 从熔体中生长单晶的最大优点在于:熔体生长速率大多快于溶液生长、晶体的纯度和完整性高 基本理论1. 晶体生长驱动力——过冷度 冷却速度↑,过冷度↑,晶体生长速度↑ 冷却速度↓,过冷度↓,晶体生长速度↓ 形核理论:在晶体生长过程中,新相核的发生和长大称为成核过程。成核过程可分为均匀成核和非均匀成核。 均匀成核:所谓的均匀成核,是指在一个热力学体系内,各处的成核几率相等。 非均匀成核,是指体系在外来质点,容器壁或原有晶体表面上形成的核。在此类体系中,成核几率在空间各点不同。 温度梯度分布对晶体生长方式的影响:1.在正的温度梯度下,固液界面前沿液体几乎没有过冷,固液界面以平面方式向前推进,即晶体以平面方式向前生长。2.在负的温度梯度下,界面前方的液体强烈过冷,晶体以树枝晶方式生长。 熔体生长过程的特点: (1)熔体生长过程只涉及固一液相变过程2)在该过程中,原子(或分子)随机堆积的阵列直接转变为有序阵列3)在籽晶与熔体相界面上进行相变,使其逐渐长大。4)生长着的界面必须处于过冷状态。5)过冷区必须集中于界面附近狭小的范围之内。6)结晶过程中释放出来的潜热不可能通过熔体而导走,而必须通过生长着的晶体导走。7)生长界面必须向着低温方向不断离开凝固点等温面8)另一方面,熔体的温度通常远高

材料合成与制备

仅供参考, 1.单晶:即结晶体内部的微粒在三维空间呈有规律地、周期性地排列。或者说晶体的整体在 三维方向上由同一空间格子构成,整个晶体中质点在空间的排列为长程有序。 2.非晶:组成物质的原子、分子的空间排列不呈周期性和平移对称性,晶态的长程有序受到 破坏,仍然保持形貌和组分的某些有序特征而具有短程有序,这样一类特殊的物质状态统称 为非晶态。 3.真空蒸镀:真空蒸镀是将待成膜的物质置于真空中进行蒸发或升华,使之在工件或基片表 面析出的过程。 4.溅射成膜:溅射是指荷能离子轰击靶材,使靶材表面原子或原子团逸出的现象。逸出的原子在工件表面形成与靶材表面成分相同的薄膜。这种制备薄膜的方法称为溅射成膜。 5.化学气相沉积:当形成的薄膜在基片表面与其他组分发生化学反应,获得与原成分不同的 薄膜材料,这种存在化学反应的气相沉积称为化学气相沉积。 6.三温度法:在制备薄膜时,必须同时控制基片和两个蒸发源的温度,所以也称三温度法。 7.超晶格薄膜:超晶格的概念始于半导体超晶格,半导体超晶格是将两种或两种以上组分不 同或导电类型不同的极薄半导体单晶薄膜交替地外延生长在一起形成的周期性结构材料。 8.热等静压:热等静压是用惰性气体作为传递压力的介质,将原料粉末压坯或将装入包套的 粉料放入高压容器中,降低烧结温度,避免晶粒长大,获得高密度、高强度的陶瓷材料。 9.原位凝固:原位凝固就是指颗粒在悬浮液中的位置不变,靠颗粒之间的作用力或者悬浮体 内部的一些载体性质的变化,从而使悬浮体的液态转变为固态。 10.巨磁阻薄膜:材料的电阻率将受材料磁化状态的变化而呈现显著的变化。 11.溶胶-凝胶法:是指有机或无机化合物经过溶液、溶胶、凝胶而固化,在经过高温热处理 而制成氧化物或其他化合物固体的方法。 12丄B薄膜:是一种超薄有机薄膜,即在水-气界面上将不溶解有机分子或生物分子加以紧密有序排列,形成单分子膜,然后再转移到固体表面上。 1.试说明再结晶驱动力。 答:用应变退火方法生长单晶,通常是通过塑性变形,然后在适当的条件下加热等温退火,温度变化不能剧烈,结果使晶粒尺寸增大。 对于未应变到应变,根据热力学第一定律,有: △E1-2=W—q;△ H1-2=A 曰-2 + 厶(pV) 由于△( pV)很小,近似得:△ Hi-2=^ E1-2 △G1-2= =W—q—S 低温下S可忽略,故△ G1-2疋W—q 即产生应变时,发生的自由能变化近似等于做功减去释放的热量。该热量通常就是应变退火 再结晶的主要推动力。 应变退火再结晶的推动力公式为:△ G=W—q+Gs+A G) 2.简述Walff定理的基本内容。 答:在恒温恒压下,一定体积的晶体处于平衡态时,其总界面自由能为最小,也就是说,趋

合成与制备

合成与制备1 材料合成:是指使原子、分子结合而构成材料的化学与物理过程。合成的研究既包括有关寻找新合成方法的科学问题,也包括合成材料的技术问题;既包括新材料的合成,也包括已有材料的新合成方法及其新形态(如纤维、薄膜)的合成。 材料制备:研究如何控制原子与分子,使之构成有用的材料,这一点是与合成相同的;但制备还包括在更为宏观的尺度上或以更大的规模控制材料的结构,使之具备所需的性能和使用效能,即包括材料的加工、处理、装配和制造。 简而言之,合成与制备就是将原子、分子聚合起来并最终转变为有用产品的一系列连续过程 中篇:无机材料分析表征 深入了解不同合成制备条件下材料的内部状态,获得材料样品的化学组成、晶体结构、显微结构和相组成等的信息。 分析手段:包括综合热分析、相图测定、元素分析、显微分析、X射线分析、能谱分析等。 材料的性能是指材料对电、磁、光、热、机械载荷等的反应;主要决定于材料的组成与结构。 性能检测用于判断材料宏观性能是否满足预期要求,可以用于制备材料配方设计和制备工艺改进 无机材料典型制备工艺-技术: 1.水热与溶剂热合成 2.溶胶-凝胶合成技术 3.化学气相沉积技术 4.低温固相合成技术 5.高温高压合成与制备技术 典型无机材料制备技术:1.微纳粉体材料制备技术 2.陶瓷材料制备工艺技术3.薄膜材料制备工艺技术4.陶瓷基复合材料制备工艺技术 水热与溶剂热合成:1.水热与溶剂热合成方法的发展 2.水热与溶剂热合成方法原理3.水热与溶剂热合成工艺4.水热与溶剂热合成工艺 溶剂热法优点:1.在有机溶剂中进行的反应能够有效地抑制产物的氧化过程或水中氧的污染;2.非水溶剂的采用使得溶剂热法可选择原料范围大大扩大; 3.由于有机溶剂的低沸点,在同样的条件下,它们可以达到比水热合成更高的气压,从而有利于产物的结晶; 4.由于较低的反应温度,反应物中结构单元可以保留到产物中,且不受破坏, 5.有机溶剂官能团和反应物或产物作用,生成某些新型在催化和储能方面有潜在应用的材料; 水热与溶剂热合成方法的概念:水热法:是指在特制的密闭反应器中,采用水溶液作为反应体系,通过对反应体系加热、加压,创造一个相对高温、高压的反应环境,使得通常难溶或不溶的物质溶解,并且重结晶而进行无机合成与材料处理的一种有效方法。 溶剂热法:将水热法中的水换成有机溶剂或非水溶媒采用类似于水热法的原理,以制备在水溶液中无法长成,易氧化、易水解或对水敏感的材料,如III-V 族半导体化合物、氮化物、硫族化合物、新型磷(砷)酸盐分子筛三维骨架结构等。 水热生长体系中的晶粒形成可分为三种类型:1.“均匀溶液饱和析出”机制2.“溶解-结晶”机制3.“原位结晶”机制4.“均匀溶液饱和析出”机制。 水热与溶剂热合成方法的适用范围:1.制备超细(纳米)粉。2.制备薄膜。

材料制备与合成

《材料制备与合成[料]》课程简介 课程编号:02034916 课程名称:材料制备与合成/Preparation and Synthesis of Materials 学分: 2.5 学时:40 (课内实验(践):0 上机:0 课外实践:0 ) 适用专业:材料科学与工程 建议修读学期:6 开课单位:材料科学与工程学院材料物理与化学系 课程负责人:方道来 先修课程:材料化学基础、物理化学、材料科学基础、金属材料学 考核方式与成绩评定标准:期末开卷考试成绩(占80%)与平时考核成绩(占20%)相结合。 教材与主要参考书目: 教材:《材料合成与制备》. 乔英杰主编.国防工业出版社,2010年. 主要参考书目:1. 《新型功能材料制备工艺》, 李垚主编. 化学工业出版社,2011年. 2. 《新型功能复合材料制备新技术》.童忠良主编. 化学工业出版社,2010年. 3. 《无机合成与制备化学》. 徐如人编著. 高等教育出版社, 2009年. 4. 《材料合成与制备方法》. 曹茂盛主编. 哈尔滨工业大学出版社,2008年. 内容概述: 本课程是材料科学与工程专业本科生最重要的专业选修课之一。其主要内容包括:溶胶-凝胶合成法、水热与溶剂热合成法、化学气相沉积法、定向凝固技术、低热固相合成法、热压烧结技术、自蔓延高温合成法和等离子体烧结技术等。其目的是使学生掌握材料制备与合成的基本原理与方法,熟悉材料制备的新技术、新工艺和新设备,理解材料的合成、结构与性能、材料应用之间的相互关系,为将来研发新材料以及材料制备新工艺奠定坚实的理论基础。 The course of preparation and synthesis of materials is one of the most important specialized elective courses for the undergraduate students majoring in materials science and engineering. It includes the following parts: sol-gel method, hydrothermal/solvothermal reaction method, CVD method, directional solidification technique, low-heating solid-state reaction method, hot-pressing sintering technique, self-propagating high-temperature synthesis, and SPS technique. Its purpose is to enable students to master the basic principles and methods of preparation and synthesis of materials, and grasp the new techniques, new processes and new equipments, and further understand the relationship among the synthesis, structure, properties and the applications of materials. The course can lay a firm theoretical foundation for the research and development of new materials and new processes in the future for students.

材料合成与制备方法(金属篇) 复习总结

材料合成与制备方法(金属篇) 第一章单晶材料的制备 1.单晶体经常表现出电、磁、光、热等方面的优异性能,广泛用于现在工业的诸多领域。 2.固—固生长法即是结晶生长法。其主要优点是,能在较低的温度下生长;生长晶体的形状是预先固定的。缺点是难以控制成核以形成大晶粒。 3.结晶通常是放热过程的证明:对任何过程有△G=△H-T△S,在平衡态时△G=0,即 △H=T△S。这里△H是热焓的变化,△S是熵变,T是绝对温度。由于在晶体生长过程中,产物的有序度要比反应物的有序度要高,所以△S<0,△H<0,故结晶通常是放热过程。 4.应变是自发过程,而退火是非自发过程的证明:对于未应变到应变过程,有△E1-2=W-q,这里W是应变给予材料的功,q是释放的热,且W>q。△H1-2=△E1-2+△(pv),由于△(pv)很小,近似得△H1-2=△E1-2。而△G1-2=△H1-2-T△S=W-q-T△S,在低温下T△S可忽略,故△G1-2=W-q>0。因此使结晶产生应变不是一个自发过程,而退火是自发过程。(在退火过程中提高温度只是为了提高速度) 5.再结晶驱动力:经过=塑性变形后,材料承受了大量的应变,因而储存大量的应变能。在产生应变时,发生的自由能变化近似等于做功减去释放的热量。该热量通常就是应变退火再结晶的主要推动力。应变退火再结晶推动力可以由下式给出:△=W-q+G S+△G0。这里W是产生应变或加工时所做的功,q是作为热而释放的能量,G S是晶粒的表面自由能,△G0是试样中不同晶粒取向之间的自由能差。 6.晶粒长大的过程是:形核—焊接—并吞。其推动力是储存在晶粒间界的过剩自由能的减少,因此晶界间的运动起着缩短晶界的作用,晶界能可以看做晶界之间的一种界面张力,而晶粒的并吞使这种张力减小。 7.若有一个晶粒很细微的强烈的织构包含着几个取向稍微不同的较大的晶体,则有利于二次再结晶。再结晶的驱动力是由应变消除的大小差异和欲生长晶体的取向差异共同提供的。 8.在应变退火中,通常在一系列试样上改变应变量,以便找到退火期间引起一个或多个晶粒生长所必须的最佳应变量或临界应变。一般而言,1%~10%的应变足够满足要求,相应的临界应变控制精度不高于0.25%. 9.均匀形核:形成临界晶核时,液、固相之间的自由能差能供给所需要的表面能的三分之二,另三分之一则需由液体中的能量起伏提供。△G*=1/3A**σ。

材料制备与合成

化学气相沉积 简介: 化学气相沉积(CVD)是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术,包括大范围的绝缘材料,大多数金属材料和金属合金材料。从理论上来说,它是很简单的:两种或两种以上的气态原材料导入到一个反应室内,然后他们相互之间发生化学反应,形成一种新的材料,沉积到晶片表面上。 化学气相沉积的英文词愿意是化学蒸汽沉积(Chemical Vapor Deposition,CVD),因为很多反应物质在通常条件下是液态或固态,需将他们经过汽化成蒸汽后再参与反应。这一名称是在20世纪60年代初期由美国Blocher等人在Vapor Deposition一书中首先提出的。Blocher还由于他对CVD国际学术交流的积极推动被称为“CVD先生(Sir CVD)”在20世纪60年代前后对这一项技术还有另一名称,即蒸气镀(Vapor plating),而Vapor Deposition 一词后来被广泛地接受。根据沉积过程中主要依靠物理过程或化学过程被划分为物理气相沉积(Physical Vapor Deposition,PVD)和化学气相沉积两大类。例如,把真空蒸发、溅射、离子镀等通常归属于PVD;而直接依靠气体反应或依靠等离子体放电增强气体反应的称为CVD或等离子体增强化学沉积(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition,PECVD或PCVD)。实际上,随着科学技术的发展,也出现了不少交叉现象。例如,利用溅射或离子轰击使金属汽化再通过气相反应生成氧化物或氮化物等就是物理过程和化学过程相结合的产物,相应地,就称为反应溅射、反应离子镀或化学离子镀。 化学气相沉积(CVD)技术是一种新型的材料制备方法,它可以用于制各各种粉体材料、块体材料、新晶体材料、陶瓷纤维、半导体及金刚石薄膜等多种类型的材料,广泛应用于宇航工业上的特殊复合材科、原子反应堆材料、刀具材料、耐热耐磨耐腐蚀及生物医用材料等领域.同传统材料制各技术相比,CVD)技术具有以下优点:(1)可以在远低于材科熔点的温度进行材料合成:(2)可以控制合成材料的元素组成、晶体结构、微观形貌(粉末状、纤维状、技状、管状、块状等):(3)不需要烧结助剂,可以高纯度合成高密度材料;(4) 可以实现材料结构微米级、亚微米级甚至纳米级控制:(5) 能够进行复杂形状结构件及图层的制备;(6)能够制备梯度复合材料及梯度涂层和多层涂层:(7)能够进行亚稳态物质及新材料的合成。目前,CVD己成为大规模集成电路的铁电材料、绝缘材料、磁性材料、光电子材料、高温热结构陶瓷基复合材料及纳米粉体材料不可或缺的制备技术。 CVD技术常常通过反应类型或者压力来分类,包括低压CVD(LPCVD),常压CVD(APCVD),亚常压CVD(SACVD),超高真空CVD(UHCVD),等离子体增强CVD(PECVD),高密度等离子体CVD(HDPCVD)以及快热CVD(RTCVD)。然后,还有金属有机物CVD(MOCVD),根据金属源的自特性来保证它的分类,这些金属的典型状态是液态,在导入容器之前必须先将它气化。不过,容易引起混淆的是,有些人会把MOCVD认为是有机金属CVD(OMCVD)。过去,对LPCVD和APCVD最常使用的反应室是一个简单的管式炉结构,即使在今天,管式炉也还被广泛地应用于沉积诸如Si3N4 和二氧化硅之类的基础薄膜(氧气中有硅元素存在将会最终形成为高质量的SiO2,但这会大量消耗硅元素;通过硅烷和氧气反应也可能沉积出SiO2 -两种方法均可以在管式炉中进行)。而且,最近,单片淀积工艺推动并导致产生了新的CVD反应室结构。这些新的结构中绝大多数都使用了等离子体,其中一部分是为了加快反应过程,也有一些系统外加一个按钮,以控制淀积膜的质量。

材料合成与制备

第一章 1单晶体主要特性及应用领域:单晶生长方法的分类? 单晶体经常表现出电、磁、光、热等方面的优异性能(各向异性) 广泛现代工业的诸多领域,如单晶硅,加工业所需的金刚石,精密仪表和钟表工业需要的红宝石做轴承。 生长方法:气相生长,溶液生长,熔体生长,固相生长。 2什么是气液固(VLS)生长法?举例说明其实际应用。 VLS法:从气相析出固相的过程中是通过溶液作为媒介的。生长金刚石晶须 适用:难以从液相或熔体中生长的材料,II~VI族化合物和磷化硅。 3溶液生长的方法分为哪几种?它们依据的基本原理是什么?何谓水热生长法?试阐述α-水晶生长的基本过程、关键设备,优缺点及应用 溶液生长的方法:①降温法②蒸发法③凝胶法④水热生长法 降温法基本原理:利用物质较大的正溶解度温度系数逐渐降低温度,析出的晶体不断在晶体上生长 蒸发法基本原理:将溶剂不断蒸发减少,从而使溶液保持过饱和状态,晶体便不断生长。凝胶法原理:以凝胶作为扩散和支持介质,使一些在溶液中进行的化学反应通过凝胶扩散缓慢进行,使溶解度较小的反应物在凝胶中逐渐形成晶体的方法。 水热生长法:是一种在高温高压条件下的过饱和水溶液中进行结晶的方法。 α-水晶(α-SiO2)生长的基本过程:SiO2(液)1713℃四方1478℃正交870℃六方573℃立方(α-SiO2) 关键设备:特制的高压釜 优点:生长低温固相单晶:高粘度材料,高蒸汽压材料,晶体形状完美,热应力小,宏观缺陷少等。 缺点:需要特定的高压釜和保护措施,需适当大小优质籽晶。生长过程不能观察,生长速率慢时间长 4熔体的生长法有哪些?它们依据的原理,适用范围,优缺点及应用? 熔体生长发:(1)正常凝固法:①晶体提拉法②坩埚移动法③泡生法④弧熔法 (2)逐区熔化法:①水平区熔法②垂直曲熔法③基座法④焰熔法 凝固法基本原理:将晶体物质加热到熔点以上熔化,然后再一点温度梯下进行冷却,用各种方式缓慢移动固液界面,使熔体逐渐凝固成晶体。 凝固法适用范围:现代电子和光电子技术应用中所需的单晶材料,如:硅(Si),砷化镓(GaAs)晶体提拉法的生长过程:原料在坩埚中加热融化:坩埚上有一根可旋转和升降并通水冷却的提拉杆,杆的下端有一个夹头,其上装有一个籽晶,降低提拉杆,使籽晶插入熔体中,只要熔体温度适中,籽晶既不融化也不长大,缓慢向上提拉和转动籽晶杆,同时缓慢降低加热功率,籽晶逐渐长粗,小心调整加热功率就能得到所需直径的晶体。 晶体提拉法优点:生长速率快,晶体纯度高,晶体完整性好等。 晶体提拉法缺点:一般要用坩埚做熔器,导致熔体不同程度上的污染。当熔体中含有易挥发物时,则存在控制组分的困难,适用范围有一定的限制。 晶体提拉法适用:没有破坏性相变,又有较低的蒸汽压或离解压的同成分熔化的化合物或纯元素是熔体生长的理想材料,可获得高质量的单晶体。 坩埚移动法优点:1.可把原料密封在坩埚里,减少会发造成的泄露和污染,使晶体成分易控制2.操作简单,可生长大尺寸的晶体,易实现程序化生长3.可同时多块生长,工作效率高坩埚移动法缺点:1.不适合生长冷却时体积增大的材料。2.晶体生长过程中直接与坩埚接触,在晶体中引入较大的内应力和较多杂质 3.若该法中采用籽晶法,既要保证籽晶在高温区不

材料合成与制备_复习资料(有答案)

第一章溶胶-凝胶法 名词解释 1.胶体(Colloid):胶体是一种分散相粒径很小的分散体系,分散相粒子的质量可以忽略不计,粒子之间的相互作用主要是短程作用力。 2.溶胶:溶胶是具有液体特征的胶体体系,是指微小的固体颗粒悬浮分散在液相中,不停地进行布朗运动的体系。分散粒子是固体或者大分子颗粒,分散粒子的尺寸为1nm-100nm,这些固体颗粒一般由10^3个-10^9个原子组成。 3.凝胶(Gel):凝胶是具有固体特征的胶体体系,被分散的物质形成连续的网络骨架,骨架孔隙中充满液体或气体,凝胶中分散相含量很低,一般为1%-3%。 4.多孔材料:是由形成材料本身基本构架的连续固相和形成孔隙的流体所组成。填空题 1.溶胶通常分为亲液型和憎液型型两类。 2.材料制备方法主要有物理方法和化学方法。 3.化学方法制备材料的优点是可以从分子尺度控制材料的合成。 4.由于界面原子的自由能比内部原子高,因此溶胶是热力学不稳定体系,若无其它条件限制,胶粒倾向于自发凝聚,达到低比表面状态。 5.溶胶稳定机制中增加粒子间能垒通常用的三个基本途径是使胶粒带表面电荷、利用空间位阻效应、利用溶剂化效应。 6.溶胶的凝胶化过程包括脱水凝胶化和碱性凝胶化两类。 7.溶胶-凝胶制备材料工艺的机制大体可分为三种类型传统胶体型、无机聚合物型、络合物型。 8.搅拌器的种类有电力搅拌器和磁力搅拌器。 9.溶胶凝胶法中固化处理分为干燥和热处理。 10.对于金属无机盐的水溶液,前驱体的水解行为还会受到金属离子半径的大小、电负性和配位数等多种因素的影响。 简答题 溶胶-凝胶制备陶瓷粉体材料的优点? 制备工艺简单,无需昂贵的设备;对多元组分体系,溶胶-凝胶法可大大增加其化学均匀性;反应过程易控制,可以调控凝胶的微观结构;材料可掺杂的范围较宽(包括掺杂量及种类),化学计量准确,易于改性;产物纯度高,烧结温度低等。 第二章水热溶剂热法 名词解释 1.水热法:是指在特制的密闭反应器(高压釜)中,采用水溶液作为反应体系,通过将反应体系加热至临界温度(或接近临界温度),在反应体系中产生高压环境而进行无机合成与材料制备的一种有效方法。 2.溶剂热法:将水热法中的水换成有机溶剂或非水溶媒(如有机胺、醇、氨、四氯化碳或苯等),采用类似于水热法的原理,以制备在水溶液中无法长成、易氧化、易水解或对水敏感的材料。 3.超临界流体:是指温度及压力都处于临界温度或临界压力之上的流体。在临界状态下,物质有近于液体的溶解特性以及气体的传递特性。 4.微波水热合成:微波加热是一种内加热,具有加热速度快,加热均匀无温度梯度,无滞后效应等特点。微波对化学反应作用是非常复杂的,但有一个方面是反应物分子吸收

材料合成与制备

第一章绪论 1.材料按化学组成可分为金属材料、无机非金属材料、高分子材料、复合材料四类。 2.材料合成与制备是通过一定的途径,从气态、液态或固态的各种不同原材料中得到化学上及性能上不同于原材料的新材料。 研究内容:一是研究新型材料的合成方法;二是研究已知材料的新合成方法、新合成技术,从而指定节能、经济、环保的合成路线及开发新型结构和功能的材料。 3.材料科学与工程的四个基本要素:合成与加工、组成与结构、性质、使用性能。 第二章无机材料合成实验技术 1.表征真空泵的工作特性的四个参量:起始压强、临界反压强、极限压强、抽气速率 2.平衡分离过程:借助分离媒介(如热能、溶剂或吸附剂)使均相混合物系统变成两相系统,再以混合物中各组分在处于相平衡的两相中不等同的分配为依据而实现分离。 3.速率分离过程:在某种推动力(浓度差、压力差、温度差、电位差等)的作用下,有时在选择性透过膜的配合下,利用各组分扩散速率的差异实现组分的分离。 4.吸附分离过程:利用混合物中各组分与吸附剂表面结合力强弱的不同,即各组分在固体相(吸附剂)和流体相间的吸附分配能力的差异,使混合物中难吸附组分与易吸附组分得以分离。 特点:①多数吸附剂具有良好的选择性,同时,被吸附组分又可在不同的条件下脱附, 方便被吸附组分的分别收集和吸附剂的再生利用; ②吸附剂化学稳定性好,分离所得产物纯度高; ③吸附与解吸速度快,为快速分离和获得小体积淋洗液创造了条件; ④吸附剂价廉易得,实验操作简单; ⑤为了增加表面作用位置,吸附剂通常制成多孔结构和大比表面积。吸附机理: ⑴吸附作用机理复杂,包括静电吸附、氢键作用、离子交换、络合作用等多种物理和化学过 程; ⑵从分子间作用力的观点来看,吸附作用是吸附剂表面的立场与吸附质分子之间相互作用的 结果,主要是物理吸附; ⑶硅胶、Al2O3 表面含有大量羟基及O 原子,能与许多物质形成氢键。氢键和电荷转移相 互作用均产生较强的吸附能; ⑷极性吸附剂与极性分子之间的吸附力较强,选择性也较高。 5.膜分离法:用天然或人工合成的高分子薄膜,以外界能量或化学位差为推动力,对双组分或多组分的溶质和溶剂进行分离,分级,提纯和富集的方法。 透析—超滤分离技术: 原理:透析是采用半透膜作为滤膜,使试样中的小分子经扩散作用不断透出膜外,而大分子不能透过被保留,直到膜两边达到平衡。 特点:半透膜两边均为液体,一边为试样溶液,另一边为纯净溶剂,可不断更换外层溶剂使扩散不断进行,直至符合要求。 第三章扩散、固相反应与烧结 1.扩散:由于物质中存在浓度梯度、化学位梯度、温度梯度和其他梯度所引起的物质运输过程。气体、液体:很大的速率和完全的各向同性;固体:各向异性和扩散速率低。 2.影响扩散的因素:温度、杂质、气氛、粘度、扩散介质。 3.固相反应的定义:狭义:固相反应物之间发生化学反应生成新的固相产物的过程。广义:凡是有固相参与的化学反应都可称为固相反应。 特点:①多数固相反应是发生在两种或两种以上组分界面上的非均相反应;

第三章纳米材料的制备方法

第三章纳米材料的制备方法 纳米材料的制备方法可以分为物理方法、化学方法和生物方法三类。物理方法包括机械法、气相法和溶液法等;化学方法包括沉淀法、溶胶-凝胶法、化学气相沉积法等;而生物方法主要是利用生物体或生物分子在生物环境下合成纳米材料。 机械法是指通过力的作用将宏观材料制备成纳米尺寸的材料,常见的方法有高能球磨法和挤压法。高能球磨法是通过高能球磨机将粗颗粒材料和球磨介质一起置于球磨罐中进行强烈碰撞实现的。挤压法则是将粗颗粒材料置于特定的装置中,通过外力作用使材料变形而制备纳米材料。 气相法是通过气相反应将气态物质制备成纳米材料,常见的方法有气相沉积法和气溶胶法两种。气相沉积法是将气态前体输送到反应器中,在特定温度和压力条件下发生化学反应,生成纳米颗粒。气溶胶法则是将气态前体生产成准稳态悬浮液,再经过控制条件使气溶胶中的颗粒在特定条件下成长。 溶液法是通过将溶液中溶解的化合物沉淀出来形成纳米颗粒的方法,常见的方法有沉淀法和溶胶-凝胶法。沉淀法是将两种反应物溶解在溶液中,然后通过添加沉淀剂使沉淀物形成纳米颗粒。溶胶-凝胶法则是将溶胶转变成凝胶,在适当条件下控制凝胶的形成和热处理过程,最终制备成纳米材料。 化学气相沉积法是通过在可控的气相条件下,将气态前体沉积在衬底上生成纳米颗粒的方法,主要应用于金属和半导体纳米材料的制备。该方法需要控制反应气体的成分和温度,以及反应时间和衬底的性质。

生物方法是指利用生物体或生物分子在生物环境下合成纳米材料,包 括微生物法和生物模板法两种。微生物法是利用微生物在代谢过程中产生 的酶或其他生物分子对金属离子进行还原或沉淀,形成金属纳米材料。生 物模板法则是利用生物体的分子结构作为模板,在其表面沉积纳米材料, 通过控制反应条件可以得到不同形状和尺寸的纳米材料。 总结而言,纳米材料的制备方法多种多样,从物理方法到化学方法再 到生物方法,每种方法都有其独特的优势和适用范围。在制备纳米材料时,需要考虑材料性质、制备条件以及后续应用等因素,以选择最适合的制备 方法。随着纳米科技的发展,对纳米材料制备方法的研究也将不断深入, 为纳米材料的应用提供更多的可能性。

材料制备与合成

1.材料科学与工程的科学方面偏重于研究材料的合成与制备,组成与结构,性能及其使用效能各组元本身及其相互间关系的规律。工程方面则则着重于研究如何利用这些规律性的研究成果以新的或更有效的方式开发及生产出材料,提高材料的使用效能,以满足社会的需要。 2复合材料是由两种或两种以上化学性质或组织结构不同的材料组合而成 特点 1)复合材料是由两种或两种以上不同性能的材料组元通过宏观或微观复合形成的一种新型材料,组元之间存在着明显的界面; 2)复合材料中各组元不但保持各自的固有特性,而且可最大限度发挥各种材料组元的特性,并赋予单一材料组元所不具备的优良特殊性能; 3)复合材料具有可设计性。可以根据使用条件要求进行设计和制造,以满足各种特殊用途,从而极大地提高工程结构的效能。 复合原则 A. 优势(优良特性)互补原则 B. 求异相容原则 C. 性能(用途)先定原则 D. 制备可能性、成本可行性原则 4 组成-结构-性质-工艺过程之间的关系 材料科学与工程的四个基本要素:合成与加工、组成与结构、性能、使用效能。 探索这四个要素之间的关,覆盖从基础学科到工程的全部内容。四个要素之间的密切关系确定了材料科学与工程这一领域,确定了材料科学基础课程的教学线索。 5材料制备和材料合成的区别 合成主要指促使原子、分子结合而构成材料的化学与物理过程。合成的研究既包括有关寻找新合成方法的科学问题,也包括以适用的数量和形态合成材料的技术问题;既包括新材料的合成,也应包括已有材料的新合成方法(如溶胶—凝胶法)及其新形态(如纤维、薄膜)的合成。 制备也研究如何控制原子与分子使之构成有用的材料,这一点是与合成相同的,但制备还包括在更为宏观的尺度上或以更大的规模控制材料的结构,使之具备所需的性能和使用效能,即包括材料的加工、处理、装配和制造。简而言之合成与制备就是将原于、分子聚合起来并最终转变为有用产品的一系列连续过程 6.电热体 NI-CR FE-CR-AL此种发热体不能再还原气氛中使用,此外还应该尽量避免与碳,硫酸盐,水玻璃,石棉,以及有色金属及其氧化物接触,发热体不应急剧升降温,因他会使致密的氧化膜产生裂纹,以致脱落。 8。SiC电热体在使用过程中,电阻率缓慢增大的现象叫“老化“是电热体氧化的结果。SiC 发热体有效寿命结束在其常温下电阻值为初始值两倍的时候’ 9 用于测量物体温度的物体的物理性质,要连续单值重复性以便于精确测量 10 温度测量方法 有接触式和非接触式两种 a 接触式测温就是测温元件要与被测物体有良好的热接触,使两者处于相同的温度,由测温元件感知被测物体温度的方法。 b非接触式与接触式相反,测温元件不与被测物体接触,而是利用物体的热辐射或电磁性质来测定物体的温度. 接触式温度计有1膨胀式温度计2电阻式温度计3热电式温度计 非接触式温度计可分为:1辐射温度计2亮度温度计3比色温度计 由于它们都是以光辐射为基础,故也统称为辐射温度计。 11获得低温的方法通常获得低温的途径有相变制冷、热电制冷、等焓与等熵绝热膨胀等。 12 高压合成 高压是一种典型的极端物理条件,能够有效地改变物质的原子间距和原子壳层态,因而作为一种原子间距调制、信息探针和其他特殊应用的手段,几乎渗透到绝大多数的前沿课题的研究中.高压合成,就是利用外加的高压力,使物质产生多型相变或发生不同物质间的化合,而得到新相、新化合物或新材料。得到新现象,新规律,新物质,新性能,新材料。 12.真空的获得,4个表征,起始压强,临界反压强,极限压强,抽气速率。 12 超高真空系统和一般真空系统的明显差别是清洁度。 静态实验 线1表示系统已达到泵的极限真空度,不漏气,没放气源,系统压力不变,是个好系统 线2没有达到泵的极限真空度,静态下压力不变,同上。没达到预期的真空度,是真空泵线3未能达到极限真空度,且在静态下压力增加,但到达一定值就不再增加了,说明系统不漏气,但系统存在放气源,不清洁,表明系统漏气,当漏气率与泵的抽速达到平衡时,真空度再也不能提高了,故达不到泵的极限真空度。 13 分离(separation)的概念 •分离是一种假设状态,在这种状态下,不同的物质被分开了(isolation)。 •含有m种化学组分的混合物被分成m个常量范围。 •把m种化学组分分成m种纯的形式,并把它们置于m个独立的容器中。 •利用混合物中各组分在物理或化学性质上的差异,通过适当的装置或方法,使各组分分配至不同的空间区域或者在不同的时间依次分配至同一空间区域的程。

材料合成与制备思考题1

第一章思考题 影响分子与固体表面相互吸附的因素有那些? 在合成反应中常需要搅拌,为什么? 边界层是怎么形成的? 界面的稳定性对晶体的生长有何意义? 完整光滑面、非完整光滑面、粗糙面及扩散面的生长各有何特点?影响因素有哪些? 第二章思考题 试比较溶液法、水热法、高温溶液法晶体生长的特点 人工晶体主要有哪些生长方法?各方法有何特点? 人工晶体有哪些主要性质和用途? 晶体的压电与铁电性质机-电换能器具有正压电效应的晶体具有将机械作用转变成电信号的能力,因此提供了对机械振动、压力、声波、旋转和扭曲的精确计算,在机电转换元件中有广泛的应用具有逆压电效应的晶体可将电信号转变成机械作用可应用于:扬声器和超声发生器 晶体中光波的双折射(Birefringence)和旋光性,广泛应用于各种光学元件中,如光棱镜、光偏振器、旋光器等 外场作用下的晶体光学性质:电光、声光、磁光效应 晶体的非线性光学性质,可制备各种非线性光学元件。 晶体的激光性质,应用于激光器的制备中。目前较成熟的有:红宝石激光器、色心激光器晶体的热释电性质,主要应用于热或红外线辐射探测器等 第三章思考题 粉体的合成方法主要有那些?各有何特点? 湿化学合成法:通过液体介质合成; 水热法:在水溶液体系中于一定温度条件下进行 沉淀法:利用某些电荷相反的离子在溶液中发生反应生成不溶于水的晶质的性质而进行合成的方法。粉体颗粒的粒径取决于核形成和成长的速率,沉淀物的溶解度越小,沉淀物的粒径也越小;而溶液的过饱和度越小,则沉淀物的粒径越大 水解法:利用某些化合物可水解生成沉淀的性质来合成超细粉体的。体系仅由金属盐和水组成,只要利用高纯度的金属盐,就可以合成出高纯度的超细粉体。 喷雾干燥法:将原料制成溶液或泥浆,然后用喷嘴喷成雾状,使原料微细化。这种雾状微粒在干燥器中干燥,并用旋风吸尘器收集,而后进行高温(800~1000℃)焙烧,可制成粒度<1 m的粉体。很容易制成亚微米级的微粉。超微粉体不仅粒径小,而且组成极均匀。 喷雾水解法 喷雾焙烧法

新能源材料合成与制备智慧树知到答案章节测试2023年山东科技大学

第一章测试 1.近几年,我国新材料产业发展较快的几个领域,包括()。 A:先进基础材料 B:前沿新材料三大领域。 C:关键战略材料 答案:ABC 2.一种新能源材料的诞生、性能改进又与材料的合成与制备技术密不可分。 () A:对 B:错 答案:A 第二章测试 1.下列属于新型的干燥方法的是()。 A:红外干燥 B:冷冻干燥 C:电热鼓风干燥 D:微波干燥 答案:ABD 2.根据材料的结构,下列更容易发生低温固相反应的材料是()。 A:三维延伸固体 B:二维延伸固体 C:分子固体 D:一维延伸固体 答案:BCD 3.外力作用可以降低固体物质的熔化温度,也就是在外力作用下可以使物质在 低于其熔点的温度下熔化。() A:错 B:对 答案:B 4.固体的层状结构只有在固体存在时才拥有,一旦固体溶解在溶剂中,层状结 构不复存在,因而溶液化学中不存在嵌入反应。() A:对 B:错 答案:A 5.材料烧结过程中,不管坯体中存在不存在多晶转变都需要持续供热。() A:错 B:对 答案:A

第三章测试 1.金属离子的电子构型会影响到水解反应的过程,非8e构型的金属离子容易 发生水解反应,比较容易采用水解反应,制备相应的氧化物粉体材料。下列元素周期表中的元素离子易于发生水解的是()。 A:d区 B:p区 C:f区 D:ds区 答案:ABCD 2.采用镁离子和铝离子的共沉淀反应制备镁铝尖晶石的过程中,可以采用 NaOH作为沉淀剂,最终都能合成镁铝尖晶石。() A:对 B:错 答案:B 3.在溶胶凝胶反应过程中,水的多少不会改变反应过程,因此,添加量多少对 反应产物没有任何影响。() A:错 B:对 答案:A 4.气凝胶材料由于具有大的比表面积、疏松多孔性能,使实现下列那几个方面 应用()。 A:催化 B:保温隔热 C:结构材料 D:吸附 答案:ABD 5.水热反应制备材料过程中前驱体与最终产物在水热溶液中不需要有一定的溶 解度差,就可以实现材料的合成。() A:对 B:错 答案:B 第四章测试 1.以下哪个化学气相沉积合成方法要求双温区()。 A:热分解反应 B:氧化还原反应 C:化学输运反应 D:化学合成反应 答案:C

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